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Il rivestimento in carburo di tantalio (TaC) può prolungare significativamente la durata delle parti in grafite migliorando la resistenza alle alte temperature, la resistenza alla corrosione, le proprietà meccaniche e le capacità di gestione termica. Le sue caratteristiche di elevata purezza riducono la contaminazione da impurità, migliorano la qualità della crescita dei cristalli e migliorano l'efficienza energetica. È adatto per la produzione di semiconduttori e applicazioni di crescita dei cristalli in ambienti ad alta temperatura e altamente corrosivi.

I rivestimenti in carburo di TantaLum (TAC) sono ampiamente utilizzati nel campo a semiconduttore, principalmente per i componenti del reattore di crescita epitassiale, i componenti della chiave di crescita a cristallo singolo, i componenti industriali ad alta temperatura, i componenti industriali ad alta temperatura, i riscaldatori del sistema MOCVD e i portatori di wafer. È un'eccellente resistenza alla temperatura e resistenza alla corrosione può migliorare ladobilità delle attrezzature, la resa e la qualità della cristallo, la consumo di energia e il miglioramento dell'energia.

Durante il processo di crescita epitassiale SIC, può verificarsi insufficienza di sospensione della grafite rivestita SIC. Questo documento conduce un'analisi rigorosa del fenomeno di fallimento della sospensione di grafite rivestita di SiC, che include principalmente due fattori: insufficienza di gas epitassiale SIC e fallimento del rivestimento SIC.

Questo articolo discute principalmente i rispettivi vantaggi del processo e le differenze del processo di epitassia del fascio molecolare e delle tecnologie di deposizione di vapore chimico metallo-organico.