Supporto per wafer al quarzo ad alta purezza

1. Caratteristiche principali e vantaggi

• Quarzo fuso deidrossilato ad altissima purezza (SiO₂ ≥ 99,999%) con impurità metalliche controllate a livelli ppb, riducendo al minimo la contaminazione dei wafer

• Temperatura operativa a lungo termine fino a 1100 °C; resistenza ai picchi a breve termine fino a 1200 °C

• Eccellente resistenza agli shock termici e stabilità dimensionale in caso di frequenti variazioni di temperatura

• Forte inerzia chimica contro i gas di processo ossidanti e le comuni sostanze chimiche del processo a umido (HF, H₂O₂, acidi/alcali)

• Elevata planarità e superficie rettificata di precisione con bordi arrotondati per un supporto uniforme del wafer e danni ridotti ai bordi

• Basso degassamento del vuoto e basso assorbimento superficiale: adatto per processi di vuoto di precisione

• Strutture completamente personalizzabili: supporti solidi, design perforati/ventilati, caratteristiche di posizionamento a gradini, fori di posizionamento, supporti multipunto e design antideformazione ispessiti per wafer da 2-12 pollici

2. Applicazioni tipiche

Questi supporti vengono utilizzati ovunque i wafer necessitino di un supporto pulito e dimensionalmente stabile in condizioni di temperatura elevata o sostanze chimiche aggressive:

• Caricamento forni di diffusione e ricottura

• Supporto al processo di crescita del film PECVD e LPCVD

• Camera a vuoto e attrezzature di processo ad alta temperatura

• Supporti per stazioni di asciugatura post-etch e wet-clean

• Elaborazione termica dei dispositivi di potenza SiC e GaN

• Manipolazione di substrati optoelettronici e strumenti termici di laboratorio

3. Parametri tecnici chiave

• Materiale di base: quarzo fuso deidrossilato di grado semiconduttore, SiO₂ ≥ 99,999%

• Dimensioni wafer compatibili: 2, 4, 6, 8 e 12 pollici (Si, SiC, GaN, zaffiro)

• Intervallo di temperatura continua consigliato: da −20 °C a 1100 °C; picco a breve termine fino a circa 1200 °C

• Percorso di produzione: formatura di un pezzo, rettifica superficiale di precisione, arrotondamento dei bordi, ricottura di distensione e pulizia finale ultra pulita

• Configurazioni disponibili: geometrie solide, ventilate/perforate, con posizionamento a gradini, con motivo a fori e completamente personalizzate

• Focus sulle prestazioni: elevata purezza, stabilità termica, resistenza alla corrosione, planarità superficiale, basso degassamento e mantenimento dimensionale a lungo termine

• Ambito di personalizzazione: dimensioni esterne, spessore, geometria del supporto, disposizione dei fori e caratteristiche speciali basate sui disegni del cliente

4. Perché scegliere i trasportatori per wafer al quarzo ad alta purezza VeTek?

In qualità di produttore professionale di componenti semiconduttori al quarzo, VeTek Semiconductor offre:

• Supporti per wafer al quarzo ad elevata purezza progettati per ambienti termici, sotto vuoto e con processi umidi

• Controllo rigoroso della purezza, planarità della superficie e pulizia adatti alla produzione avanzata di semiconduttori

• Personalizzazione completa e design compatibili con OEM per attrezzature per forni, camere e stazioni di processo

• Prodotti complementari al quarzo semiconduttori tra cui tubi di forni, contenitori per wafer, crogioli e altri componenti di processo

I nostri supporti per wafer al quarzo ad elevata purezza aiutano a mantenere un contatto termico uniforme, riducono la contaminazione di particelle e metalli e prolungano la durata degli utensili in condizioni di processo corrosive e ad alta temperatura continua, supportando una resa più elevata e costi di proprietà inferiori nella produzione di semiconduttori.