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Forno per la crescita dei cristalli SiC con riscaldamento a resistenza di grandi dimensioni
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Forno per la crescita dei cristalli SiC con riscaldamento a resistenza di grandi dimensioni

La crescita dei cristalli di carburo di silicio è un processo fondamentale nella produzione di dispositivi a semiconduttore ad alte prestazioni. La stabilità, la precisione e la compatibilità delle apparecchiature per la crescita dei cristalli determinano direttamente la qualità e la resa dei lingotti di carburo di silicio. Basandosi sulle caratteristiche della tecnologia Physical Vapor Transport (PVT), Veteksemi ha sviluppato un forno di riscaldamento a resistenza per la crescita dei cristalli di carburo di silicio, consentendo una crescita stabile di cristalli di carburo di silicio da 6 pollici, 8 pollici e 12 pollici con piena compatibilità con sistemi di materiali conduttivi, semiisolanti e di tipo N. Attraverso il controllo preciso di temperatura, pressione e potenza, riduce efficacemente i difetti dei cristalli come EPD (Etch Pit Density) e BPD (Basal Plane Dislocation), presentando al contempo un basso consumo energetico e un design compatto per soddisfare gli elevati standard della produzione industriale su larga scala.

Parametri tecnici

Parametro
Specifica
Processo di crescita
Trasporto fisico del vapore (PVT)
Metodo di riscaldamento
Riscaldamento con resistenza in grafite
Dimensioni dei cristalli adattabili
6 pollici, 8 pollici, 12 pollici (commutabile; tempo di sostituzione della camera < 4 ore)
Tipi di cristalli compatibili
Tipo conduttivo, tipo semi-isolante, tipo N (serie completa)
Temperatura operativa massima
≥2400℃
Vuoto definitivo
≤9×10⁻⁵Pa (condizione del forno freddo)
Tasso di aumento della pressione
≤1.0Pa/12h (forno freddo)
Potere di crescita dei cristalli
34,0KW
Precisione del controllo della potenza
±0,15% (in condizioni di crescita stabili)
Precisione del controllo della pressione
0,15Pa (fase di crescita); fluttuazione <±0,001 Torr (a 1,0 Torr)
Densità dei difetti dei cristalli
BPD < 381 cad/cm²; TED < 1054 cad/cm²
Tasso di crescita dei cristalli
0,2-0,3 mm/ora
Altezza di crescita dei cristalli
30-40 mm
Dimensioni complessive (L×P×A)
≤1800mm×3300mm×2700mm


Vantaggi fondamentali


 Compatibilità a grandezza naturale

Consente una crescita stabile di cristalli di carburo di silicio da 6 pollici, 8 pollici e 12 pollici, completamente compatibili con sistemi di materiali conduttivi, semi-isolanti e di tipo N. Copre le esigenze produttive di prodotti con specifiche diverse e si adatta a diversi scenari applicativi.


● Forte stabilità del processo

I cristalli da 8 pollici hanno un'eccellente consistenza del politipo 4H, una forma superficiale stabile e un'elevata ripetibilità; la tecnologia di crescita dei cristalli di carburo di silicio da 12 pollici ha completato la verifica con un'elevata fattibilità della produzione di massa.


● Basso tasso di difetti dei cristalli

Attraverso il controllo preciso di temperatura, pressione e potenza, i difetti dei cristalli vengono ridotti in modo efficace con indicatori chiave che soddisfano gli standard: EPD=1435 ea/cm², BPD=381 ea/cm², TSD=0 ea/cm² e TED=1054 ea/cm². Tutti gli indicatori di difetti soddisfano i requisiti di alta qualità dei cristalli, migliorando significativamente la resa dei lingotti.


● Costi operativi controllabili

Ha il consumo energetico più basso tra prodotti simili. I componenti principali (come gli scudi di isolamento termico) hanno un lungo ciclo di sostituzione di 6-12 mesi, riducendo i costi operativi complessivi.


● Comodità plug-and-play

Pacchetti di ricette e processi personalizzati in base alle caratteristiche delle apparecchiature, verificati attraverso una produzione a lungo termine e multi-lotto, che consentono la produzione immediata dopo l'installazione.


● Sicurezza e affidabilità

Adotta uno speciale design anti-scintilla d'arco per eliminare potenziali rischi per la sicurezza; il monitoraggio in tempo reale e le funzioni di allarme rapido evitano in modo proattivo i rischi operativi.


● Eccellenti prestazioni di aspirazione

Gli indicatori finali del tasso di aumento del vuoto e della pressione superano i livelli leader a livello internazionale, garantendo un ambiente pulito per la crescita dei cristalli.


● Funzionamento e manutenzione intelligenti

Presenta un'interfaccia HMI intuitiva combinata con una registrazione completa dei dati, che supporta funzioni opzionali di monitoraggio remoto per una gestione della produzione efficiente e conveniente.


Visualizzazione visiva delle prestazioni principali


Curva di precisione del controllo della temperatura

Temperature Control Accuracy Curve

Precisione del controllo della temperatura del forno per la crescita dei cristalli ≤ ±0,3°C; Panoramica della curva della temperatura



Grafico della precisione del controllo della pressione


Pressure Control Accuracy Graph

Precisione del controllo della pressione del forno per la crescita dei cristalli: 1,0 Torr, Precisione del controllo della pressione: 0,001 Torr


Precisione della stabilità della potenza


Stabilità e coerenza tra forni/lotti: l'accuratezza della stabilità della potenza

Power Stability Precision

Nello stato di crescita dei cristalli, la precisione del controllo della potenza durante la crescita stabile dei cristalli è ±0,15%.


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