Questo articolo introduce innanzitutto la struttura molecolare e le proprietà fisiche di TAC e si concentra sulle differenze e le applicazioni del carburo di tantalum sinterizzato e in carburo di tantalum CVD, nonché i popolari prodotti TAC di Vetek Semiconductor.
Questo articolo introduce le caratteristiche del prodotto del rivestimento TAC CVD, il processo di preparazione del rivestimento TAC CVD usando il metodo CVD e il metodo di base per il rilevamento della morfologia superficiale del rivestimento TAC CVD preparato.
Questo articolo introduce le caratteristiche del prodotto del rivestimento TAC, il processo specifico per la preparazione dei prodotti di rivestimento TAC utilizzando la tecnologia CVD, introduce il rivestimento TAC più popolare di Veteksemicon e analizza brevemente le ragioni per la scelta di Veteksemicon.
Questo articolo analizza i motivi per cui il rivestimento SIC un materiale chiave chiave per la crescita epitassiale SIC e si concentra sui vantaggi specifici del rivestimento SIC nel settore dei semiconduttori.
I nanomateriali in carburo di silicio (SIC) sono materiali con almeno una dimensione su scala nanometrica (1-100nm). Questi materiali possono essere zero, uno, due o tridimensionali e hanno diverse applicazioni.
CVD SIC è un materiale in carburo di silicio di alta purezza prodotto dalla deposizione di vapore chimico. Viene utilizzato principalmente per vari componenti e rivestimenti nelle apparecchiature di elaborazione dei semiconduttori. Il seguente contenuto è un'introduzione alla classificazione del prodotto e alle funzioni di base di CVD SIC
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