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Veteksemicon Semiconductor Quartz Screen è una componente vitale nei sistemi di deposizione di vapore chimico-metallo-organico (MOCVD), svolgendo un ruolo cruciale nell'ottimizzazione dei processi di crescita del film sottile. Questa pagina di dettaglio del prodotto evidenzia gli schermi al quarzo ad alta purezza di Veteksemicon, progettati per migliorare l'uniformità, la purezza ed efficienza di manutenzione delle apparecchiature MOCVD.

Il crogiolo al quarzo ad alta purezza è un componente principale essenziale nei processi avanzati di produzione di semiconduttori, in particolare per applicazioni che richiedono una stabilità termica estremamente elevata, purezza chimica e accuratezza dimensionale. Veteksemicon offre crogioli al quarzo ad alta purezza superiori progettati per soddisfare le esigenze estreme dei processi di semiconduttore.

Il polino ceramico SIC poroso di Veteksemicon è una piattaforma di vuoto ingegnerizzata con precisione progettata per la manipolazione di wafer sicura e priva di particelle in processi di semiconduttore avanzati come attacco, impianto ionico, CMP e ispezione. Prodotto in carburo di silicio poroso di alta purezza, offre una eccezionale conducibilità termica, resistenza chimica e resistenza meccanica. Con dimensioni e dimensioni dei pori personalizzabili, Veteksemicon offre soluzioni su misura per soddisfare le rigide esigenze degli ambienti di elaborazione del wafer per camere pulite.

Le nostre barche di wafer al quarzo sono una soluzione di trasporto di wafer ad alta purezza su misura per i processi di produzione di semiconduttori, LED, celle solari e batterie. Ingegnerizzato per sopportare temperature elevate e ambienti chimicamente aggressivi, questa barca al quarzo presenta una bassa espansione termica, un'eccellente isolamento elettrico e una stabilità dimensionale a lungo termine. Ideale per i processi di diffusione, ossidazione e LPCVD, supporta un allineamento di wafer preciso ed è disponibile in varie dimensioni per soddisfare i diversi requisiti di apparecchiature.

Le pagaie per cantilever SIC Veteksemicon sono bracci di supporto in carburo di silicio di alta purezza progettati per la maneggevolezza dei wafer in fornaci di diffusione orizzontale e reattori epitassiali. Con l'eccezionale conduttività termica, resistenza alla corrosione e resistenza meccanica, queste pagaie assicurano stabilità e pulizia negli ambienti semiconduttori esigenti. Disponibile in dimensioni personalizzate e ottimizzato per una lunga durata.

Il blocco SIC di Veteksemicon è progettato per macinazione e diradamento ad alta efficienza di wafer di silicio e zaffiro. Con eccellente conduttività termica (≥120 W/m · K), elevata resistenza agli shock termici e resistenza all'usura superiore (MOHS ≥9), i nostri blocchi migliorano la stabilità del processo e riducono la frequenza di cambio dello strumento. Disponibile in dimensioni da 120 mm a 480 mm, con opzioni personalizzate e consegna rapida per soddisfare diverse esigenze di produzione.