Feltro morbido in fibra di carbonio a base PAN

1. Fattori chiave di prestazione

• Elevata purezza:Gradi di elevata purezza con contenuto di ceneri mantenuto al di sotto di 20 ppm, per prevenire la contaminazione durante la crescita di semiconduttori sensibili.
• Efficienza termica:La bassa conduttività termica di 0,1-0,13 W/(m*k) a 25°C mantiene i gradienti di temperatura stabili e riduce la perdita di energia.
• Resistenza al calore:Stabilità affidabile anche in ambienti superiori a 2200°C.
• Integrità strutturale:Il nostro processo di formatura a getto d'aria mantiene le fibre uniformi. Ciò previene i punti caldi e l’affaticamento dei materiali che spesso interrompono i lunghi cicli di crescita.  

3. Applicazioni

Produzione di semiconduttori:Si tratta di uno strato isolante fondamentale per le configurazioni di forni per la crescita di cristalli di silicio monocristallino e SiC.

Comunicazioni in fibra ottica:Ideale per l'uso in forni di sinterizzazione, torri di trafilatura e produzione di barre ad alta temperatura.

Ricerca avanzata:Affidabile ai forni per la crescita dello zaffiro e ai sistemi specializzati di purificazione ad alta temperatura.

4. Perché scegliere VETEK?

Produttività più veloce:Utilizzando materiali a basso calore specifico, abbiamo reso il ciclo termico molto più veloce, aumentando così direttamente la produttività giornaliera.

Schermatura affidabile:La nostra attenzione alla produzione è rivolta al rigoroso controllo della densità delle fibre; eliminiamo i punti deboli in modo da ottenere una schermatura affidabile su tutta la camera.

Standard HPSI:Per i processi HPSI e RF, i nostri standard di elevata purezza sono progettati specificamente per gestire i requisiti sensibili e di alta resistività.
Installazione semplice:Poiché il materiale è naturalmente flessibile, può essere tagliato con precisione per adattarsi a geometrie complesse, il che aiuta davvero a semplificare l'intero processo di installazione.