SIC COATINA ALD SUSTCHTOR

SemiconduttoreSIC COATINA ALD SUSTCHTORsvolge un ruolo vitale nella deposizione di strati atomici (Ald) processo. Il suo preciso controllo della temperatura, la distribuzione uniforme del gas, l'alta resistenza chimica e l'eccellente conducibilità termica garantiscono l'uniformità e l'alta qualità del processo di deposizione del film. Se vuoi saperne di più, puoi consultarci immediatamente e ti risponderemo in tempo!

Controllo preciso della temperatura:

Il suscettore ALD di rivestimento SIC di solito ha un sistema di controllo della temperatura ad alta precisione. È in grado di mantenere un ambiente di temperatura uniforme durante il processo di deposizione, che è fondamentale per garantire l'uniformità e la qualità del film.

Distribuzione uniforme del gas:

Il design ottimizzato del suscettore ALD di rivestimento SIC garantisce la distribuzione uniforme del gas durante il processo di deposizione ALD. La sua struttura di solito include più parti rotanti o mobili per promuovere la copertura uniforme dei gas reattivi sull'intera superficie del wafer.

Elevata resistenza chimica:

Poiché il processo ALD prevede una varietà di gas chimici, il rivestimento ALD di rivestimento SIC è generalmente realizzato con materiali resistenti alla corrosione (come platino, ceramica o quarzo ad alta purezza) per resistere all'erosione dei gas chimici e all'influenza di ambienti ad alta temperatura.

Eccellente conduttività termica:

Al fine di condurre efficacemente il calore e mantenere una temperatura di deposizione stabile, i suscettori ALD di rivestimento SIC di solito utilizzano materiali di conducibilità termica elevati. Questo aiuta a evitare il surriscaldamento locale e la deposizione irregolare.

Proprietà fisiche di base del rivestimento SIC CVD:

Negozi di produzione:

Panoramica della catena dell'industria dell'epitassia del chip a semiconduttore：