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Questo articolo analizza i motivi per cui il rivestimento SIC un materiale chiave chiave per la crescita epitassiale SIC e si concentra sui vantaggi specifici del rivestimento SIC nel settore dei semiconduttori.

I nanomateriali in carburo di silicio (SIC) sono materiali con almeno una dimensione su scala nanometrica (1-100nm). Questi materiali possono essere zero, uno, due o tridimensionali e hanno diverse applicazioni.

CVD SIC è un materiale in carburo di silicio di alta purezza prodotto dalla deposizione di vapore chimico. Viene utilizzato principalmente per vari componenti e rivestimenti nelle apparecchiature di elaborazione dei semiconduttori. Il seguente contenuto è un'introduzione alla classificazione del prodotto e alle funzioni di base di CVD SIC

Questo articolo introduce principalmente i tipi di prodotto, le caratteristiche del prodotto e le principali funzioni del rivestimento TAC nell'elaborazione dei semiconduttori e effettua un'analisi e un'interpretazione complete dei prodotti di rivestimento TAC nel suo insieme.

Questo articolo introduce principalmente i tipi di prodotto, le caratteristiche del prodotto e le principali funzioni del suscettore MOCVD nell'elaborazione dei semiconduttori e effettua un'analisi completa e un'interpretazione dei prodotti del suscettore MOCVD nel loro insieme.

Nel settore manifatturiero dei semiconduttori, poiché le dimensioni del dispositivo continuano a ridursi, la tecnologia di deposizione di materiali a film sottile ha posto sfide senza precedenti. La deposizione di strati atomici (ALD), come tecnologia di deposizione di film sottile in grado di ottenere un controllo preciso a livello atomico, è diventata una parte indispensabile della produzione di semiconduttori. Questo articolo mira a introdurre il flusso di processo e i principi di ALD per aiutare a comprendere il suo ruolo importante nella produzione avanzata di chip.