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Prodotti in vetrina: forniamo prodotti e servizi tecnici di alta qualità per i clienti.

Chi siamo

Chi siamo

WuYi TianYao Nuovo materiale Tech.Co.,Ltd.
WuYi TianYao New Material Tech.Co., Ltd., fondata nel 2016, è un fornitore leader di materiali di rivestimento avanzati per l'industria dei semiconduttori. Il nostro fondatore, un ex esperto dell'Istituto dei materiali dell'Accademia cinese delle scienze, ha fondato l'azienda con l'obiettivo di sviluppare soluzioni all'avanguardia per il settore.

Le nostre principali offerte di prodotti includonoRivestimenti CVD in carburo di silicio (SiC)., rivestimenti in carburo di tantalio (TaC)., SiC sfuso, polveri di SiC e materiali SiC di elevata purezza. I prodotti principali sono suscettore in grafite rivestito in SiC, anelli di preriscaldamento, anello di deviazione rivestito in TaC, parti a mezzaluna, ecc., la purezza è inferiore a 5 ppm e possono soddisfare le esigenze del cliente.

150

Dipendenti

12

Linee di produzione

2

Basi di produzione

2

Centri di ricerca e sviluppo

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Vetek è il professionista del rivestimento in carburo di silicio, rivestimento in carburo di Tantalum, produttore di grafite speciale e fornitore in Cina. Puoi essere certo di acquistare i prodotti dalla nostra fabbrica e ti offriremo il servizio post-vendita di qualità.

I nostri servizi

CNC Machining

Lavorazione CNC

Material Sintering

Sinterizzazione del materiale

Material Purification

Purificazione dei materiali

CVD Coating

Rivestimento CVD

Material Testing

Test sui materiali

I nostri vantaggi

I materiali avanzati cambiano il futuro. Mira ad essere il principale innovatore di materiali semiconduttori a livello mondiale.

Advanced Equipment & Testing Capacity

Attrezzature avanzate e capacità di test

Gestiamo 12 linee di produzione avanzate con oltre 80 set di apparecchiature CVD e di ispezione leader del settore per garantire una produzione di massa stabile e un rigoroso controllo di qualità.

Dual R&D Centers & Deep Expertise

Doppi centri di ricerca e sviluppo e profonda competenza

Fondate da un ex professore CAS con un investimento annuo in ricerca e sviluppo superiore al 30%, le nostre doppie piattaforme di ricerca e sviluppo colmano con successo il divario tra la ricerca sui meccanismi sottostanti e lo scale-up industriale.

Strategic Industry Recognition

Riconoscimento strategico del settore

In qualità di azienda guida riconosciuta nella catena industriale dei circuiti integrati, VeTek Semiconductor ha ricevuto investimenti di capitale strategici da numerosi leader di semiconduttori quotati di alto livello.

High-Purity & High-Barrier Solutions

Soluzioni ad elevata purezza e barriera elevata

Forniamo rivestimenti e componenti CVD di elevata purezza e resistenti alla temperatura che prolungano efficacemente la durata di servizio e ottimizzano i costi di produzione per clienti globali di semiconduttori e fotovoltaico.

INTRODUZIONE IN FABBRICA

VeTek Semiconductor gestisce doppi centri di ricerca e sviluppo, integrando capacità di ricerca e sviluppo e produzione. Attualmente ha 2 basi di produzione, 12 linee di produzione, oltre 150 dipendenti, ricerca e sviluppo rappresentano oltre il 30%, il nostro team si concentra su tecnologia, produzione, vendita e gestione operativa e ha una forte capacità globale. Il layout del prodotto è utilizzato principalmente nei LED, nei circuiti integrati IC, nei semiconduttori di terza generazione, nel fotovoltaico e in altri settori.

COSA DICONO I NOSTRI CLIENTI

WHAT OUR CLIENTS SAY
WHAT OUR CLIENTS SAY
WHAT OUR CLIENTS SAY

CAMPO DI APPLICAZIONE

APPLICATION FIELD
APPLICATION FIELD
APPLICATION FIELD
APPLICATION FIELD

Domande frequenti

D1: I vostri prodotti di rivestimento e componenti solidi possono essere completamente personalizzati in base ai nostri progetti?

R: Sì, la personalizzazione assoluta è il nostro punto di forza. Forniamo lavorazioni personalizzate end-to-end basate sui vostri disegni precisi, selezionando i substrati più adatti e abbinandoli a rivestimenti CVD SiC o TaC ad alta uniformità per adattarsi perfettamente alle vostre apparecchiature per semiconduttori.

