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Questo articolo introduce principalmente i tipi di prodotto, le caratteristiche del prodotto e le principali funzioni del suscettore MOCVD nell'elaborazione dei semiconduttori e effettua un'analisi completa e un'interpretazione dei prodotti del suscettore MOCVD nel loro insieme.

Veteksemicon brilla nella mostra internazionale di Shanghai Semicon International, che guida il futuro dell'industria dei semiconduttori con tecnologie innovative

Nel settore manifatturiero dei semiconduttori, poiché le dimensioni del dispositivo continuano a ridursi, la tecnologia di deposizione di materiali a film sottile ha posto sfide senza precedenti. La deposizione di strati atomici (ALD), come tecnologia di deposizione di film sottile in grado di ottenere un controllo preciso a livello atomico, è diventata una parte indispensabile della produzione di semiconduttori. Questo articolo mira a introdurre il flusso di processo e i principi di ALD per aiutare a comprendere il suo ruolo importante nella produzione avanzata di chip.

È ideale per costruire circuiti integrati o dispositivi a semiconduttore su uno strato di base cristallino perfetto. Il processo di epitassia (epi) nella produzione di semiconduttori mira a depositare un sottile strato monocristallino, solitamente da circa 0,5 a 20 micron, su un substrato monocristallino. Il processo di epitassia è un passo importante nella produzione di dispositivi a semiconduttore, in particolare nella produzione di wafer di silicio.