Subser per rivestimento TAC

Suscettore rivestito TAC di Vetek Semiconductor eTAC rivestitosquilloLavora insieme nel reattore di crescita epitassiale in carburo di silicio LPE:

● Resistenza ad alta temperatura: ILRivestimento TACIl suscettore ha un'eccellente resistenza ad alta temperatura, in grado di resistere alle temperature estreme fino a 1500 ° C nelReattore LPE. Ciò garantisce che l'attrezzatura e i componenti non si deformano o si danneggiano durante il funzionamento a lungo termine.

● Stabilità chimica: Il suscettore del rivestimento TAC si comporta eccezionalmente bene nell'ambiente di crescita del carburo di silicio corrosivo, proteggendo efficacemente i componenti del reattore dall'attacco chimico corrosivo, estendendo così la loro durata di servizio.

● Stabilità termica: Il suscettore del rivestimento TAC ha una buona stabilità termica, mantenendo la morfologia e la rugosità della superficie per garantire l'uniformità del campo di temperatura nel reattore, che è benefico per la crescita di alta qualità degli strati epitassiali in carburo di silicio.

● Anti-contaminazione: La superficie rivestita con TAC liscia e le prestazioni di TPD (desorbimento programmato a temperatura programmata) possono ridurre al minimo l'accumulo e l'adsorbimento di particelle e impurità all'interno del reattore, prevenendo la contaminazione degli strati epitassiali.

In sintesi, il suscettore e l'anello rivestiti TAC svolgono un ruolo protettivo critico nel reattore di crescita epitassiale in carburo di silicio LPE, garantendo il funzionamento stabile a lungo termine dell'attrezzatura e la crescita di alta qualità degli strati epitassiali.