Q2: Come garantite l'elevata purezza richiesta per i materiali di grado semiconduttore?

R: Implementiamo un rigoroso screening delle materie prime e processi avanzati di purificazione ad alta temperatura. Tutti gli elementi vengono analizzati in tracce utilizzando apparecchiature di test professionali come ICP-OES e GDMS per garantire che i nostri rivestimenti e i componenti in grafite soddisfino gli standard ultra puri e privi di particelle del settore dei chip.

Q3: Di quale sistema di gestione della qualità e certificazioni di settore disponete?

R: Il nostro impianto di produzione opera in stretta conformità con il sistema di gestione della qualità ISO9001. Dalla lavorazione del substrato al processo finale di deposizione chimica in fase vapore (CVD), ogni fase è sottoposta a rigorosi controlli di precisione dimensionale e superficiale prima della spedizione.

Q4: Supportate i test sui campioni prima di effettuare ordini all'ingrosso e qual è il processo?

R: Sì, accogliamo con favore la valutazione di campioni per suscettori personalizzati, imbarcazioni per wafer o wafer fittizi. Puoi fornire i tuoi parametri operativi specifici o modelli di apparecchiature (come LPE, Aixtron o ASM) e noi forniremo un campione di prova per garantire che soddisfi i tuoi requisiti termici e di processo.

Q5: Qual è il tempo di produzione tipico per prodotti standard e personalizzati?

R: Per le configurazioni standard o l'inventario disponibile, spediamo immediatamente. Per gli articoli personalizzati che richiedono lavorazioni meccaniche di precisione e trattamenti di rivestimento CVD, i tempi di consegna variano solitamente da 3 a 6 settimane, a seconda della complessità del progetto e del volume del lotto.

Q6: Che tipo di supporto tecnico post-vendita fornite ai clienti internazionali?

R: Offriamo consulenza tecnica online 24 ore su 24, 7 giorni su 7, per ottimizzare i campi termici e la durata dei componenti. Se si verificano problemi operativi o fluttuazioni di concentrazione durante l'integrazione del processo, i nostri ingegneri di ricerca e sviluppo lavoreranno con te da remoto per fornire soluzioni rapide e pratiche.

Notizia

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    Nel mondo ad alto rischio della produzione di semiconduttori, dove coesistono precisione e ambienti estremi, gli anelli di messa a fuoco in carburo di silicio (SiC) sono indispensabili. Conosciuti per la loro eccezionale resistenza termica, stabilità chimica e resistenza meccanica, questi componenti sono fondamentali per i processi avanzati di incisione al plasma. Il segreto delle loro elevate prestazioni risiede nella tecnologia Solid CVD (Chemical Vapor Deposition). Oggi vi portiamo dietro le quinte per esplorare il rigoroso percorso di produzione: da un substrato di grafite grezza a un "eroe invisibile" di alta precisione della favola.

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    Nel 2025, l'industria europea dei semiconduttori si incontrerà ancora una volta alla più grande fiera dei semiconduttori SEMICON Europa a Monaco dal 18 al 21 novembre

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    Nella moderna produzione di chip, il substrato fornisce supporto fisico e un percorso di dissipazione del calore, mentre lo strato epitassiale determina i limiti delle prestazioni elettriche del dispositivo. Questo articolo fornisce un'analisi approfondita delle differenze fondamentali tra i substrati di silicio monocristallino e carburo di silicio e i processi epitassiali CVD/MBE e rivela come la tecnologia epitassiale migliora le prestazioni dei dispositivi ad alta frequenza e alta tensione riducendo la densità dei difetti e incorporando l'ingegneria della deformazione. Che tu sia un ingegnere di processo o un decisore nel settore degli approvvigionamenti, questa guida ti aiuterà a identificare rapidamente la strategia di selezione dei wafer più adatta.

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    Perché l'anello poroso in grafite rivestito in carburo di tantalio (TaC) è fondamentale per una crescita affidabile dei cristalli SiC

    L'anello di grafite rivestito in carburo di tantalio poroso (TaC) è un componente specializzato per campo termico progettato per la crescita di cristalli singoli SiC con trasporto fisico del vapore (PVT). Combinando la grafite porosa di elevata purezza con un denso rivestimento in carburo di tantalio CVD, fornisce stabilità alle alte temperature, protezione dalla corrosione, distribuzione controllata del calore e bassa contaminazione. Questo articolo ne illustra la struttura, i vantaggi tecnici, le applicazioni, le specifiche e le considerazioni sulla selezione delle apparecchiature per la crescita dei cristalli SiC e dei semiconduttori.

