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Wangda Road, Ziyang Street, Wuyi County, Jinhua City, Provincia di Zhejiang, Cina
VeTek Semiconductor è il vostro partner innovativo nel campo della lavorazione dei semiconduttori. Con il nostro ampio portafoglio di combinazioni di materiali ceramici al carburo di silicio di grado semiconduttore, capacità di produzione di componenti e servizi di ingegneria applicativa, possiamo aiutarvi a superare sfide significative. Le ceramiche tecniche di ingegneria del carburo di silicio sono ampiamente applicate nell'industria dei semiconduttori grazie alle loro eccezionali prestazioni dei materiali. Le ceramiche ultra pure di carburo di silicio di VeTek Semiconductor vengono spesso utilizzate durante l'intero ciclo di produzione e lavorazione dei semiconduttori.
VeTek Semiconductor fornisce componenti ceramici ingegnerizzati specificatamente progettati per la diffusione batch e i requisiti LPCVD, tra cui:
• Deflettori e supporti
• Iniettori
• Liner e tubi di processo
• Pale a sbalzo in carburo di silicio
• Navicelle e piedistalli per wafer
Pagaia a sbalzo SiC
Tubi di processo SiC
Tubo di processo in carburo di silicio
Barca per wafer verticale SiC
Barca per wafer orizzontale SiC
Barca con wafer quadrato SiC orizzontale
Barca per wafer SiC LPCVD
Barca a piastra orizzontale in SiC
Anello di tenuta in ceramica SiC
Riduci al minimo la contaminazione e la manutenzione non programmata con componenti ad elevata purezza progettati per i rigori del processo di incisione al plasma, tra cui:
Anelli di messa a fuoco
Ugelli
Scudi
Soffioni
Finestre/coperchi
Altri componenti personalizzati
VeTek Semiconductor fornisce componenti di materiali avanzati su misura per applicazioni di trattamento termico ad alta temperatura nel settore dei semiconduttori. Queste applicazioni comprendono RTP, processi Epi, diffusione, ossidazione e ricottura. Le nostre ceramiche tecniche sono progettate per resistere agli shock termici, offrendo prestazioni affidabili e costanti. Con i componenti di VeTek Semiconductor, i produttori di semiconduttori possono ottenere un trattamento termico efficiente e di alta qualità, contribuendo al successo complessivo della produzione di semiconduttori.
• Diffusori
• Isolanti
• Suscettori
• Altri componenti termici personalizzati
Proprietà fisiche del carburo di silicio ricristallizzato | |
Proprietà | Valore tipico |
Temperatura di lavoro (°C) | 1600°C (con ossigeno), 1700°C (ambiente riducente) |
Contenuto SiC/SiC | > 99,96% |
Si / Contenuto Si gratuito | <0,1% |
Densità apparente | 2,60-2,70 g/cm3 |
Porosità apparente | < 16% |
Resistenza alla compressione | > 600MPa |
Resistenza alla flessione a freddo | 80-90MPa (20°C) |
Resistenza alla flessione a caldo | 90-100MPa (1400°C) |
Dilatazione termica @1500°C | 4.70 10-6/°C |
Conducibilità termica @1200°C | 23 W/m•K |
Modulo elastico | 240 GPa |
Resistenza agli shock termici | Estremamente buono |
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