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Con la graduale produzione in serie di substrati conduttivi SiC, vengono posti requisiti più elevati in termini di stabilità e ripetibilità del processo. In particolare il controllo dei difetti, piccoli aggiustamenti o derive del campo termico nel forno porteranno a cambiamenti del cristallo o ad un aumento dei difetti.
Nella fase successiva, affronteremo la sfida di "crescere più velocemente, più spesso e più a lungo". Oltre al miglioramento della teoria e dell’ingegneria, sono necessari materiali di supporto più avanzati per il campo termico. Usa materiali avanzati per far crescere cristalli avanzati.
L'uso improprio di materiali come grafite, grafite porosa e polvere di carburo di TantaLum nel crogiolo nel campo termico porterà a difetti come aumento delle inclusioni di carbonio. Inoltre, in alcune applicazioni, la permeabilità della grafite porosa non è sufficiente e devono essere aperti ulteriori fori per aumentare la permeabilità. La grafite porosa con elevata permeabilità affronta sfide come l'elaborazione, la perdita di polvere e l'attacco.
Di recente, Vetek Semiconductor ha lanciato una nuova generazione di materiali per campo termico a crescita cristallina SIC,Carburo di tantalum poroso, per la prima volta nel mondo.
Il carburo di tantalio ha elevata resistenza e durezza ed è ancora più difficile renderlo poroso. È ancora più impegnativo produrre carburo di tantalio poroso con grande porosità ed elevata purezza. VeTek Semiconductor ha lanciato un rivoluzionario carburo di tantalio poroso con grande porosità,con una porosità massima del 75%, raggiungendo il livello leader a livello internazionale.
Inoltre, può essere utilizzato per la filtrazione di componenti in fase gassosa, la regolazione dei gradienti di temperatura locali, la guida della direzione del flusso del materiale, il controllo delle perdite, ecc.; può essere combinato con un altro rivestimento solido in carburo di tantalio (denso) o in carburo di tantalio di VeTek Semiconductor per formare componenti con diverse conduttanze di flusso locale; alcuni componenti possono essere riutilizzati.
Porosità ≤75% leader internazionale
Forma: fiocco, leader internazionale cilindrico
Porosità uniforme
● Porosità per applicazioni versatili
La struttura porosa del TaC fornisce multifunzionalità, consentendone l'uso in scenari specializzati come:
Diffusione del gas: Facilita il controllo preciso del flusso di gas nei processi di semiconduttori.
Filtrazione: Ideale per ambienti che richiedono una separazione del particolato ad alte prestazioni.
Dissipazione del calore controllata: Gestisce in modo efficiente il calore in sistemi ad alta temperatura, migliorando la regolazione termica complessiva.
● Resistenza estrema alle alte temperature
Con un punto di fusione di circa 3.880°C, il carburo di tantalio eccelle nelle applicazioni a temperature ultra elevate. Questa eccezionale resistenza al calore garantisce prestazioni costanti in condizioni in cui la maggior parte dei materiali fallisce.
● Durezza e durata superiori
La classifica 9-10 sulla scala della durezza MOHS, simile al diamante, TAC poroso dimostra una resistenza senza pari all'usura meccanica, anche sotto stress estremo. Questa durata lo rende ideale per le applicazioni esposte ad ambienti abrasivi.
● Stabilità termica eccezionale
Il carburo di tantalio mantiene la sua integrità strutturale e le prestazioni in condizioni di calore estremo. La sua notevole stabilità termica garantisce un funzionamento affidabile nei settori che richiedono costanza ad alta temperatura, come la produzione di semiconduttori e l'aerospaziale.
● Eccellente conducibilità termica
Nonostante la sua natura porosa, il Poroso TAC mantiene un efficiente trasferimento di calore, consentendone l'uso nei sistemi in cui la rapida dissipazione del calore è fondamentale. Questa funzione migliora l'applicabilità del materiale nei processi ad alta intensità di calore.
● Bassa espansione termica per stabilità dimensionale
Con un basso coefficiente di espansione termica, il carburo di TantaLum resiste ai cambiamenti dimensionali causati dalle fluttuazioni della temperatura. Questa proprietà minimizza lo stress termico, estendendo la durata della vita dei componenti e mantenendo la precisione nei sistemi critici.
● In processi ad alta temperatura come l'attacco al plasma e CVD, il carburo di tantalum poroso a semiconduttore Vetek viene spesso utilizzato come rivestimento protettivo per le attrezzature di lavorazione. Ciò è dovuto alla forte resistenza alla corrosione del rivestimento TAC e alla sua stabilità ad alta temperatura. Queste proprietà assicurano che protegga efficacemente le superfici esposte a gas reattivi o temperature estreme, garantendo così la normale reazione di processi ad alta temperatura.
● Nei processi di diffusione, il carburo di tantalum poroso può fungere da barriera di diffusione efficace per prevenire la miscelazione di materiali nei processi ad alta temperatura. Questa caratteristica viene spesso utilizzata per controllare la diffusione dei droganti in processi come l'impianto di ioni e il controllo della purezza dei wafer a semiconduttore.
● La struttura porosa del carburo di tantalio poroso per semiconduttori VeTek è molto adatta per ambienti di lavorazione di semiconduttori che richiedono un controllo o una filtrazione precisi del flusso di gas. In questo processo, il TaC poroso svolge principalmente il ruolo di filtrazione e distribuzione del gas. La sua inerzia chimica garantisce che durante il processo di filtrazione non vengano introdotti contaminanti. Ciò garantisce efficacemente la purezza del prodotto lavorato.
In qualità di produttore, fornitore, fabbrica professionale di carburo di tantalio poroso in Cina, abbiamo la nostra fabbrica. Se hai bisogno di servizi personalizzati per soddisfare le esigenze specifiche della tua regione o desideri acquistare carburo di tantalio poroso avanzato e durevole prodotto in Cina, puoi lasciarci un messaggio.
Se hai domande o hai bisogno di ulteriori dettagli suCarburo di tantalio poroso、Grafite porosa rivestita in carburo di tantalioe altroComponenti rivestiti in carburo di tantalio, non esitate a contattarci.
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