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Copertura rivestita in carburo di tantalum
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Copertura rivestita in carburo di tantalum

Vetek Semiconductor è uno dei principali produttori di coperture rivestite in carburo di Tantalum e innovatore in Cina. Siamo stati specializzati nel rivestimento TAC e SIC per molti anni. I nostri prodotti hanno una resistenza alla corrosione, alta resistenza. Non vediamo l'ora di diventare il tuo partner a lungo termine in Cina. Ben per consultare in qualsiasi momento.

Trova una vasta selezione di copertura rivestita in carburo di Tantalum dalla Cina a Vetek Semiconductor. Fornire un servizio post-vendita professionale e il giusto prezzo, in attesa di cooperazione. La copertura rivestita in carburo di TantaLum sviluppata da Vetek Semiconductor è un accessorio appositamente progettato per il sistema MOCVD Aixtron G10, con l'obiettivo di ottimizzare l'efficienza e migliorare la qualità della produzione di semiconduttori. È meticolosamente realizzato utilizzando materiali di alta qualità e fabbricato con la massima precisione, garantendo prestazioni e affidabilità eccezionali per i processi di deposizione di vapore chimico metallo-organico (MOCVD).


Costruito con un substrato di grafite rivestito con deposizione di vapore chimico (CVD) Tantalum Carburo (TAC), copertura rivestita in carburo di TantaLum offre una stabilità termica eccezionale, alta purezza e resistenza a temperature elevate. Questa combinazione unica di materiali fornisce una soluzione affidabile per le condizioni operative esigenti del sistema MOCVD.


La copertura rivestita in carburo di TantaLum è personalizzabile per ospitare varie dimensioni dei wafer a semiconduttore, rendendolo adatto a diversi requisiti di produzione. La sua costruzione robusta è specificamente progettata per resistere all'ambiente MOCVD impegnativo, garantendo prestazioni di lunga durata e minimizzando i tempi di inattività e i costi di manutenzione associati a vettori di wafer e suscettori.


Incorporando la copertura TAC nel sistema MOCVD Aixtron G10, i produttori di semiconduttori possono ottenere una maggiore efficienza e risultati superiori. L'eccezionale stabilità termica, la compatibilità con diverse dimensioni di wafer e le prestazioni affidabili del disco planetario lo rendono uno strumento indispensabile per ottimizzare l'efficienza della produzione e ottenere risultati eccezionali nel processo MOCVD.



Parametro del prodotto della copertura rivestita in carburo di Tantalum

Proprietà fisiche del rivestimento TAC
Densità 14.3 (g/cm³)
Emissività specifica 0.3
Coefficiente di espansione termica 6.3 10-6/K
Durezza (HK) 2000 HK
Resistenza 1 × 10-5Ohm*cm
Stabilità termica <2500 ℃
La dimensione della grafite cambia -10 ~ -20um
Spessore del rivestimento ≥20um Valore tipico (35um ± 10um)


Prestazioni del wafer dopo aver usato i nostri componenti:

the Wafer performance after using our components


Semiconduttore commerciale:

Tantalum Carbide Coated Cover shops


Panoramica della catena dell'industria dell'epitassia del chip a semiconduttore:

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain


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