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Wangda Road, Ziyang Street, contea di Wuyi, città di Jinhua, provincia di Zhejiang, Cina
Selezionare la combinazione di substrato e rivestimento corrispondente è la chiave per prevenire guasti prematuri dei componenti, ridurre la contaminazione delle particelle e massimizzare la resa dei wafer. Forniamo soluzioni di progettazione strutturale e di materiali su misura in base alla finestra di processo specifica del cliente (temperatura operativa, chimica dei gas reattivi, velocità di rampa).
| Rivestimento | Direzioni applicative tipiche | Vantaggi fondamentali |
|---|---|---|
| CVD SiC | Epitassia Si/SiC (Epi), MOCVD, attacco parziale al plasma | Elevata purezza, buona stabilità termica, resistenza alla corrosione chimica, elevato rapporto costo-prestazioni complessivo |
| CVD TaC | Crescita monocristallina SiC ad alta temperatura (PVT), componenti portanti a temperature estremamente elevate | Temperatura nominale più elevata (>1600 °C), forte resistenza alla corrosione, eccellente resistenza all'ossidazione |
Un produttore leader di epitassia (Epi) SiC:Il componente originale utilizzava un rivestimento CVD TaC non corrispondente, che provocava un eccessivo stress interfacciale e frequenti microfessure ad alta temperatura. Abbiamo eseguito nuovamente le simulazioni termodinamiche e siamo passati a aSubstrato speciale in grafite ad elevata purezza abbinato al CTE + strato tampone + rivestimento SiC CVDsoluzione. Risultato: la durata media dei componenti è aumentata da 200 ore a 850 ore; la frequenza di sostituzione annua per utensile è scesa da 40 a 9 volte; Il risparmio sui costi di gestione e manutenzione di apparecchiature complete ha superato i 650.000 RMB all'anno.
Rapporto di analisi della purezza GDMS per rivestimenti TaC e SiC
UN:Osserva la temperatura del processo e l'intensità della corrosione in fase gassosa. Se la temperatura del processo è inferiore a 1000 °C e prevede principalmente l'attacco a base di Cl₂/F₂ o l'epitassia convenzionale, scegliereCVD SiCper il miglior rapporto costo-prestazioni; se la temperatura del processo supera i 1200 °C e prevede atmosfere fortemente corrosive (es. crescita di monocristallini SiC PVT), si consigliaCVD TaC, che offre una resistenza superiore alla temperatura e alla corrosione. Possiamo fornire un rapporto gratuito sulle raccomandazioni di selezione in base ai parametri di processo specifici.
UN:SÌ! Per i prototipi di reverse engineering,MOQ è 1 pezzo. Per le parti semplici convenzionali, dal ricevimento del campione alla consegna della parte mappata, il tempo di consegna più rapido è approssimativo10-15 giorni lavorativi; per le parti che implicano processi di rivestimento complessi è approssimativamente20–25 giorni lavorativi. Contatta i nostri ingegneri per una valutazione rapida.
UN:Il 90% dei casi di delaminazione è causato dalla mancata corrispondenza tra il coefficiente di espansione termica (CTE) del substrato di grafite e del rivestimento, che porta alla sfaldamento per fatica in caso di riscaldamento/raffreddamento rapido. La nostra soluzione: misurare innanzitutto con precisione la curva CTE della parte originale, quindi regolare in modo specifico la densità del substrato e il gradiente della temperatura di deposizione in modo che i due CTE siano perfettamente abbinati. La forza del legame può essere migliorata oltre1,5 voltelivello convenzionale del settore.
UN:Ogni prodotto spedito viene fornito di serie con anumero di serie univoco + rapporto CoA completo. Il rapporto include: dati di ispezione CMM di dimensione critica, mappa di distribuzione dello spessore del rivestimento multipunto, valori di rugosità superficiale (Ra) e conclusioni dell'analisi di purezza del materiale (GDMS).
Telefono: +86-18069220752(Tina);+86-15988690905(Sera)
E-mail: anny@veteksemi.com