Chi siamo

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WuYi TianYao materiale avanzato Tech.Co.,Ltd.
WuYi TianYao Advanced Material Tech.Co., Ltd, fondata nel 2016, è un fornitore leader di materiali di rivestimento avanzati per l'industria dei semiconduttori. Il nostro fondatore, un ex esperto dell'Istituto dei materiali dell'Accademia cinese delle scienze, ha fondato l'azienda con l'obiettivo di sviluppare soluzioni all'avanguardia per il settore.

Le nostre principali offerte di prodotti includonoRivestimenti CVD in carburo di silicio (SiC)., rivestimenti in carburo di tantalio (TaC)., SiC sfuso, polveri di SiC e materiali SiC di elevata purezza. I prodotti principali sono suscettore in grafite rivestito in SiC, anelli di preriscaldamento, anello di deviazione rivestito in TaC, parti a mezzaluna, ecc., la purezza è inferiore a 5 ppm e possono soddisfare le esigenze del cliente.
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Vetek è il professionista del rivestimento in carburo di silicio, rivestimento in carburo di Tantalum, produttore di grafite speciale e fornitore in Cina. Puoi essere certo di acquistare i prodotti dalla nostra fabbrica e ti offriremo il servizio post-vendita di qualità.

Notizia

  • Cos'è una barca di grafite PECVD?
    2025-03-04
    Cos'è una barca di grafite PECVD?

    Il materiale principale della barca di grafite PECVD è il materiale di grafite isotropico di alta purezza (la purezza è generalmente ≥99,999%), che ha un'eccellente conducibilità elettrica, conducibilità termica e densità. Rispetto alle normali barche di grafite, le barche di grafite PECVD hanno molti vantaggi di proprietà fisica e chimica e sono utilizzate principalmente nelle industrie semiconduttori e fotovoltaiche, specialmente nei processi PECVD e CVD.

  • In che modo la grafite porosa migliora la crescita del cristallo in carburo di silicio?
    2025-01-09
    In che modo la grafite porosa migliora la crescita del cristallo in carburo di silicio?

    Questo blog prende "come la grafite porosa migliora la crescita del cristallo in carburo di silicio?" Come tema e discute in dettaglio takeaway a chiave di grafite porosa, il ruolo del carburo di silicio nella tecnologia dei semiconduttori, le proprietà uniche della grafite porosa, il modo in cui la grafite porosa ottimizza il processo PVT, le innovazioni nei materiali di grafite porosi e altri angoli.

  • Innovazione tecnologica CVD dietro il premio Nobel
    2025-01-02
    Innovazione tecnologica CVD dietro il premio Nobel

    Questo blog discute le applicazioni specifiche dell'intelligenza artificiale nel campo del CVD da due aspetti: il significato e le sfide della tecnologia di deposizione di vapore chimica (CVD) nella fisica e nella tecnologia CVD e nell'apprendimento automatico.

  • Cos'è il suscettore di grafite con rivestimento SIC?
    2024-12-27
    Cos'è il suscettore di grafite con rivestimento SIC?

    Questo blog prende "Cos'è il suscettore di grafite con rivestimento SIC?" Come tema e ne discute dalle prospettive dello strato epitassiale e delle sue attrezzature, importanza del suscettore di grafite con rivestimento SIC nelle attrezzature CVD, tecnologia di rivestimento SIC, concorrenza sul mercato e innovazione tecnologica di Vetek Semiconductor.

  • Come preparare il rivestimento CVD TAC? - Veteksemicon
    2024-08-23
    Come preparare il rivestimento CVD TAC? - Veteksemicon

    Questo articolo introduce le caratteristiche del prodotto del rivestimento TAC CVD, il processo di preparazione del rivestimento TAC CVD usando il metodo CVD e il metodo di base per il rilevamento della morfologia superficiale del rivestimento TAC CVD preparato.

