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Processo di epitassia SiC

Gli esclusivi rivestimenti in carburo di VeTek Semiconductor forniscono una protezione superiore per le parti in grafite nel processo epitassia SiC per la lavorazione di materiali semiconduttori e semiconduttori compositi esigenti. Il risultato è una maggiore durata dei componenti della grafite, la preservazione della stechiometria della reazione, l'inibizione della migrazione delle impurità all'epitassia e applicazioni di crescita dei cristalli, con conseguente aumento della resa e della qualità.


I nostri rivestimenti in carburo di tantalio (TaC) proteggono i componenti critici di forni e reattori ad alte temperature (fino a 2200°C) da ammoniaca calda, idrogeno, vapori di silicio e metalli fusi. VeTek Semiconductor dispone di un'ampia gamma di funzionalità di elaborazione e misurazione della grafite per soddisfare le vostre esigenze personalizzate, quindi possiamo offrire un rivestimento a pagamento o un servizio completo, con il nostro team di ingegneri esperti pronti a progettare la soluzione giusta per voi e la vostra applicazione specifica .


Cristalli semiconduttori composti

VeTek Semiconductor può fornire rivestimenti TaC speciali per vari componenti e supporti. Attraverso il processo di rivestimento leader del settore di VeTek Semiconductor, il rivestimento TaC può ottenere elevata purezza, stabilità alle alte temperature ed elevata resistenza chimica, migliorando così la qualità del prodotto degli strati cristallini di TaC/GaN ed EPl e prolungando la durata dei componenti critici del reattore.


Isolanti termici

Componenti per la crescita dei cristalli SiC, GaN e AlN tra cui crogioli, supporti per semi, deflettori e filtri. Assemblaggi industriali tra cui elementi riscaldanti resistivi, ugelli, anelli di schermatura e dispositivi di brasatura, componenti di reattori CVD epitassiali GaN e SiC inclusi supporti wafer, vassoi satellitari, soffioni, cappucci e piedistalli, componenti MOCVD.


Scopo:

 ● Portawafer LED (diodo a emissione luminosa).

● Ricevitore ALD (semiconduttore).

● Recettore EPI (processo epitassia SiC)


Confronto tra rivestimento SiC e rivestimento TaC:

SiC TaC
Caratteristiche principali Purezza ultraelevata, eccellente resistenza al plasma Eccellente stabilità alle alte temperature (conformità al processo ad alta temperatura)
Purezza >99,9999% >99,9999%
Densità (g/cm3) 3.21 15
Durezza (kg/mm2) 2900-3300 6.7-7.2
Resistività [Ωcm] 0,1-15.000 <1
Conduttività termica (W/m-K) 200-360 22
Coefficiente di dilatazione termica(10-6/℃) 4.5-5 6.3
Applicazione Attrezzatura per semiconduttori Maschera in ceramica (anello di messa a fuoco, soffione doccia, wafer fittizio) Crescita di cristallo singolo SiC, Epi, Parti dell'attrezzatura LED UV


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Anello guida a tre petali rivestito CVD TAC

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Vetek Semiconductor ha sperimentato molti anni di sviluppo tecnologico e ha dominato la tecnologia di processo leader del rivestimento CVD TAC. L'anello di guida a tre peti rivestiti in CVD TAC è uno dei prodotti TAC più maturi di CVD TAC di Vetek Semiconductor ed è un componente importante per preparare i cristalli SIC con il metodo PVT. Con l'aiuto di Vetek Semiconductor, credo che la tua produzione di cristalli SiC sarà più fluida ed efficiente.
Grafite porosa rivestita in carburo di tantalio

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La grafite porosa rivestita in carburo di Tantalum è un prodotto indispensabile nel processo di elaborazione dei semiconduttori, in particolare nel processo di crescita dei cristalli SIC. Dopo continui aggiornamenti di investimenti in R&S e tecnologia, la qualità del prodotto poroso di grafite poroso di VETEK Semiconductor ha vinto elogi da parte dei clienti europei e americani. Benvenuti nella tua ulteriore consultazione.
Suscettore epitassiale SIC Planetary SIC CVD TAC

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Il suscettore epitassiale SIC Planetary SIC CVD TAC è uno dei componenti principali del reattore planetario MOCVD. Attraverso il suscettore epitassiale SIC planetario di rivestimento TAC CVD, le orbite di grandi dimensioni e il piccolo disco ruotano e il modello di flusso orizzontale viene esteso alle macchine multi-chip, in modo che abbia sia la gestione dell'uniformità dell'onda epitassiale di alta qualità che la gestione dell'uniformità dell'onda di alta qualità -Ilchins e i vantaggi dei costi di produzione delle macchine multi-chip. Il semiconduttore VETEK può fornire ai clienti un suscettore epitassiale Planetary SIC di rivestimento CVD altamente personalizzato. Se vuoi anche creare un forno plevato MOCVD come Aixtron, vieni da noi!
Gan Epitaxy Undertaker

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Vetek Semiconductor è un'azienda cinese che è un produttore di livello mondiale e fornitore del suscettore GAN Epitaxy. Abbiamo lavorato nel settore dei semiconduttori come i rivestimenti in carburo di silicio e il suscitatore di epitassia GAN per lungo tempo. Possiamo fornirti prodotti eccellenti e prezzi favorevoli. Vetek Semiconductor non vede l'ora di diventare il tuo partner a lungo termine.
Sussector wafer rivestito tac

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Il suscettore Wafer rivestito a semiconduttore VETEK è un vassoio di grafite rivestito con carburo di tantalum per crescita epitassiale in carburo di silicio per migliorare la qualità e le prestazioni del wafer. Vetek è selezionato per la sua tecnologia di rivestimento avanzata e soluzioni durevoli per garantire eccellenti risultati di epitassia SiC e estesa la vita del suscitatore, accolgo con favore le tue ulteriori indagini.
Anelli di guida per rivestimento TAC

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Come produttore leader di anelli di guida di rivestimento TAC in Cina, gli anelli di guida rivestita TAC a semiconduttore Vetek sono componenti importanti nelle apparecchiature MOCVD, garantendo una consegna accurata e stabile del gas durante la crescita epitassiale e sono un materiale indispensabile nella crescita epitassiale semiconduttore. Benvenuti a consultarci.
Come produttore e fornitore professionista Processo di epitassia SiC in Cina, abbiamo la nostra fabbrica. Sia che tu abbia bisogno di servizi personalizzati per soddisfare le esigenze specifiche della propria regione o desideri acquistare avanzati e durevoli Processo di epitassia SiC realizzati in Cina, puoi lasciarci un messaggio.
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