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La piastra portante in carburo di silicio Veteksemicon per incisione a LED, progettata specificamente per la produzione di chip LED, è un materiale di consumo principale nel processo di incisione. Realizzato in carburo di silicio di elevata purezza sinterizzato con precisione, offre eccezionale resistenza chimica e stabilità dimensionale alle alte temperature, resistendo efficacemente alla corrosione di acidi forti, basi e plasma. Le sue proprietà di bassa contaminazione garantiscono rendimenti elevati per i wafer epitassiali LED, mentre la sua durata, di gran lunga superiore a quella dei materiali tradizionali, aiuta i clienti a ridurre i costi operativi complessivi, rendendolo una scelta affidabile per migliorare l'efficienza e la coerenza del processo di incisione.

La barca in grafite Veteksemicon per PECVD è lavorata con precisione da grafite di elevata purezza e progettata specificamente per processi di deposizione di vapori chimici potenziati dal plasma. Sfruttando la nostra profonda conoscenza dei materiali semiconduttori del campo termico e le capacità di lavorazione di precisione, offriamo barchette in grafite con eccezionale stabilità termica, eccellente conduttività e lunga durata. Queste imbarcazioni sono progettate per garantire una deposizione di film sottile altamente uniforme su ogni wafer nell'esigente ambiente di processo PECVD, migliorando la resa e la produttività del processo.

L'anello in grafite rivestito CVD TaC di Veteksemicon è progettato per soddisfare le esigenze estreme della lavorazione dei wafer a semiconduttore. Utilizzando la tecnologia CVD (Chemical Vapor Deposition), un rivestimento denso e uniforme di carburo di tantalio (TaC) viene applicato a substrati di grafite di elevata purezza, ottenendo eccezionale durezza, resistenza all'usura e inerzia chimica. Nella fabbricazione di semiconduttori, l'anello di grafite rivestito in TaC CVD è ampiamente utilizzato nelle camere MOCVD, di incisione, di diffusione e di crescita epitassiale, fungendo da componente strutturale o di tenuta chiave per supporti wafer, suscettori e gruppi di schermatura. In attesa di una vostra ulteriore consultazione.

L'anello in grafite porosa rivestita in TaC prodotto da VETEK utilizza un substrato di grafite porosa leggero ed è rivestito con un rivestimento in carburo di tantalio di elevata purezza, caratterizzato da un'eccellente resistenza alle alte temperature, ai gas corrosivi e all'erosione del plasma

La pala cantilever in carburo di silicio di Veteksemicon è progettata per la lavorazione avanzata dei wafer nella produzione di semiconduttori. Realizzato in SiC di elevata purezza, offre eccezionale stabilità termica, resistenza meccanica superiore ed eccellente resistenza alle alte temperature e agli ambienti corrosivi. Queste caratteristiche garantiscono una gestione precisa dei wafer, una durata operativa prolungata e prestazioni affidabili in processi quali MOCVD, epitassia e diffusione. Benvenuti a consultare.

Il mandrino sottovuoto in ceramica SiC Veteksemicon per wafer è progettato per offrire precisione e affidabilità eccezionali nella lavorazione dei wafer a semiconduttore. Realizzato in carburo di silicio di elevata purezza, garantisce un'eccellente conduttività termica, resistenza chimica e resistenza meccanica superiore, rendendolo ideale per applicazioni impegnative come incisione, deposizione e litografia. La sua superficie ultrapiatta garantisce un supporto stabile del wafer, minimizzando i difetti e migliorando la resa del processo. questo mandrino a vuoto è la scelta affidabile per la gestione dei wafer ad alte prestazioni.