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I produttori di substrato SIC usano comunemente un design crogiolo con un cilindro di grafite poroso per il processo di campo a caldo. Questo design aumenta l'area di evaporazione e il volume di carica. È stato sviluppato un nuovo processo per affrontare i difetti di cristallo, stabilizzare il trasferimento di massa e migliorare la qualità dei cristalli SIC. Incorpora un metodo di fissazione del vassoio di cristallo senza semi per l'espansione termica e il sollievo da stress. Tuttavia, l'offerta di mercato limitata di grafite crogiolo e grafite porosa pone sfide alla qualità e alla resa dei singoli cristalli SIC.
1. Tolleranza all'ambiente di alta temperatura: il prodotto può resistere all'ambiente di 2500 gradi Celsius, dimostrando un'eccellente resistenza al calore.
2. Controllo della porosità strillo - Il semiconduttore Vetek mantiene un controllo a puntura stretta, garantendo prestazioni coerenti.
3. Ultra -High Purity - Il materiale di grafite poroso utilizzato raggiunge un alto livello di purezza attraverso rigorosi processi di purificazione.
4. Eccellente Capacità di legame delle particelle di superficie - Il semiconduttore Vetek ha un'eccellente capacità di legame delle particelle di superficie e resistenza all'adesione della polvere.
5. Trasporto, diffusione e uniformità dei GAS - La struttura porosa della grafite facilita il trasporto e la diffusione del gas efficienti, con conseguente miglioramento dell'uniformità di gas e particelle.
6. Controllo e stabilità della qualità - Vetek Semiconductor enfatizza l'elevata purezza, il basso contenuto di impurità e la stabilità chimica per garantire la qualità della crescita dei cristalli.
7. Controllo e uniformità della temperatura - La conduttività termica della grafite porosa consente la distribuzione uniforme della temperatura, riducendo lo stress e i difetti durante la crescita.
8. Diffusione del soluto potenziata e tasso di crescita: la struttura porosa promuove anche la distribuzione del soluto, migliorando il tasso di crescita e l'uniformità dei cristalli.
Veteksemicon porous graphite materials are your ideal procurement choice for precision thermal processing and vacuum applications. With high porosity, uniform pore distribution, and excellent chemical resistance, Veteksemicon's porous graphite is engineered to meet the strict demands of advanced semiconductor manufacturing, filtration systems, and fuel cell components. These materials enable efficient gas diffusion, fluid flow control, and thermal management, making them indispensable in processes like vacuum chucks, electrochemical applications, and battery electrodes.
Each porous graphite block or plate is manufactured using advanced graphite molding and sintering techniques, ensuring optimal performance in high-temperature and corrosive environments. Due to its open-cell microstructure and customizable pore size, our porous graphite offers superior permeability and thermal conductivity while maintaining dimensional stability under extreme conditions.
This category also covers related entities such as graphite vacuum plates, porous graphite discs, frequently used in semiconductor wafer handling and energy systems.
Discover more product details on Veteksemicon's Porous Graphite product page or contact us for technical specifications and custom solutions.
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