Servizi e risorse

Materiali e design

Selezionare la combinazione di substrato e rivestimento corrispondente è la chiave per prevenire guasti prematuri dei componenti, ridurre la contaminazione delle particelle e massimizzare la resa dei wafer. Forniamo soluzioni di progettazione strutturale e di materiali su misura in base alla finestra di processo specifica del cliente (temperatura operativa, chimica dei gas reattivi, velocità di rampa).

Le nostre principali capacità di progettazione:

  • Rigorosa corrispondenza dello stress CTE:Per cicli termici rapidi (>100 °C/min), abbiniamo esattamente le curve di temperatura CTE dei substrati di grafite ad elevata purezza e dei rivestimenti CVD, riducendo sostanzialmente il rischio di delaminazione del rivestimento e di microfessurazioni.
  • Selezione del rivestimento specifico per lo scenario di processo:Rivestimento SiC CVD per ambienti epitassia Si/SiC (Epi), MOCVD e attacco al plasma; Rivestimento CVD TaC per condizioni di temperatura più elevata e fortemente corrosive (ad esempio, crescita PVT monocristallino SiC).
  • Ottimizzazione della resistività controllabile e della conduttività termica:Controllo preciso della resistività di massa e della conduttività termica del substrato e del rivestimento per soddisfare specifici requisiti elettrici e di campo termico di mandrini elettrostatici RF, ESC o zone di riscaldamento.
  • Controllo della fonte di contaminazione e riduzione del CoO:Gli strati di deposizione CVD ad elevata purezza sigillano densamente la grafite porosa, riducendo significativamente la perdita di particelle, la diffusione di impurità metalliche ultratracce e il rischio di degassamento ad alta temperatura.

Confronto tipico tra la selezione dei rivestimenti (guida sintetica)

Rivestimento Direzioni applicative tipiche Vantaggi fondamentali
CVD SiC Epitassia Si/SiC (Epi), MOCVD, attacco parziale al plasma Elevata purezza, buona stabilità termica, resistenza alla corrosione chimica, elevato rapporto costo-prestazioni complessivo
CVD TaC Crescita monocristallina SiC ad alta temperatura (PVT), componenti portanti a temperature estremamente elevate Temperatura nominale più elevata (>1600 °C), forte resistenza alla corrosione, eccellente resistenza all'ossidazione

Caso reale e vantaggi per il cliente (esperienza):

Un produttore leader di epitassia (Epi) SiC:Il componente originale utilizzava un rivestimento CVD TaC non corrispondente, che provocava un eccessivo stress interfacciale e frequenti microfessure ad alta temperatura. Abbiamo eseguito nuovamente le simulazioni termodinamiche e siamo passati a aSubstrato speciale in grafite ad elevata purezza abbinato al CTE + strato tampone + rivestimento SiC CVDsoluzione. Risultato: la durata media dei componenti è aumentata da 200 ore a 850 ore; la frequenza di sostituzione annua per utensile è scesa da 40 a 9 volte; Il risparmio sui costi di gestione e manutenzione di apparecchiature complete ha superato i 650.000 RMB all'anno.

GDMS purity analysis report for TaC coating GDMS purity analysis report for SiC coating

Rapporto di analisi della purezza GDMS per rivestimenti TaC e SiC

Domande frequenti

1. D: Come dovrei scegliere tra il rivestimento CVD SiC e il rivestimento CVD TaC?

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UN:Osserva la temperatura del processo e l'intensità della corrosione in fase gassosa. Se la temperatura del processo è inferiore a 1000 °C e prevede principalmente l'attacco a base di Cl₂/F₂ o l'epitassia convenzionale, scegliereCVD SiCper il miglior rapporto costo-prestazioni; se la temperatura del processo supera i 1200 °C e prevede atmosfere fortemente corrosive (es. crescita di monocristallini SiC PVT), si consigliaCVD TaC, che offre una resistenza superiore alla temperatura e alla corrosione. Possiamo fornire un rapporto gratuito sulle raccomandazioni di selezione in base ai parametri di processo specifici.

2. D: Supportate la prototipazione di pezzi singoli/piccoli lotti? Qual è il tempo di consegna?

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UN:SÌ! Per i prototipi di reverse engineering,MOQ è 1 pezzo. Per le parti semplici convenzionali, dal ricevimento del campione alla consegna della parte mappata, il tempo di consegna più rapido è approssimativo10-15 giorni lavorativi; per le parti che implicano processi di rivestimento complessi è approssimativamente20–25 giorni lavorativi. Contatta i nostri ingegneri per una valutazione rapida.

3. D: Cosa causa la delaminazione del rivestimento CVD sulle parti in grafite durante l'uso? Può essere risolto?

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UN:Il 90% dei casi di delaminazione è causato dalla mancata corrispondenza tra il coefficiente di espansione termica (CTE) del substrato di grafite e del rivestimento, che porta alla sfaldamento per fatica in caso di riscaldamento/raffreddamento rapido. La nostra soluzione: misurare innanzitutto con precisione la curva CTE della parte originale, quindi regolare in modo specifico la densità del substrato e il gradiente della temperatura di deposizione in modo che i due CTE siano perfettamente abbinati. La forza del legame può essere migliorata oltre1,5 voltelivello convenzionale del settore.

4. D: Potete fornire un CoA (Certificato di Analisi) per i prodotti? Quali dati include?

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UN:Ogni prodotto spedito viene fornito di serie con anumero di serie univoco + rapporto CoA completo. Il rapporto include: dati di ispezione CMM di dimensione critica, mappa di distribuzione dello spessore del rivestimento multipunto, valori di rugosità superficiale (Ra) e conclusioni dell'analisi di purezza del materiale (GDMS).

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Telefono: +86-18069220752(Tina);+86-15988690905(Sera)

E-mail: anny@veteksemi.com

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