Cos'è il rivestimento TAC? - VETEK Semiconductor

Rivestimento TAC (Rivestimento in carburo di tantalum) è un materiale di rivestimento ad alte prestazioni prodotto dal processo di deposizione di vapore chimico (CVD). A causa delle eccellenti proprietà del rivestimento TAC in condizioni estreme, è ampiamente utilizzato nel processo di produzione dei semiconduttori, in particolare nelle apparecchiature e nei componenti che richiedono alta temperatura e un forte ambiente corrosivo. Il rivestimento TAC viene solitamente utilizzato per proteggere i substrati (come grafite o ceramica) da danni da alta temperatura, gas corrosivi e usura meccanica.

Proprietà fisiche del rivestimento TAC

Caratteristiche del prodotto e vantaggi

● Stabilità termica estremamente elevata:

Descrizione della caratteristica: il rivestimento TAC ha un punto di fusione superiore a 3880 ° C e può mantenere la stabilità senza decomposizione o deformazione in un ambiente di temperatura estremamente elevata.

Vantaggio: questo lo rende un materiale indispensabile in apparecchiature a semiconduttore ad alta temperatura come il rivestimento CVD TAC e il suscettore rivestito TAC, in particolare per le applicazioni nei reattori MOCVD, come l'attrezzatura Aixtron G5.

● Eccellente resistenza alla corrosione:

Descrizione della caratteristica: TAC ha inertibilità chimica estremamente forte e può resistere efficacemente all'erosione di gas corrosivi come cloruri e fluoruri.

Vantaggi: nei processi a semiconduttore che coinvolgono sostanze chimiche altamente corrosive, il rivestimento TAC protegge i componenti delle attrezzature dagli attacchi chimici, prolungano la vita di servizio e migliora la stabilità dei processi, in particolare nell'applicazione della barca di wafer in carburo di silicio e altri componenti chiave.

● Eccellente durezza meccanica:

Descrizione della funzione: La durezza del rivestimento TAC è alta quanto 9-10 MOH, il che lo rende resistente all'usura meccanica e allo stress ad alta temperatura.

Vantaggio: la proprietà ad alta durezza rende il rivestimento TAC particolarmente adatto per l'uso in ambienti ad alta usura e ad alta stress, garantendo la stabilità a lungo termine e l'affidabilità delle attrezzature in condizioni difficili.

● Bassa reattività chimica:

Descrizione della caratteristica: a causa della sua inerzia chimica, il rivestimento TAC può mantenere una bassa reattività in ambienti ad alta temperatura ed evitare reazioni chimiche non necessarie con gas reattivi.

Vantaggio: ciò è particolarmente importante nel processo di produzione dei semiconduttori perché garantisce la purezza dell'ambiente di processo e la deposizione di materiali di alta qualità.

Il ruolo del rivestimento TAC nell'elaborazione dei semiconduttori

● Protezione dei componenti delle attrezzature chiave:

Descrizione della funzione: il rivestimento TAC è ampiamente utilizzato nei componenti chiave delle apparecchiature di produzione di semiconduttori, come il suscettore rivestito TAC, che devono funzionare in condizioni estreme. Collando con TAC, questi componenti possono funzionare per lunghi periodi di tempo in ambienti ad alta temperatura e gas corrosivi senza essere danneggiati.

● Estendi la durata dell'attrezzatura:

Descrizione della funzione: nelle apparecchiature MOCVD come Aixtron G5, il rivestimento TAC può migliorare significativamente la durata dei componenti dell'attrezzatura e ridurre la necessità di manutenzione e sostituzione delle apparecchiature a causa della corrosione e dell'usura.

● Migliorare la stabilità del processo:

Descrizione della funzione: nella produzione di semiconduttori, il rivestimento TAC garantisce l'uniformità e la coerenza del processo di deposizione fornendo una temperatura elevata e un ambiente chimico stabile. Ciò è particolarmente importante nei processi di crescita epitassiale come l'epitassia del silicio e il nitruro di gallio (GAN).

● Migliora l'efficienza del processo:

Descrizione della funzione: ottimizzando il rivestimento sulla superficie dell'attrezzatura, il rivestimento TAC può migliorare l'efficienza complessiva del processo, ridurre la velocità di difetto e aumentare la resa del prodotto. Ciò è fondamentale per la produzione di materiali a semiconduttore ad alta precisione ad alta purezza.

L'elevata stabilità termica, l'eccellente resistenza alla corrosione, la durezza meccanica e la bassa reattività chimica mostrate dal rivestimento TAC durante la lavorazione dei semiconduttori lo rendono una scelta ideale per proteggere i componenti delle apparecchiature di produzione di semiconduttori. Poiché la domanda del settore dei semiconduttori di alte temperature, elevata purezza e processi di produzione efficienti continua ad aumentare, il rivestimento TAC ha ampie prospettive di applicazione, in particolare nelle attrezzature e nei processi che coinvolgono il rivestimento CVD TAC, il suscettore rivestito TAC e Aixtron G5.

Vetek Semiconductor Technology Co., Ltd è un fornitore leader di materiali di rivestimento avanzato per l'industria dei semiconduttori. La nostra azienda si concentra sullo sviluppo di soluzioni all'avanguardia per l'industria.

Le nostre principali offerte di prodotti includonoRivestimenti in carburo di silicio CVD (SIC), rivestimenti in carburo di tantalum (TAC), SIC SIC, polveri SIC e materiali SIC di alta purezza, suscettore di grafite con rivestimento SIC, anelli di preriscaldamento, anello di diversione rivestito TAC, parti di mezzamoia, ecc., La purezza è inferiore alle 17pm, può soddisfare le esigenze dei clienti.

Vetek Semiconductor si concentra sullo sviluppo di soluzioni di tecnologia e sviluppo del prodotto all'avanguardia per l'industria dei semiconduttori.Speriamo sinceramente di diventare il tuo partner a lungo termine in Cina.