Parte Halfmoon da 8 pollici per reattore LPE

In qualità di produttore professionale, VeTek Semiconductor desidera fornirti una parte Halfmoon da 8 pollici di alta qualità per il reattore LPE.

La parte a mezzaluna da 8 pollici di VeTek Semiconductor per reattore LPE è un componente essenziale utilizzato nei processi di produzione di semiconduttori, in particolare nelle apparecchiature epitassiali SiC. VeTek Semiconductor utilizza una tecnologia brevettata per produrre una parte a mezzaluna da 8 pollici per il reattore LPE, garantendo che possiedano purezza eccezionale, rivestimento uniforme e longevità eccezionale. Inoltre, queste parti presentano notevoli proprietà di resistenza chimica e stabilità termica.

Il corpo principale della parte a mezzaluna da 8 pollici per il reattore LPE è realizzato in grafite ad elevata purezza, che fornisce un'eccellente conduttività termica e stabilità meccanica. La grafite ad elevata purezza viene scelta per il suo basso contenuto di impurità, garantendo una contaminazione minima durante il processo di crescita epitassiale. La sua robustezza gli consente di resistere alle condizioni impegnative all'interno del reattore LPE.

VETEK Semiconductor Le parti a mezzamoia di grafite rivestite con la grafite sono prodotte con la massima precisione e attenzione ai dettagli. L'elevata purezza dei materiali utilizzati garantisce prestazioni e affidabilità superiori nella produzione di semiconduttori. Il rivestimento uniforme su queste parti garantisce un funzionamento costante ed efficiente durante la loro durata di servizio.

Uno dei vantaggi chiave delle nostre parti di mezzamoia di grafite rivestite con SIC è la loro eccellente resistenza chimica. Possono resistere alla natura corrosiva dell'ambiente di produzione dei semiconduttori, garantendo una durata duratura e minimizzando la necessità di frequenti sostituti. Inoltre, la loro eccezionale stabilità termica consente loro di mantenere la loro integrità strutturale e funzionalità in condizioni ad alta temperatura.

Le nostre parti Halfmoon in grafite rivestite in SiC sono state meticolosamente progettate per soddisfare i severi requisiti delle apparecchiature epitassiali SiC. Con le loro prestazioni affidabili, queste parti contribuiscono al successo dei processi di crescita epitassiale, consentendo la deposizione di film SiC di alta qualità.

Struttura cristallina del film di rivestimento CVD SIC ：