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Il raggio ionico viene utilizzato principalmente per l'attacco a ioni, il rivestimento ionico e l'iniezione di plasma. Il ruolo della griglia del raggio di ioni è di sezionare gli ioni e accelerarli all'energia richiesta. Vetek Semiconductor fornisce una griglia di sputter di sputter a fascio di ioni a fascio di ioni a fascio di grafite ad alta purezza per lucidatura a fascio di lenti ottiche, modifica del wafer di semiconduttore, ecc. Benvenuti a indagare sui prodotti personalizzati.

La grafite isotropica ad alta purezza a grana fine è un materiale necessario per applicazioni di fascia alta come semiconduttori e fotovoltaici e ha ampie prospettive di mercato. Con i progressi tecnologici, Vetek Semiconductor ha le capacità di produzione e fornitura per grandi quantità di grafite isotropica ad alta purezza a grana fine. Accogliamo con favore le tue richieste in qualsiasi momento.

La campana di quarzo di grado semiconduttore è un importante componente dell'apparecchiatura utilizzato principalmente in ambienti ad alta temperatura, alta pressione e elevata purezza. È realizzato in materiale di quarzo di elevata purezza, ha un'eccellente stabilità termica, resistenza chimica e trasparenza ottica ed è ampiamente utilizzato in campi industriali come la produzione di semiconduttori e la produzione di LED. VeTek Semiconductor ha molti anni di accumulo di processi nella campana di quarzo di grado semiconduttore e può fornire prodotti personalizzati in base alle esigenze del cliente. In attesa della tua richiesta.

VeTek Semiconductor fornisce wafer boat al quarzo ad alta purezza ad alte prestazioni, progettato per le applicazioni più esigenti nella produzione di semiconduttori e fotovoltaica. Realizzato in materiale di quarzo di alta qualità, ha caratteristiche di contaminazione estremamente bassa, garantendo prestazioni eccellenti della barca per wafer al quarzo ad alta purezza in ambienti ad alta temperatura e può prevenire efficacemente la contaminazione dei wafer. Scegli VeTek Semiconductor per migliorare il tuo processo di produzione. Attendo con ansia la tua richiesta in qualsiasi momento.

Un componente importante utilizzato nel processo di incisione della fabbricazione del wafer è l'anello di messa a fuoco del plasma, la cui funzione è quella di tenere il wafer in posizione per mantenere la densità plasmatica e prevenire la contaminazione dei lati del wafer. VETEK Semiconductor fornisce materiale per focus sull'incisione plasmatica.

Nel processo di ossidazione dei semiconduttori e diffusione, è ampiamente utilizzato un tubo di diffusione del quarzo ad alta purezza. Come produttore leader e fornitore di tubo di diffusione al quarzo ad alta purezza in Cina, Vetek Semiconductor può fornirti prodotti di alta qualità. In attesa della tua richiesta.