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Alta purezza: lo strato epitassiale di silicio coltivato dalla deposizione di vapore chimico (CVD) ha una purezza estremamente elevata, una migliore piattaforma superficiale e una minore densità di difetto rispetto ai wafer tradizionali.

Il carburo di silicio solido (SIC) è diventato uno dei materiali chiave nella produzione di semiconduttori a causa delle sue proprietà fisiche uniche. Quella che segue è un'analisi dei suoi vantaggi e del suo valore pratico in base alle sue proprietà fisiche e alle sue applicazioni specifiche nelle apparecchiature a semiconduttore (come portatori di wafer, soffioni, anelli di messa a fuoco, ecc.).