Portawafer per VEECO MOCVD (epitassia LED)

Caratteristiche del prodotto:

1. Base in grafite di elevata purezza con uno strato denso di SiC CVD
2. Buona uniformità termica per un'epitassia LED stabile
3. Resiste a NH₃, HCl e altri gas corrosivi utilizzati nel processo
4. Basso rilascio di particelle e lunga durata
5. I design delle tasche possono essere personalizzati per diverse dimensioni di wafer e piattaforme di reattori
6. Funziona bene per il funzionamento MOCVD a lungo termine e ad alta temperatura

Applicazioni:
Questi supporti wafer sono ampiamente utilizzati nell'epitassia dei LED e dei semiconduttori composti, tra cui:

• Epitassia LED GaN
• Epitassia LED blu-verde
• Crescita LED UV profonda
• Epitassia GaN a base di Si
• Produzione generale di semiconduttori compositi

Le soluzioni di trasporto personalizzate si adattano a più piattaforme LED MOCVD, come:

• VEECO K465i
• VEECO K700
• VEECO K868
• Aixtron G4/G5
• A7/Unimax

Vantaggi tecnici:

1. Rivestimento SiC CVDtecnologia che ti dà una buona densità e purezza
2. La variazione dello spessore del rivestimento è mantenuta entro ±10 μm: aiuta le prestazioni termiche a rimanere stabili
3. Lavorazione CNC con precisione fino a 3 μm per un buon adattamento del wafer e stabilità di rotazione
4. Il rivestimento aderisce bene e resiste alle screpolature dopo ripetuti cicli MOCVD ad alta temperatura
5. Gestisce NH₃, HCl e altri ambienti epitassia difficili senza problemi
6. Bassa generazione di particelle e superficie pulita per supportare un'elevata resaEpitassia del LED
7. Può rivestire dimensioni grandi o personalizzate per diverse piattaforme di reattori e layout di wafer
8. Lunga esperienza conparti personalizzate rivestite in grafite e SiCper l'epitassia dei LED e dei semiconduttori composti

Domande frequenti:
1. Cosa fa un portawaferMOCVDEpitassia LED?

R: Contiene e ruota i wafer all'interno del reattore MOCVD e aiuta a mantenere stabile la temperatura durante la crescita epitassiale.

2. Perché utilizzare supporti per wafer in grafite rivestiti in SiC per MOCVD?

R: IlRivestimento SiC CVDoffre una migliore resistenza alla corrosione, stabilità termica e durata. Aiuta anche a ridurre la contaminazione da particelle nell'epitassia ad alta temperatura.

3. Vetek Semiconductor realizza supporti per wafer personalizzati?
R: Sì. Possiamo progettare supporti personalizzati in base alla piattaforma del reattore, alle dimensioni del wafer, al layout delle tasche e ad altre esigenze di processo.