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Qual è la differenza tra applicazioni di carburo di silicio (SIC) e nitruro di gallio (GAN)? - VETEK Semiconductor10 2024-10

Qual è la differenza tra applicazioni di carburo di silicio (SIC) e nitruro di gallio (GAN)? - VETEK Semiconductor

SiC e GaN sono semiconduttori ad ampio gap di banda con vantaggi rispetto al silicio, come tensioni di rottura più elevate, velocità di commutazione più elevate ed efficienza superiore. Il SiC è migliore per le applicazioni ad alta tensione e potenza grazie alla sua maggiore conduttività termica, mentre il GaN eccelle nelle applicazioni ad alta frequenza grazie alla sua mobilità elettronica superiore.
Principi e tecnologia del rivestimento PVD (Physical Vapor Deposition) (2/2) - VeTek Semiconductor24 2024-09

Principi e tecnologia del rivestimento PVD (Physical Vapor Deposition) (2/2) - VeTek Semiconductor

L'evaporazione con fascio di elettroni è un metodo di rivestimento altamente efficiente e ampiamente utilizzato rispetto al riscaldamento a resistenza, che riscalda il materiale di evaporazione con un fascio di elettroni, facendolo vaporizzare e condensare in una pellicola sottile.
Principi e tecnologia del rivestimento di deposizione di vapore fisico (1/2) - VETEK Semiconductor24 2024-09

Principi e tecnologia del rivestimento di deposizione di vapore fisico (1/2) - VETEK Semiconductor

Il rivestimento a vuoto comprende la vaporizzazione del materiale del film, il trasporto del vuoto e la crescita del film sottile. Secondo i diversi metodi di vaporizzazione del materiale del film e i processi di trasporto, il rivestimento del vuoto può essere diviso in due categorie: PVD e CVD.
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