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Wangda Road, Ziyang Street, contea di Wuyi, città di Jinhua, provincia di Zhejiang, Cina
Applicazione: La barca in grafite Veteksemicon per PECVD è un componente fondamentale nel processo di deposizione di vapori chimici potenziato dal plasma. È progettato specificatamente per depositare nitruro di silicio, ossido di silicio e altri film sottili di alta qualità su wafer di silicio, semiconduttori compositi e substrati di pannelli di visualizzazione. Le sue prestazioni determinano direttamente l'uniformità del film, la stabilità del processo e il costo di produzione.
Servizi che possono essere forniti: analisi dello scenario applicativo del cliente, abbinamento dei materiali, risoluzione dei problemi tecnici.
Profilo Aziendale:Veteksemicon dispone di 2 laboratori, un team di esperti con 20 anni di esperienza sui materiali, con capacità di ricerca e sviluppo e produzione, test e verifica.
Informazioni generali sul prodotto
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Luogo di origine: |
Cina |
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Marchio: |
Il mio rivale |
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Numero di modello: |
Barca in grafite per PECVD-01 |
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Certificazione: |
ISO9001 |
Termini commerciali del prodotto
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Quantità minima di ordine: |
Soggetto a negoziazione |
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Prezzo: |
Contattoper preventivo personalizzato |
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Dettagli dell'imballaggio: |
Pacchetto di esportazione standard |
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Tempi di consegna: |
Tempi di consegna: 30-45 giorni dalla conferma dell'ordine |
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Termini di pagamento: |
T/T |
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Capacità di fornitura: |
1000 unità/mese |
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progetto |
parametro |
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Materiale di base |
Grafite ad alta purezza pressata isostaticamente |
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Densità del materiale |
1,82 ± 0,02 g/cm3 |
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Temperatura massima di esercizio |
1600°C (atmosfera sotto vuoto o gas inerte) |
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Specifiche compatibili con wafer |
Supporta da 100 mm (4 pollici) a 300 mm (12 pollici), personalizzabile |
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Capacità dello scivolo |
Personalizzato in base alle dimensioni della camera del cliente, il valore tipico è di 50 - 200 pezzi (6 pollici) |
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Opzioni di rivestimento |
Carbone pirolitico/Carburo di silicio |
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spessore del rivestimento |
Standard 20 - 50 μm (personalizzabile) |
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Rugosità superficiale (dopo il rivestimento) |
Ra ≤ 0,6 μm |
Principali campi di applicazione
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Direzione dell'applicazione |
Scenario tipico |
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Industria fotovoltaica |
Deposizione di film antiriflesso in nitruro di silicio/ossido di alluminio per cella fotovoltaica |
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Front-end a semiconduttore |
Processo PECVD con semiconduttori composti/a base di silicio |
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Visualizzazione avanzata |
Deposizione dello strato di incapsulamento del pannello display OLED |
1. Substrati di elevata purezza, che controllano l'inquinamento dalla fonte
Insistiamo sull'utilizzo di grafite ad alta purezza pressata isostaticamente con una purezza stabile superiore al 99,995% come materiale di base per garantire che non faccia precipitare impurità metalliche anche in un ambiente operativo continuo di 1600°C. Questo severo requisito relativo ai materiali può evitare direttamente il degrado delle prestazioni del wafer causato dalla contaminazione del supporto, fornendo la garanzia fondamentale per la deposizione di pellicole di nitruro di silicio o ossido di silicio di alta qualità.
2. Campo termico preciso e progettazione strutturale per garantire l'uniformità del processo
Attraverso un'ampia simulazione dei fluidi e dati di misurazione del processo, abbiamo ottimizzato l'angolo della fessura dell'imbarcazione, la profondità della scanalatura della guida e il percorso del flusso del gas. Questa meticolosa considerazione strutturale consente una distribuzione uniforme dei gas reattivi tra i wafer. Le misurazioni effettive mostrano che a pieno carico, la deviazione dell'uniformità dello spessore della pellicola tra wafer nello stesso lotto può essere controllata stabilmente entro ±1,5%, migliorando significativamente la resa del prodotto.
3. Soluzioni di rivestimento personalizzate per affrontare la corrosione di processo specifica
Per soddisfare i diversi ambienti dei gas di processo di diversi clienti, offriamo due opzioni di rivestimento mature: carbonio pirolitico e carburo di silicio. Se si deposita principalmente nitruro di silicio e si utilizza la pulizia con idrogeno, il denso rivestimento di carbonio pirolitico può fornire un'eccellente resistenza all'erosione del plasma di idrogeno. Se il processo prevede gas detergenti contenenti fluoro, il rivestimento in carburo di silicio ad alta durezza è la scelta migliore. Può prolungare la durata della barca in grafite in ambienti altamente corrosivi fino a oltre tre volte quella dei normali prodotti non rivestiti.
4. Eccellente stabilità allo shock termico, adattabile a frequenti cicli di temperatura
Grazie alla nostra esclusiva formula di grafite e al design delle nervature di rinforzo interne, le nostre imbarcazioni in grafite possono resistere ai ripetuti shock di raffreddamento e riscaldamento rapidi del processo PECVD. Nei rigorosi test di laboratorio, dopo 500 cicli termici rapidi dalla temperatura ambiente a 800°C, il tasso di ritenzione della resistenza alla flessione dell'imbarcazione superava ancora il 90%, evitando efficacemente fessurazioni causate dallo stress termico e garantendo continuità e sicurezza della produzione.
5. Approvazione della verifica della catena ecologica
La barca in grafite Veteksemicon per la verifica della catena ecologica PECVD copre le materie prime fino alla produzione, ha superato la certificazione standard internazionale e dispone di una serie di tecnologie brevettate per garantirne l'affidabilità e la sostenibilità nei campi dei semiconduttori e delle nuove energie.
Per specifiche tecniche dettagliate, white paper o modalità di test dei campioni, contatta il nostro team di supporto tecnico per esplorare come Veteksemicon può migliorare l'efficienza del tuo processo.
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