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Ceramica al carburo di silicio

VeTek Semiconductor è il vostro partner innovativo nel campo della lavorazione dei semiconduttori. Con il nostro ampio portafoglio di combinazioni di materiali ceramici al carburo di silicio di grado semiconduttore, capacità di produzione di componenti e servizi di ingegneria applicativa, possiamo aiutarvi a superare sfide significative. Le ceramiche tecniche di ingegneria del carburo di silicio sono ampiamente applicate nell'industria dei semiconduttori grazie alle loro eccezionali prestazioni dei materiali. Le ceramiche ultra pure di carburo di silicio di VeTek Semiconductor vengono spesso utilizzate durante l'intero ciclo di produzione e lavorazione dei semiconduttori.


DIFFUSIONE ED ELABORAZIONE LPCVD

VeTek Semiconductor fornisce componenti ceramici ingegnerizzati specificatamente progettati per la diffusione batch e i requisiti LPCVD, tra cui:

• Deflettori e supporti
• Iniettori
• Liner e tubi di processo
• Pale a sbalzo in carburo di silicio
• Navicelle e piedistalli per wafer


Silicon Carbide Cantilever Paddle Pagaia a sbalzo SiC SiC Process Tube Tubi di processo SiC SiC Diffusion Furnace Tube Tubo di processo in carburo di silicio Silicon Carbide wafer Carrier Barca per wafer verticale SiC High purity SiC wafer boat carrier Barca per wafer orizzontale SiC SiC Wafer Boat Barca con wafer quadrato SiC orizzontale SiC Wafer Boat Barca per wafer SiC LPCVD Silicon Carbide Wafer Boat for Horizontal Furnace Barca a piastra orizzontale in SiC SiC Ceramic Seal Ring Anello di tenuta in ceramica SiC


COMPONENTI DEL PROCESSO DI ETCH

Riduci al minimo la contaminazione e la manutenzione non programmata con componenti ad elevata purezza progettati per i rigori del processo di incisione al plasma, tra cui:

Anelli di messa a fuoco

Ugelli

Scudi

Soffioni

Finestre/coperchi

Altri componenti personalizzati


COMPONENTI PER IL TRATTAMENTO TERMICO RAPIDO E IL PROCESSO EPITAXIALE

VeTek Semiconductor fornisce componenti di materiali avanzati su misura per applicazioni di trattamento termico ad alta temperatura nel settore dei semiconduttori. Queste applicazioni comprendono RTP, processi Epi, diffusione, ossidazione e ricottura. Le nostre ceramiche tecniche sono progettate per resistere agli shock termici, offrendo prestazioni affidabili e costanti. Con i componenti di VeTek Semiconductor, i produttori di semiconduttori possono ottenere un trattamento termico efficiente e di alta qualità, contribuendo al successo complessivo della produzione di semiconduttori.

• Diffusori

• Isolanti

• Suscettori

• Altri componenti termici personalizzati


Proprietà fisiche del carburo di silicio ricristallizzato
Proprietà Valore tipico
Temperatura di lavoro (°C) 1600°C (con ossigeno), 1700°C (ambiente riducente)
Contenuto SiC/SiC > 99,96%
Si / Contenuto Si gratuito <0,1%
Densità apparente 2,60-2,70 g/cm3
Porosità apparente < 16%
Resistenza alla compressione > 600MPa
Resistenza alla flessione a freddo 80-90MPa (20°C)
Resistenza alla flessione a caldo 90-100MPa (1400°C)
Dilatazione termica @1500°C 4.70 10-6/°C
Conducibilità termica @1200°C 23  W/m•K
Modulo elastico 240 GPa
Resistenza agli shock termici Estremamente buono


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Forno per pressatura a caldo sotto vuoto per incollaggio di cristalli di semi di carburo di silicio

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La tecnologia di incollaggio dei semi SiC è uno dei processi chiave che influenzano la crescita dei cristalli. VETEK ha sviluppato un forno specializzato per pressatura a caldo sotto vuoto per l'incollaggio dei semi in base alle caratteristiche di questo processo. Il forno può ridurre efficacemente vari difetti generati durante il processo di incollaggio del seme, migliorando così la resa e la qualità finale del lingotto cristallino.
Barca a cassetta in silicio

