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Copertura del rivestimento in carburo di tantalum
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Copertura del rivestimento in carburo di tantalum

La copertura del rivestimento in carburo di Tantalum è composta da grafite di alta purezza e rivestimento TAC. Vetek Semiconductor è un fornitore e produttore leader di copertura di rivestimento in carburo di Tantalum in Cina. Ci concentriamo sulla fornitura di prodotti in carburo di tantalum resistenti ad alta purezza e ad alta temperatura. La nostra copertura rivestita in carburo di Tantalum ha prestazioni e affidabilità eccellenti e può proteggere efficacemente i materiali in ambienti estremamente elevati e corrosivi. Non vediamo l'ora di diventare il tuo partner a lungo termine in Cina. Benvenuti per consultare in qualsiasi momento.

Vetek Semiconducto è un produttore e fornitore di coperture per rivestimento in carburo di Cina Tantalum professionista. La nostra copertura per rivestimento in carburo di TantaLum rappresenta l'ultima soluzione nelle applicazioni termiche per i processi di crescita dei cristalli ed epitassia (EPI). Questa copertina unica accuratamente realizzata è una componente fondamentale per sostenere la formazione di cristalli e la deposizione di film epitassiali.

Il materiale principale della copertura di grafite rivestita TAC è realizzato in grafite di alta qualità, che è noto per la sua eccellente conducibilità termica e stabilità. La capacità di Grafite di resistere alle temperature estreme lo rende un materiale ideale per le applicazioni sul campo termico, garantendo la longevità e l'affidabilità in ambienti esigenti.

La caratteristica unica della copertina di grafite rivestita TAC è il suo rivestimento innovativo in carburo di Tantalum (TAC). Questo rivestimento avanzato migliora le prestazioni della copertura aggiungendo uno strato robusto di protezione e migliorando la sua resistenza a corrosione, usura e shock termico. Il rivestimento TAC non solo migliora la forza della copertura in condizioni difficili, ma migliora anche l'efficienza e estende la sua durata di servizio.

Durante il processo di crescita dei cristalli, la copertura di grafite rivestita TAC facilita il controllo preciso della temperatura e distribuisce uniformemente il calore, creando un ambiente che favorisce la formazione di cristalli di alta qualità. Inoltre, la sua adattabilità durante il processo di epitassia garantisce una deposizione controllata di film sottili, che è fondamentale per le applicazioni di semiconduttori e scientifiche dei materiali.

Questo cappuccio di grafite rivestito attentamente progettato dimostra completamente la sinergia tra le proprietà intrinseche della grafite e le capacità migliorate fornite dal rivestimento TAC. Utilizzato nei laboratori, negli istituti di ricerca o negli ambienti industriali, il limite di grafite rivestito TAC è un modello di innovazione tecnologica termica, fornendo una soluzione affidabile e durevole per la crescita dei cristalli e i processi di epitassia. Vetek Semiconductor continuerà a impegnarsi a fornire ai clienti le soluzioni tecnologiche più avanzate e il supporto completo.


Parametro del prodotto della copertura del rivestimento in carburo di Tantalum

Proprietà fisiche del rivestimento TAC
Densità 14.3 (g/cm³)
Emissività specifica 0.3
Coefficiente di espansione termica 6.3 10-6/K
Durezza (HK) 2000 HK
Resistenza 1 × 10-5Ohm*cm
Stabilità termica <2500 ℃
La dimensione della grafite cambia -10 ~ -20um
Spessore del rivestimento ≥20um Valore tipico (35um ± 10um)


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Panoramica della catena dell'industria dell'epitassia del chip a semiconduttore:

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain


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