  • Cos'è il rivestimento TAC in carburo di Tantalum? - Veteksemicon
    2024-08-22
    Cos'è il rivestimento TAC in carburo di Tantalum? - Veteksemicon

    Questo articolo introduce le caratteristiche del prodotto del rivestimento TAC, il processo specifico per la preparazione dei prodotti di rivestimento TAC utilizzando la tecnologia CVD, introduce il rivestimento TAC più popolare di Veteksemicon e analizza brevemente le ragioni per la scelta di Veteksemicon.

  • Cos'è il rivestimento TAC? - VETEK Semiconductor
    2024-08-15
    Cos'è il rivestimento TAC? - VETEK Semiconductor

    Questo articolo introduce principalmente i tipi di prodotto, le caratteristiche del prodotto e le principali funzioni del rivestimento TAC nell'elaborazione dei semiconduttori e effettua un'analisi e un'interpretazione complete dei prodotti di rivestimento TAC nel suo insieme.

  • L'evoluzione del CVD-SiC dai rivestimenti a film sottile ai materiali sfusi
    2026-04-10
    L'evoluzione del CVD-SiC dai rivestimenti a film sottile ai materiali sfusi

    I materiali di elevata purezza sono essenziali per la produzione di semiconduttori. Questi processi coinvolgono calore estremo e sostanze chimiche corrosive. CVD-SiC (Chemical Vapor Deposition Silicon Carbide) fornisce la stabilità e la resistenza necessarie. Ora è una scelta primaria per le parti di apparecchiature avanzate grazie alla sua elevata purezza e densità.

  • Il collo di bottiglia invisibile nella crescita del SiC: perché la materia prima SiC CVD sfuso 7N sta sostituendo la polvere tradizionale
    2026-04-07
    Il collo di bottiglia invisibile nella crescita del SiC: perché la materia prima SiC CVD sfuso 7N sta sostituendo la polvere tradizionale

    Nel mondo dei semiconduttori al carburo di silicio (SiC), la maggior parte dei riflettori sono puntati sui reattori epitassiali da 8 pollici o sulle complessità della lucidatura dei wafer. Tuttavia, se risaliamo all’inizio della catena di approvvigionamento, all’interno della fornace per il trasporto fisico del vapore (PVT), una fondamentale “rivoluzione materiale” si sta silenziosamente svolgendo.

  • Wafer piezoelettrici PZT: soluzioni ad alte prestazioni per MEMS di nuova generazione
    2026-03-20
    Wafer piezoelettrici PZT: soluzioni ad alte prestazioni per MEMS di nuova generazione

    Nell'era della rapida evoluzione dei MEMS (sistemi micro-elettromeccanici), la scelta del giusto materiale piezoelettrico è una decisione decisiva per le prestazioni del dispositivo. I wafer a film sottile PZT (zirconato di piombo) sono emersi come la scelta principale rispetto ad alternative come AlN (nitruro di alluminio), offrendo un accoppiamento elettromeccanico superiore per sensori e attuatori all'avanguardia.

  • Suscettori ad elevata purezza: la chiave per la resa personalizzata dei wafer semiconduttori nel 2026
    2026-03-14
    Suscettori ad elevata purezza: la chiave per la resa personalizzata dei wafer semiconduttori nel 2026

    Poiché la produzione di semiconduttori continua ad evolversi verso nodi di processo avanzati, maggiore integrazione e architetture complesse, i fattori decisivi per la resa dei wafer stanno subendo un sottile cambiamento. Per la produzione personalizzata di wafer semiconduttori, il punto di svolta in termini di rendimento non risiede più esclusivamente nei processi chiave come la litografia o l’incisione; i suscettori ad elevata purezza stanno diventando sempre più la variabile sottostante che influisce sulla stabilità e sulla coerenza del processo.

  • Rivestimento SiC vs. TaC: lo scudo definitivo per suscettori di grafite nella lavorazione dei semi di potenza ad alta temperatura
    2026-03-05
    Rivestimento SiC vs. TaC: lo scudo definitivo per suscettori di grafite nella lavorazione dei semi di potenza ad alta temperatura

    Nel mondo dei semiconduttori a banda larga (WBG), se il processo di produzione avanzato è l'"anima", il suscettore di grafite è la "spina dorsale" e il suo rivestimento superficiale è la "pelle" critica.

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