Barca a cassetta in silicio

La Silicon Cassette Boat di Veteksemicon è un supporto per wafer di precisione sviluppato appositamente per applicazioni in forni per semiconduttori ad alta temperatura, tra cui ossidazione, diffusione, drive-in e ricottura. Realizzato in silicio di altissima purezza e rifinito secondo standard avanzati di controllo della contaminazione, fornisce una piattaforma termicamente stabile e chimicamente inerte che si avvicina molto alle proprietà dei wafer di silicio stessi. Questo allineamento riduce al minimo lo stress termico, riduce la formazione di scivolamenti e difetti e garantisce una distribuzione del calore eccezionalmente uniforme in tutto il lotto
Paletta a sbalzo in carburo di silicio per la lavorazione dei wafer

Paletta a sbalzo in carburo di silicio per la lavorazione dei wafer

La pala cantilever in carburo di silicio di Veteksemicon è progettata per la lavorazione avanzata dei wafer nella produzione di semiconduttori. Realizzato in SiC di elevata purezza, offre eccezionale stabilità termica, resistenza meccanica superiore ed eccellente resistenza alle alte temperature e agli ambienti corrosivi. Queste caratteristiche garantiscono una gestione precisa dei wafer, una durata operativa prolungata e prestazioni affidabili in processi quali MOCVD, epitassia e diffusione. Benvenuti a consultare.
Braccio robot in carburo di silicio

Braccio robot in carburo di silicio

Il nostro braccio robotico in carburo di silicio (SIC) è progettato per la gestione dei wafer ad alte prestazioni nella produzione avanzata di semiconduttori. Realizzato in carburo di silicio di alta purezza, questo braccio robotico offre una resistenza eccezionale alle alte temperature, alla corrosione al plasma e all'attacco chimico, garantendo un funzionamento affidabile in ambienti di camera puliti esigenti. La sua eccezionale resistenza meccanica e stabilità dimensionale consentono una gestione precisa dei wafer al contempo minimizzando i rischi di contaminazione, rendendola una scelta ideale per MOCVD, epitassia, impianto ionico e altre applicazioni di gestione dei wafer critici. Accogliamo con favore le tue richieste.
Barca wafer siic silicon in carburo

Barca wafer siic silicon in carburo

Le barche del wafer SIC Veteksemicon sono ampiamente utilizzate nei processi critici ad alta temperatura nella produzione di semiconduttori, fungendo da vettori affidabili per i processi di ossidazione, diffusione e ricottura per circuiti integrati a base di silicio. Excel anche nel settore dei semiconduttori di terza generazione, perfettamente adatto a processi esigenti come la crescita epitassiale (EPI) e la deposizione di vapore chimico metallo-organico (MOCVD) per dispositivi di potenza SIC e GAN. Supportano anche la fabbricazione ad alta temperatura di celle solari ad alta efficienza nell'industria fotovoltaica. In attesa della tua ulteriore consultazione.
SIC Cantilever Paddles

SIC Cantilever Paddles

Le pagaie per cantilever SIC Veteksemicon sono bracci di supporto in carburo di silicio di alta purezza progettati per la maneggevolezza dei wafer in fornaci di diffusione orizzontale e reattori epitassiali. Con l'eccezionale conduttività termica, resistenza alla corrosione e resistenza meccanica, queste pagaie assicurano stabilità e pulizia negli ambienti semiconduttori esigenti. Disponibile in dimensioni personalizzate e ottimizzato per una lunga durata.
Come produttore e fornitore professionista Ceramica al carburo di silicio in Cina, abbiamo la nostra fabbrica. Sia che tu abbia bisogno di servizi personalizzati per soddisfare le esigenze specifiche della propria regione o desideri acquistare avanzati e durevoli Ceramica al carburo di silicio realizzati in Cina, puoi lasciarci un messaggio.
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