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Paddle ad alta purezza SIC a sballo
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Paddle ad alta purezza SIC a sballo

Vetek Semiconductor è un produttore leader e fornitore del prodotto a paddle SIC ad alta purezza in Cina. Le pagaie ad alta purezza SIC Sic sono comunemente usate nei forni di diffusione a semiconduttore come piattaforme di trasferimento di wafer o di carico.

Paddle SIC Cantilever ad alta purezza è un componente chiave utilizzato nelle apparecchiature di elaborazione dei semiconduttori. Il prodotto è realizzato in materiale in carburo di silicio di alta purezza (SIC).  I clienti possono scegliere liberamente materiale SIC sinterizzato o materiale SIC ricristatore. Con l'aiuto delle sue eccellenti caratteristiche di elevata purezza, alta stabilità termica e resistenza alla corrosione, è ampiamente utilizzato in processi come il trasferimento di wafer, il supporto e l'elaborazione ad alta temperatura, fornendo garanzie affidabili per garantire l'accuratezza del processo e la qualità del prodotto.


La paletta SIC Cantilever ad alta purezza svolge i seguenti ruoli specifici nel processo di elaborazione dei semiconduttori:


Trasferimento di wafer: Paddle SIC a sballo SIC ad alta purezza viene solitamente utilizzato come dispositivo di trasferimento di wafer in forni di diffusione o ossidazione ad alta temperatura. La sua alta durezza lo rende resistente all'usura e non facile da deformare durante l'uso a lungo termine e può garantire che il wafer rimanga posizionato accuratamente durante il processo di trasferimento. Combinato con la sua resistenza ad alta temperatura e corrosione, può trasferire in sicurezza i wafer dentro e fuori dal tubo del forno in ambienti ad alta temperatura senza causare alcuna contaminazione o danno ai wafer.


Supporto del wafer: Il materiale SIC ha un basso coefficiente di espansione termica, il che significa che la sua dimensione cambia meno quando la temperatura cambia, il che aiuta a mantenere un controllo preciso nel processo. Nei processi di deposizione di vapore chimico (CVD) o deposizione di vapore fisico (PVD), la paletta SIC a sbalzo viene utilizzata per supportare e riparare il wafer per garantire che il wafer rimanga stabile e piatto durante il processo di deposizione, migliorando così l'uniformità e la qualità del film.


Applicazione di processi ad alta temperatura: La paletta SIC a sballo ha un'eccellente stabilità termica e può resistere a temperature fino a 1600 ° C. Pertanto, questo prodotto è ampiamente utilizzato in ricottura ad alta temperatura, ossidazione, diffusione e altri processi.


Proprietà fisiche di base dell'alta purezza SIC Castilever Paddle:

Proprietà fisiche del carburo di silicio sinterizzato

Proprietà

Valore tipico

Composizione chimica

Sic> 95% , E <5%

Densità di massa

> 3.07 g/cm³
Porosità apparente
<0,1%
Modulo di rottura a 20 ℃
270 MPA
Modulo di rottura a 1200 ℃
290 MPA
Durezza a 20 ℃
2400 kg/mm²
Dolosità della frattura al 20%
3,3 mpa · m1/2
Conducibilità termica a 1200 ℃
45 W/M.K
Espansione termica a 20-1200 ℃
4,5 × 10-6/℃
Temperatura di lavoro massima
1400 ℃
Resistenza agli shock termici a 1200 ℃
Bene

Proprietà fisiche del carburo di silicio ricristallizzato
Proprietà
Valore tipico
Temperatura di lavoro (° C)
1600 ° C (con ossigeno), 1700 ° C (ambiente di riduzione)
Contenuto sic
> 99,96%
Contenuto SI gratuito
<0,1%
Densità di massa
2,60-2,70 g/cm3
Porosità apparente
<16%
Resistenza di compressione
> 600 MPA
Forza di piegatura fredda
80-90 MPa (20 ° C)
Forza di piegatura calda
90-100 MPa (1400 ° C)
Espansione termica @1500 ° C.
4.70 x 10-6/° C.
Conducibilità termica a 1200 ° C.
23 w/m • k
Modulo elastico
240 GPA
Resistenza agli shock termici
Estremamente buono


Paddle ad alta purezza SIC a sballonegozi:


VeTek Semiconductor Production Shop


Panoramica della catena dell'industria dell'epitassia del chip a semiconduttore:


Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain

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