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SIC Single Crystal Growth Process Rampping Parti

Prodotto di Veteksemicon, ilrivestimento in carburo di tantalum (TAC)Prodotti per il processo di crescita dei cristalli singolo SIC, affronta le sfide associate all'interfaccia di crescita dei cristalli di carburo di silicio (SIC), in particolare i difetti completi che si verificano sul bordo del cristallo. Applicando il rivestimento TAC, miriamo a migliorare la qualità della crescita dei cristalli e ad aumentare l'area effettiva del Crystal's Center, che è cruciale per raggiungere una crescita rapida e spessa.


Il rivestimento TAC è una soluzione tecnologica fondamentale per la crescita di alta qualitàSic Processo di crescita a cristallo singolo. Abbiamo sviluppato con successo una tecnologia di rivestimento TAC utilizzando la deposizione di vapore chimico (CVD), che ha raggiunto un livello a livello internazionale. TAC ha proprietà eccezionali, tra cui un elevato punto di fusione fino a 3880 ° C, eccellente resistenza meccanica, durezza e resistenza agli shock termici. Presenta anche una buona inerzia chimica e stabilità termica se esposti ad alte temperature e sostanze come ammoniaca, idrogeno e vapore contenente silicio.


Vekekemicon'srivestimento in carburo di tantalum (TAC)Offre una soluzione per affrontare i problemi relativi ai bordi nel processo di crescita dei cristalli singoli SIC, migliorando la qualità e l'efficienza del processo di crescita. Con la nostra tecnologia di rivestimento TAC avanzata, miriamo a supportare lo sviluppo del settore dei semiconduttori di terza generazione e ridurre la dipendenza dai materiali chiave importati.


Metodo PVT SIC Peti di ricambio Processo di crescita a cristallo singolo:

PVT method SiC Single crystal growth process



Crogiolo rivestito TAC, supporto per semi con rivestimento TAC, anello di rivestimento del rivestimento TAC sono parti importanti nel forno SIC e AIN a cristallo singolo con metodo PVT.

Funzione chiave:

● Resistenza ad alta temperatura

●  Alta purezza, non inquinerà materie prime SIC e singoli cristalli SIC.

●  Resistente a al vapore e N₂ Corrosione

●  Elevata temperatura eutettica (con ALN) per abbreviare il ciclo di preparazione del cristallo.

●  Riciclabile (fino a 200 ore), migliora la sostenibilità e l'efficienza della preparazione di tali singoli cristalli.


Caratteristiche di rivestimento TAC

Tantalum Carbide Coating Characteristics


Proprietà fisiche tipiche del rivestimento TAC

Proprietà fisiche del rivestimento TAC
Densità 14.3 (g/cm³)
Emissività specifica 0.3
Coefficiente di espansione termica 6.3 10-6/K
Durezza (HK) 2000 HK
Resistenza 1 × 10-5Ohm*cm
Stabilità termica <2500 ℃
La dimensione della grafite cambia -10 ~ -20um
Spessore del rivestimento ≥20um Valore tipico (35um ± 10um)


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Anello rivestito TAC per la crescita del PVT del singolo cristallo SIC

Anello rivestito TAC per la crescita del PVT del singolo cristallo SIC

Come uno dei principali fornitori di prodotti per rivestimento TAC in Cina, Vetek Semiconductor è in grado di fornire ai clienti parti personalizzate con rivestimento TAC di alta qualità. L'anello rivestito TAC per la crescita del PVT del cristallo singolo SIC è uno dei prodotti più eccezionali e maturi di Vetek Semiconductor. Ha un ruolo importante nella crescita del PVT del processo di cristallo SIC e può aiutare i clienti a far crescere cristalli SIC di alta qualità. In attesa della tua richiesta.
Anello di rivestimento in carburo di tantalum

Anello di rivestimento in carburo di tantalum

L'anello di rivestimento in carburo di semiconduttore di Vetek Tantalum è un componente indispensabile nel settore dei semiconduttori, in particolare nell'incisione dei wafer SIC. La sua combinazione di base di grafite e rivestimento TAC garantisce prestazioni superiori in ambienti ad alta temperatura e chimicamente aggressivi. Con la sua stabilità termica migliorata, resistenza alla corrosione e resistenza meccanica, l'anello rivestito in carburo di Tantalum aiuta i produttori di semiconduttori a raggiungere precisione, affidabilità e risultati di alta qualità nei loro processi di produzione.
Anello di rivestimento TaC

Anello di rivestimento TaC

L'anello di rivestimento TAC è un componente ad alte prestazioni progettato per l'uso nei processi a semiconduttore, l'anello di rivestimento TAC a semiconduttore VETEK ha un'elevata stabilità termica, resistenza alla corrosione chimica e eccellente resistenza meccanica dove un controllo preciso e una durata sono essenziali per raggiungere wafer di alta qualità. Non vediamo l'ora della tua ulteriore consultazione.
TAC rivestimento crogiolo

TAC rivestimento crogiolo

Come fornitore di crogioli e produttore di crogioli di rivestimento professionale in Cina, il crogiolo TAC di Vetek Semiconductor TAC svolge un ruolo insostituibile nel processo di crescita dei cristalli singoli dei semiconduttori con la sua eccellente conducibilità termica, l'eccezionale stabilità chimica e una maggiore resistenza alla corrosione. Benvenuti le tue ulteriori richieste.
Anello di guida rivestita in carburo di tantalum

Anello di guida rivestita in carburo di tantalum

Come fornitore e produttore di anelli di rivestimento TAC leader in Cina, l'anello di guida rivestita in carburo di vetek Tantalum è un componente importante utilizzato per guidare e ottimizzare il flusso di gas reattivi nel metodo PVT (trasporto fisico vapore). Promuove la deposizione uniforme dei singoli cristalli SIC nella zona di crescita regolando la distribuzione e la velocità del flusso di gas. Vetek Semiconductor è un produttore leader e fornitore di anelli di guida per rivestimento TAC in Cina e persino nel mondo e non vediamo l'ora di consultare.
Anello rivestito TAC

Anello rivestito TAC

Come produttore leader e fornitore di prodotti ad anello rivestito TAC in Cina, Vetek Semiconductor si è concentrato sulla R&S e sulla produzione di vari prodotti di rivestimento TAC. Come principali clienti dei prodotti di rivestimento TAC, i produttori europei e americani hanno dato elogi ai nostri prodotti di rivestimento. Benvenuti nella tua ulteriore consultazione.
Come produttore e fornitore professionista SIC Single Crystal Growth Process Rampping Parti in Cina, abbiamo la nostra fabbrica. Sia che tu abbia bisogno di servizi personalizzati per soddisfare le esigenze specifiche della propria regione o desideri acquistare avanzati e durevoli SIC Single Crystal Growth Process Rampping Parti realizzati in Cina, puoi lasciarci un messaggio.
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