Servizio di supporto

VeTek Semiconductor fornisce wafer e substrati monocristallini di nitruro di alluminio (AlN) di alta qualità per dispositivi semiconduttori a banda proibita ultralarga di prossima generazione. Con un bandgap ultra ampio di circa 6,2 eV, un'eccezionale conduttività termica, un eccezionale isolamento elettrico e un eccellente adattamento del reticolo e dell'espansione termica con GaN, i wafer AlN sono ideali per dispositivi RF ad alta potenza, elettronica di potenza ad alta tensione e optoelettronica per ultravioletti profondi (DUV).

Il servizio di pulizia professionale VETEK per parti in grafite rivestite SiC CVD è un servizio tecnico specializzato progettato per suscettori di apparecchiature Aixtron / Veeco MOCVD e componenti in grafite utilizzati nei processi epitassiali GaN / AlN / AlGaN. Il nostro processo di pulizia brevettato elimina completamente l'effetto memoria superficiale, ripristina il flusso di gas stabile nel reattore e protegge rigorosamente il rivestimento CVD SiC da 100 µm con perdita di spessore assoluta e zero residui metallici.

Poiché la domanda di trasduttori MEMS ad alta sensibilità e bassa potenza cresce con l'espansione delle comunicazioni 5G, dei dispositivi medici di precisione e dei dispositivi indossabili intelligenti, il nostro PZT su wafer Si/SOI fornisce una soluzione materiale fondamentale. Utilizzando processi avanzati di deposizione di film sottili come Sol-gel o sputtering, otteniamo una consistenza eccezionale e prestazioni piezoelettriche superiori su substrati di silicio. Questi wafer fungono da nucleo fondamentale per la conversione dell'energia elettromeccanica.

La crescita dei cristalli di carburo di silicio è un processo fondamentale nella produzione di dispositivi a semiconduttore ad alte prestazioni. La stabilità, la precisione e la compatibilità delle apparecchiature per la crescita dei cristalli determinano direttamente la qualità e la resa dei lingotti di carburo di silicio. Basandosi sulle caratteristiche della tecnologia Physical Vapor Transport (PVT), Veteksemi ha sviluppato un forno di riscaldamento a resistenza per la crescita dei cristalli di carburo di silicio, consentendo una crescita stabile di cristalli di carburo di silicio da 6 pollici, 8 pollici e 12 pollici con piena compatibilità con sistemi di materiali conduttivi, semiisolanti e di tipo N. Attraverso il controllo preciso di temperatura, pressione e potenza, riduce efficacemente i difetti dei cristalli come EPD (Etch Pit Density) e BPD (Basal Plane Dislocation), presentando al contempo un basso consumo energetico e un design compatto per soddisfare gli elevati standard della produzione industriale su larga scala.

Il liquame di lucidatura CMP (Chemical Mechanical Polishing Slurry) è un materiale ad alte prestazioni utilizzato nella produzione di semiconduttori e nella lavorazione di materiali di precisione. La sua funzione principale è quella di ottenere una planarità fine e una lucidatura della superficie del materiale sotto l'effetto sinergico della corrosione chimica e della macinazione meccanica per soddisfare i requisiti di planarità e qualità della superficie a livello nanometrico. In attesa di una vostra ulteriore consultazione.

Come leader produttori e fornitori di wafer SIC cinese, il wafer fittizio di rivestimento SIC CVD VETEK a semiconduttore è uno strumento specializzato nella produzione di semiconduttori, utilizzato principalmente ai fini del test del wafer di silicio e del processo di test del wafer. Le tue ulteriori richieste sono benvenute.