Carburo di tantalum poroso

VETEK Semiconductor Poroso Tantalum Carburo (TAC) è un materiale ceramico ad alte prestazioni che combina le proprietà di tantalum e carbonio. La sua struttura porosa è molto adatta per applicazioni specifiche in ambienti ad alta temperatura e estremi. TAC combina un'eccellente durezza, stabilità termica e resistenza chimica, rendendolo una scelta di materiale ideale nella lavorazione dei semiconduttori.

Il carburo di tantalum poroso (TAC) è composto da tantalum (TA) e carbonio (c), in cui il tantalum forma un forte legame chimico con atomi di carbonio, dando il materiale a durata estremamente elevata e resistenza all'usura. La struttura porosa del TAC poroso viene creata durante il processo di produzione del materiale e la porosità può essere controllata in base alle esigenze di applicazione specifiche. Questo prodotto è generalmente prodotto dadeposizione di vapore chimico (CVD)Metodo, garantendo un controllo preciso delle dimensioni e della distribuzione dei pori.

Struttura molecolare del carburo di Tantalum

Vetek Semiconductor poroso tantalum carburo (TAC) ha le seguenti caratteristiche del prodotto

● Porosità: La struttura porosa gli dà diverse funzioni in scenari di applicazione specifici, tra cui diffusione del gas, filtrazione o dissipazione del calore controllata.

● Punto di fusione elevato: Il carburo di Tantalum ha un punto di fusione estremamente elevato di circa 3.880 ° C, adatto per ambienti di temperatura estremamente elevata.

● Eccellente durezza: Poroso TAC ha una durezza estremamente elevata di circa 9-10 nella scala di durezza MOHS, simile a Diamond. e può resistere all'usura meccanica in condizioni estreme.

● Stabilità termica: Il materiale di carburo di tantalum (TAC) può rimanere stabile in ambienti ad alta temperatura e ha una forte stabilità termica, garantendo le sue prestazioni coerenti in ambienti ad alta temperatura.

● Alta conducibilità termica: Nonostante la sua porosità, il carburo di Tantalum poroso mantiene ancora una buona conduttività termica, garantendo un efficiente trasferimento di calore.

● Coefficiente di espansione termica bassa: Il basso coefficiente di espansione termica del carburo di TantaLum (TAC) aiuta il materiale a rimanere dimensionalmente stabile a fluttuazioni di temperatura significative e riduce l'impatto dello stress termico.

Proprietà fisiche del rivestimento TAC

Nella produzione di semiconduttori, il carburo di Tantalum poroso (TAC) svolge il seguente ruolo chiave specificos

In processi ad alta temperatura comeIncisione al plasmae CVD, vetek Semiconductor poroso tantalum carburo viene spesso usato come rivestimento protettivo per l'equipaggiamento di lavorazione. Ciò è dovuto alla forte resistenza alla corrosione diRivestimento TACe la sua stabilità ad alta temperatura. Queste proprietà assicurano che protegga efficacemente le superfici esposte a gas reattivi o temperature estreme, garantendo così la normale reazione di processi ad alta temperatura.

Nei processi di diffusione, il carburo di tantalum poroso può fungere da efficace barriera di diffusione per prevenire la miscelazione di materiali nei processi ad alta temperatura. Questa caratteristica viene spesso utilizzata per controllare la diffusione dei droganti in processi come l'impianto di ioni e il controllo della purezza dei wafer a semiconduttore.

La struttura porosa del vetek a semiconduttore poroso tantalum carburo è molto adatta per ambienti di elaborazione dei semiconduttori che richiedono un controllo preciso del flusso di gas o una filtrazione. In questo processo, Poroso TAC svolge principalmente il ruolo della filtrazione e della distribuzione del gas. La sua inerzia chimica garantisce che non vengano introdotti contaminanti durante il processo di filtrazione. Ciò garantisce efficacemente la purezza del prodotto elaborato.

Rivestimento in carburo di tantalum (TAC) su una sezione microscopica