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Perché 3C-SIC si distingue tra molti polimorfi SIC? - VETEK Semiconductor16 2024-10

Perché 3C-SIC si distingue tra molti polimorfi SIC? - VETEK Semiconductor

Il carburo di silicio (SIC) è un materiale a semiconduttore ad alta precisione noto per le sue eccellenti proprietà come la resistenza ad alta temperatura, la resistenza alla corrosione e l'elevata resistenza meccanica. Ha oltre 200 strutture cristalline, con 3C-SIC che è l'unico tipo cubico, che offre sfericità naturale e densificazione superiori rispetto ad altri tipi. 3C-SIC si distingue per la sua alta mobilità elettronica, rendendolo ideale per i MOSFET nell'elettronica di alimentazione. Inoltre, mostra un grande potenziale in nanoelettronica, LED blu e sensori.
Diamond - La futura stella dei semiconduttori15 2024-10

Diamond - La futura stella dei semiconduttori

Diamond, un potenziale "Ultimate Semiconductor" di quarta generazione, sta attirando l'attenzione nei substrati a semiconduttore a causa della sua eccezionale durezza, conducibilità termica e proprietà elettriche. Mentre le sue sfide ad alto costo e produzione ne limitano l'uso, CVD è il metodo preferito. Nonostante il doping e le sfide di cristallo di grandi aree, Diamond è promettente.
Qual è la differenza tra applicazioni di carburo di silicio (SIC) e nitruro di gallio (GAN)? - VETEK Semiconductor10 2024-10

Qual è la differenza tra applicazioni di carburo di silicio (SIC) e nitruro di gallio (GAN)? - VETEK Semiconductor

SiC e GaN sono semiconduttori ad ampio gap di banda con vantaggi rispetto al silicio, come tensioni di rottura più elevate, velocità di commutazione più elevate ed efficienza superiore. Il SiC è migliore per le applicazioni ad alta tensione e potenza grazie alla sua maggiore conduttività termica, mentre il GaN eccelle nelle applicazioni ad alta frequenza grazie alla sua mobilità elettronica superiore.
Principi e tecnologia del rivestimento PVD (Physical Vapor Deposition) (2/2) - VeTek Semiconductor24 2024-09

Principi e tecnologia del rivestimento PVD (Physical Vapor Deposition) (2/2) - VeTek Semiconductor

L'evaporazione con fascio di elettroni è un metodo di rivestimento altamente efficiente e ampiamente utilizzato rispetto al riscaldamento a resistenza, che riscalda il materiale di evaporazione con un fascio di elettroni, facendolo vaporizzare e condensare in una pellicola sottile.
Principi e tecnologia del rivestimento di deposizione di vapore fisico (1/2) - VETEK Semiconductor24 2024-09

Principi e tecnologia del rivestimento di deposizione di vapore fisico (1/2) - VETEK Semiconductor

Il rivestimento a vuoto comprende la vaporizzazione del materiale del film, il trasporto del vuoto e la crescita del film sottile. Secondo i diversi metodi di vaporizzazione del materiale del film e i processi di trasporto, il rivestimento del vuoto può essere diviso in due categorie: PVD e CVD.
Cos'è la grafite porosa? - VETEK Semiconductor23 2024-09

Cos'è la grafite porosa? - VETEK Semiconductor

Questo articolo descrive i parametri fisici e le caratteristiche del prodotto della grafite porosa di Vetek Semiconductor, nonché le sue applicazioni specifiche nell'elaborazione dei semiconduttori.
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