Tubo del forno al quarzo per forno a diffusione

1. Caratteristiche principali e vantaggi

• Quarzo fuso deidrossilato di altissima purezza (SiO₂ ≥ 99,999%) con impurità metalliche controllate a livelli ppb e contenuto di ossidrile estremamente basso

• Temperatura operativa a lungo termine fino a 1100 °C; resistenza ai picchi a breve termine fino a 1200 °C

• Eccellente resistenza agli shock termici dopo la ricottura di distensione completa: resistente alle cricche dovute a rapidi cambiamenti di temperatura

• Eccezionale inerzia chimica contro i gas di processo ossidanti, riducenti e contenenti alogeni; adatto per plasma e atmosfere corrosive

• Degassamento a vuoto molto basso; la parete interna liscia riduce al minimo l'accumulo di sottoprodotti e supporta la ripetibilità del processo

• Formatura monopezzo con spessore di parete uniforme, elevata coassialità ed estremità rifinite con precisione per una tenuta affidabile

• Strutture personalizzabili: tubi diritti, tubi riduttori, tubi flangiati, lunghezze estese e configurazioni terminali speciali per forni verticali o orizzontali

2. Applicazioni tipiche

I tubi del forno al quarzo VeTek sono ampiamente utilizzati come camera di reazione centrale in:

• Forni di ossidazione termica (ossidazione a secco/umido)

• Forni a diffusione per l'introduzione di droganti (B, P, As, ecc.)

• Sistemi LPCVD per la deposizione di film sottili

• Ricottura sotto vuoto e altri processi di trattamento termico ad alta temperatura

• Compatibile con piattaforme wafer da 4 pollici, 6 pollici, 8 pollici e 12 pollici (substrati Si, SiC, GaN, zaffiro)

Supportano linee di produzione di logica, memoria, dispositivi di alimentazione, MCU, LED, MEMS e semiconduttori a banda larga che richiedono uniformità stabile della temperatura, controllo del flusso di gas e ambienti di processo ultrapuliti.

3. Parametri tecnici chiave

• Materiale: quarzo fuso deidrossilato di grado semiconduttore (SiO₂ ≥ 99,999%), basso idrossile, basse impurità metalliche

• Compatibilità wafer: 4/6/8/12 pollici

• Temperatura di esercizio a lungo termine: da −20 °C a 1100 °C; picco a breve termine fino a 1200 °C

• Processo: formatura termica di un pezzo, omogeneizzazione delle pareti, finitura finale, ricottura di distensione, prova di tenuta dell'elio, pulizia ultra-pulita

• Strutture disponibili: tubo dritto, tubo riduttore, tubo flangiato, tubo esteso/di lunghezza personalizzata, configurazioni con estremità speciali

• Personalizzazione: diametro interno/esterno, lunghezza, spessore della parete, specifiche della flangia e geometrie speciali in base ai disegni del cliente

4. Perché scegliere i tubi per forni al quarzo VeTek?

In qualità di produttore professionale di componenti semiconduttori al quarzo, VeTek Semiconductor offre:

• Tubi per forni in quarzo ad elevata purezza progettati per apparecchiature di ossidazione, diffusione, LPCVD e ricottura

• Controllo rigoroso della purezza, precisione dimensionale e pulizia adatti alla produzione in camera bianca di Classe 10/Classe 100

• Personalizzazione completa e design compatibili con OEM per forni tubolari verticali e orizzontali

• Prodotti complementari al quarzo semiconduttori, tra cui contenitori per wafer, crogioli, rivestimenti e altri componenti di processo

I nostri tubi per forni al quarzo aiutano a mantenere condizioni termiche e di flusso di gas stabili, riducono al minimo la contaminazione di particelle e metalli e prolungano la durata di servizio in cicli continui ad alta temperatura, supportando una resa più elevata e costi di proprietà inferiori nel trattamento termico dei semiconduttori.