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Questo articolo introduce le caratteristiche del prodotto del rivestimento TAC CVD, il processo di preparazione del rivestimento TAC CVD usando il metodo CVD e il metodo di base per il rilevamento della morfologia superficiale del rivestimento TAC CVD preparato.

Questo articolo introduce le caratteristiche del prodotto del rivestimento TAC, il processo specifico per la preparazione dei prodotti di rivestimento TAC utilizzando la tecnologia CVD, introduce il rivestimento TAC più popolare di Veteksemicon e analizza brevemente le ragioni per la scelta di Veteksemicon.

Questo articolo analizza i motivi per cui il rivestimento SIC un materiale chiave chiave per la crescita epitassiale SIC e si concentra sui vantaggi specifici del rivestimento SIC nel settore dei semiconduttori.

I nanomateriali in carburo di silicio (SIC) sono materiali con almeno una dimensione su scala nanometrica (1-100nm). Questi materiali possono essere zero, uno, due o tridimensionali e hanno diverse applicazioni.

CVD SIC è un materiale in carburo di silicio di alta purezza prodotto dalla deposizione di vapore chimico. Viene utilizzato principalmente per vari componenti e rivestimenti nelle apparecchiature di elaborazione dei semiconduttori. Il seguente contenuto è un'introduzione alla classificazione del prodotto e alle funzioni di base di CVD SIC

Questo articolo introduce principalmente i tipi di prodotto, le caratteristiche del prodotto e le principali funzioni del rivestimento TAC nell'elaborazione dei semiconduttori e effettua un'analisi e un'interpretazione complete dei prodotti di rivestimento TAC nel suo insieme.