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Anello di messa a fuoco in SiC solido
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Anello di messa a fuoco in SiC solido

L'anello di focalizzazione in SiC solido Veteksemi migliora significativamente l'uniformità dell'incisione e la stabilità del processo controllando con precisione il campo elettrico e il flusso d'aria sul bordo del wafer. È ampiamente utilizzato nei processi di incisione di precisione per silicio, dielettrici e materiali semiconduttori composti ed è un componente chiave per garantire la resa della produzione di massa e il funzionamento affidabile delle apparecchiature a lungo termine.

1. Informazioni generali sul prodotto

Luogo di origine:
Cina
Marchio:
Veteksem
Numero di modello:
Anello di messa a fuoco in SiC solido-01
Certificazione:
ISO9001

2. Termini commerciali del prodotto

Quantità minima di ordine:
Soggetto a negoziazione
Prezzo:
Contatto per preventivo personalizzato
Dettagli dell'imballaggio:
Pacchetto di esportazione standard
Tempi di consegna:
Tempi di consegna: 30-45 giorni dalla conferma dell'ordine
Termini di pagamento:
T/T
Capacità di fornitura:
100 unità/mese

3.Applicazione:L'anello di focalizzazione in SiC solido Veteksemi migliora significativamente l'uniformità dell'incisione e la stabilità del processo controllando con precisione il campo elettrico e il flusso d'aria sul bordo del wafer. È ampiamente utilizzato nei processi di incisione di precisione per silicio, dielettrici e materiali semiconduttori composti ed è un componente chiave per garantire la resa della produzione di massa e il funzionamento affidabile delle apparecchiature a lungo termine.

Servizi che possono essere forniti:analisi dello scenario applicativo del cliente, abbinamento dei materiali, risoluzione dei problemi tecnici.

Profilo Aziendale:Semixlab dispone di 2 laboratori, un team di esperti con 20 anni di esperienza sui materiali, con capacità di ricerca e sviluppo e produzione, test e verifica.


4.Descrizione:

L'anello di messa a fuoco in SiC solido Veteksemi è progettato specificamente per processi avanzati di attacco dei semiconduttori. Realizzato con precisione in carburo di silicio di elevata purezza, offre un'eccellente resistenza alle alte temperature, resistenza alla corrosione al plasma e stabilità meccanica. Adatto a una varietà di ambienti di produzione di semiconduttori esigenti, questo prodotto migliora significativamente l'uniformità del processo, estende i cicli di manutenzione delle apparecchiature e riduce i costi di produzione complessivi.


5.TParametri tecnici

Progetto
Parametro
Materiale
Carburo di silicio sinterizzato di elevata purezza
Densità
≥3,10 g/cm3
Conduttività termica
120 W/m·K(@25°C)
Coefficiente di dilatazione termica
4,0×10-6/°C(20-1000°C)
Rugosità superficiale
Ra≤0,5μm (standard), può essere personalizzato a 0,2μm
Dispositivi applicabili
Applicabile alle principali macchine per incisione come Applied Materials, Lam Research e TEL


6.Principali campi di applicazione

Direzione dell'applicazione
Direzione dell'applicazioneScenario tipico
Processo di attacco dei semiconduttori
Incisione del silicio, incisione dielettrica, incisione dei metalli, ecc
Produzione di dispositivi ad alta potenza
Processo di attacco dei dispositivi basato su SiC e GaN
Imballaggio avanzato
Processo di incisione a secco in imballaggi a livello di wafer


7. Vantaggi del nucleo dell'anello di messa a fuoco SiC solido Veteksem


Eccellente resistenza alla corrosione al plasma

In caso di esposizione prolungata a plasmi altamente corrosivi e ad alta densità come CF4, O2 e Cl2, i materiali convenzionali sono soggetti a rapida usura e contaminazione da particelle. Il nostro solido anello di messa a fuoco in SiC mostra un'eccellente resistenza alla corrosione, con un tasso di corrosione di gran lunga inferiore a quello di materiali come quarzo o allumina. Ciò significa che mantiene una superficie liscia nel tempo, riducendo significativamente il rischio di difetti dei wafer causati dall'usura dei componenti, garantendo una produzione di massa continua e stabile.


Eccellente stabilità alle alte temperature e prestazioni di gestione termica

Il processo di attacco dei semiconduttori genera calore significativo, causando notevoli fluttuazioni di temperatura nei componenti della camera. I nostri anelli di messa a fuoco hanno un coefficiente di dilatazione termica estremamente basso, in grado di resistere a temperature transitorie fino a 1600°C senza crepe o deformazioni. Inoltre, la loro elevata conduttività termica intrinseca aiuta a disperdere il calore in modo uniforme e rapido, migliorando efficacemente la distribuzione della temperatura sul bordo del wafer, migliorando cosìgarantendo l'uniformità dell'incisione e la consistenza delle dimensioni critiche sull'intero wafer.


Straordinaria purezza dei materiali e densità strutturale

Controlliamo rigorosamente la purezza delle materie prime di carburo di silicio (≥99,999%) ed eliminiamo la contaminazione dei metalli durante il processo di sinterizzazione per soddisfare i severi requisiti dei processi di produzione avanzati per il controllo delle tracce di impurità. La struttura densa formata attraverso la sinterizzazione ad alta temperatura ha una porosità estremamente bassa, bloccando quasi completamente la penetrazione dei gas di processo e dei sottoprodotti. Ciò impedisce il degrado delle prestazioni e la crescita di particelle causata dal degrado del materiale interno, garantendo un ambiente puro della camera di processo.


Lunga durata meccanica e completa redditività

Rispetto ai materiali di consumo convenzionali che richiedono sostituzioni frequenti, gli anelli di messa a fuoco solidi SiC Veteksemi offrono una durata eccezionale. Mantengono prestazioni stabili per tutta la loro durata di servizio, estendendo più volte i cicli di sostituzione. Ciò non solo riduce direttamente i costi di approvvigionamento dei pezzi di ricambio, ma migliora anche significativamente l'utilizzo delle macchine riducendo i tempi di fermo delle apparecchiature per la manutenzione, con conseguenti notevoli vantaggi in termini di costi complessivi per i clienti.


Controllo preciso delle dimensioni e servizi di personalizzazione flessibili

Comprendiamo i requisiti precisi di diverse macchine e processi per i materiali di consumo. Ogni anello di messa a fuoco è sottoposto a lavorazione di precisione e test rigorosi per garantire tolleranze dimensionali critiche entro ± 0,05 mm. Offriamo anche servizi personalizzati, tra cui dimensioni personalizzate, finiture superficiali (lucidatura fino a Ra ≤ 0,2μm) e regolazioni della conduttività per soddisfare perfettamente i vostri requisiti di processo specifici e scenari applicativi.


Per specifiche tecniche dettagliate, white paper o modalità di test di campioni, contatta il nostro team di supporto tecnico per esplorare come Veteksemi può migliorare l'efficienza del tuo processo.





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