Piedistallo in quarzo fuso ALD

Il piedistallo al quarzo fuso ALD di VeTek Semiconductor svolge un ruolo chiave nel processo di produzione dei semiconduttori come struttura di supporto perbarca al quarzo, che viene utilizzato per tenere il filewafer. Il piedistallo al quarzo fuso aiuta a ottenere una deposizione uniforme della pellicola mantenendo una temperatura stabile, che influisce direttamente sulle prestazioni e sull'affidabilità dei dispositivi a semiconduttore. Inoltre, il piedistallo al quarzo garantisce una distribuzione uniforme del calore e della luce nella camera di processo, migliorando così la qualità complessiva del processo di deposizione.

Vantaggi del materiale del piedistallo in quarzo fuso ALD

Resistenza alle alte temperature: Il punto di rammollimento del piedistallo in quarzo fuso è pari a circa 1730°C e può resistere a lungo a temperature elevate comprese tra 1100°C e 1250°C e può essere esposto ad ambienti con temperature estreme fino a 1450°C per un breve periodo.

Eccellente resistenza alla corrosione: Il quarzo fuso è altamente chimicamente inerte a quasi tutti gli acidi tranne l'acido idrofluorico. La sua resistenza all'acido è 30 volte superiore alla ceramica e 150 volte superiore all'acciaio inossidabile. Il quarzo fuso è chimicamente senza eguali ad alte temperature, rendendolo un materiale ideale per processi chimici complessi.

Stabilità termica: Una caratteristica chiave del materiale piedistallo in quarzo fuso è il suo coefficiente di espansione termica estremamente basso. Ciò significa che può facilmente gestire le fluttuazioni della temperatura drammatiche senza crack. Ad esempio, il quarzo di silice fuso può essere rapidamente riscaldato a 1100 ° C e immerso direttamente in acqua fredda senza danni, una caratteristica importante in condizioni di produzione ad alto stress.

Processo di produzione rigoroso: Il processo di produzione dei piedistalli in silice fusa rispetta rigorosamente elevati standard di qualità. Il processo di produzione utilizza processi di formatura e saldatura a caldo, che vengono solitamente completati in un ambiente cleanroom di classe 10.000. Successivamente, il piedistallo in vetro di quarzo fuso viene pulito accuratamente con acqua ultrapura (18 MΩ) per garantire la purezza del prodotto e prestazioni ottimali. Ogni prodotto finito viene rigorosamente ispezionato, pulito e confezionato in una camera bianca di classe 1.000 o superiore per soddisfare gli elevati standard dell'industria dei semiconduttori.

Materiale al quarzo in silice opaco ad alta purezza

Il piedistallo in quarzo fuso VeTeksemi ALD utilizza materiale di quarzo opaco di elevata purezza per isolare efficacemente il calore e la luce. Le sue eccellenti proprietà di schermatura termica e leggera gli consentono di mantenere una distribuzione uniforme della temperatura nella camera di processo, garantendo uniformità e consistenza del sottiledeposizione cinematograficasulla superficie del wafer.

Campi di applicazione

I piedistalli di quarzo fusi sono ampiamente utilizzati in molti campi del settore dei semiconduttori a causa delle loro eccellenti prestazioni. Nelprocesso di deposizione di strati atomici (ALD)., Supporta il controllo preciso della crescita del film e garantisce il progresso dei dispositivi a semiconduttore. Nelprocesso di deposizione chimica in fase vapore a bassa pressione (LPCVD)., la stabilità termica e la capacità di schermatura della luce del piedistallo in quarzo ad elevata purezza forniscono garanzie per la deposizione uniforme di film sottili, migliorando così le prestazioni e la resa del dispositivo.

Inoltre, nel processo di diffusione del wafer, la resistenza alle alte temperature e alla corrosione chimica del piedistallo al quarzo fuso garantisce l'affidabilità e la coerenza del processo di drogaggio del materiale semiconduttore. Questi processi chiave determinano le prestazioni elettriche dei dispositivi a semiconduttore e i materiali in quarzo fuso di alta qualità svolgono un ruolo indispensabile nel raggiungimento dei migliori risultati di questi processi.

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