  • Personalizzazione di dispositivi speciali in grafite GTMS/CTMS: soluzione per la lavorazione profonda di microfori
    2026-08-13
    Personalizzazione di dispositivi speciali in grafite GTMS/CTMS: soluzione per la lavorazione profonda di microfori

    Mirando ai processi di sigillatura ermetica GTMS/CTMS, VeTek fornisce soluzioni di fissaggio speciali personalizzate in grafite con 1.500 microfori densamente disposti per 0,01 ㎡. Corrisponde perfettamente al CTE della lega Kovar, superando la sfida della microlavorazione multi-foro in 10 mesi, ottenendo un controllo zero-difetti a livello di micron e una consegna ingegneristica one-stop.

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    Nel settore dei semiconduttori in rapida evoluzione, i materiali di precisione determinano direttamente la qualità della lavorazione dei wafer e l'efficienza produttiva. VETEK fornisce soluzioni Wafer Boat al quarzo ad alta purezza per TEL ad alte prestazioni progettate per processi di produzione avanzati di semiconduttori, offrendo eccellente stabilità termica, resistenza chimica e controllo della contaminazione per ambienti esigenti di fabbricazione di wafer.

  • Risoluzione dell'ingiallimento dei bordi del rivestimento SiC per aumentare la resa CVD dal 50% al 90%
    2026-08-05
    Risoluzione dell'ingiallimento dei bordi del rivestimento SiC per aumentare la resa CVD dal 50% al 90%

    Analisi approfondita delle cause dell'ingiallimento e del distacco dei bordi del rivestimento in carburo di silicio sui suscettori di grafite epitassia MOCVD. VeTek ha eliminato il microstress controllando con precisione la velocità di deposizione CVD iniziale e il campo di flusso, aumentando la resa del rivestimento dal 50% al 90% e prolungando la durata delle parti in grafite ad elevata purezza.

  • Come risolvere l'elevata variazione da tasca a tasca nei suscettori in grafite epitassia di silicio multitasche?
    2026-08-03
    Come risolvere l'elevata variazione da tasca a tasca nei suscettori in grafite epitassia di silicio multitasche?

    Affrontando la variazione di spessore dell'1,4% da tasca a tasca nei suscettori multitasca in grafite epitassia di silicio, VeTek Semi ha migliorato la planarità del suscettore a <0,08 mm e ridotto la variazione allo 0,69% tramite la simulazione del campo di flusso CVD e il rivestimento SiC ultrapreciso, aumentando la resa del wafer.

  • Analisi della fessurazione del suscettore in grafite rivestita in SiC MOCVD e caso di studio sull'ottimizzazione dello stress termico
    2026-07-30
    Analisi della fessurazione del suscettore in grafite rivestita in SiC MOCVD e caso di studio sull'ottimizzazione dello stress termico

    Scopri come Vetek ha eliminato le fessurazioni radiali nei suscettori in grafite rivestiti in SiC MOCVD di grandi dimensioni. La riprogettazione del buffer di stress strutturale e l'adattamento del CTE hanno aumentato la durata utile di oltre il 300%.

  • Da 4 pollici a 8 pollici: un decennio di crescita dei semiconduttori SiC
    2026-07-25
    Da 4 pollici a 8 pollici: un decennio di crescita dei semiconduttori SiC

    Un decennio di evoluzione del SiC: dalle prime sfide della commercializzazione da 4 pollici all'attuale transizione del wafer da 8 pollici. Scopri come i rivestimenti CVD SiC, i materiali Solid SiC e TaC consentono una produzione affidabile di semiconduttori.

  • VETEK Semiconduttore | Produttore di rivestimenti CVD SiC/TaC, SiC solido e materiali semiconduttori critici
    2026-07-23
    VETEK Semiconduttore | Produttore di rivestimenti CVD SiC/TaC, SiC solido e materiali semiconduttori critici

    VETEK Semiconductor è specializzata in sei principali categorie di prodotti, tra cui rivestimenti CVD SiC, rivestimenti CVD TaC, SiC solido, grafite e fibra di carbonio di elevata purezza, quarzo e ceramiche avanzate e wafer per semiconduttori. I nostri prodotti servono processi critici dei semiconduttori come l'epitassia, l'attacco e la crescita dei cristalli. Con doppie piattaforme di ricerca e sviluppo, un sistema di produzione completamente integrato e capacità di fornitura globale, siamo riconosciuti come un'impresa nazionale "piccolo gigante" specializzata e sofisticata.

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