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Quindi rivestire il supporto
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Quindi rivestire il supporto

Vetek Semiconductor si concentra sulla ricerca, lo sviluppo e l'industrializzazione del rivestimento SIC CVD e del rivestimento TAC CVD. Assumendo il suscettore di rivestimento SIC come esempio, il prodotto è altamente elaborato con alta precisione, rivestimento SIC CVD denso, resistenza ad alta temperatura e forte resistenza alla corrosione. La tua richiesta su di noi è la benvenuta.

Puoi stare certo di acquistare il suscettore di rivestimento SIC dalla nostra fabbrica. Come produttore di rivestimento SIC CVD, Vetek Semiconductor desidera fornire suscettori di rivestimento SIC che è realizzato con suscettore di rivestimento di grafite e SIC ad alta purezza (sotto le 5 ppm).


In Vetek Semiconductor, siamo specializzati nella ricerca tecnologica, nello sviluppo e nella produzione, offrendo una vasta gamma di prodotti avanzati per l'industria. La nostra principale linea di prodotti include rivestimento SIC CVD+grafite ad alta purezza, suscettore rivestito SIC, quarzo a semiconduttore, rivestimento CVD TAC+grafite ad alta purezza, feltro rigido e altri materiali.

Uno dei nostri prodotti di punta è il suscettore del rivestimento SIC, sviluppato con tecnologia innovativa per soddisfare i rigorosi requisiti della produzione di wafer epitassiale. I wafer epitassiali devono esibire una distribuzione di lunghezze d'onda strette e bassi livelli di difetti superficiali, rendendo il nostro suscettore di rivestimento SIC un componente essenziale per raggiungere questi parametri cruciali.

Vantaggi del nostro suscettore di rivestimento SIC:


✔ Protezione del materiale di base: Il rivestimento SIC CVD funge da strato protettivo durante il processo epitassiale, proteggendo efficacemente il materiale di base dall'erosione e danni causati dall'ambiente esterno. Questa misura protettiva estende notevolmente la durata dell'attrezzatura.

✔ Eccellente conducibilità termica: Il nostro rivestimento CVD SIC possiede una conducibilità termica eccezionale, trasferendo in modo efficiente il calore dal materiale di base alla superficie del rivestimento. Ciò migliora l'efficienza della gestione termica durante l'epitassia, garantendo temperature operative ottimali per l'apparecchiatura.

✔ Qualità del film migliorata: Il rivestimento CVD SIC fornisce una superficie piana e uniforme, creando una base ideale per la crescita del film. Riduce i difetti risultanti da mancata corrispondenza reticolare, migliora la cristallinità e la qualità del film epitassiale e alla fine migliora le sue prestazioni e affidabilità.


Scegli il suscettore di rivestimento SIC di VETEK Semiconductor per le esigenze di produzione di wafer epitassiale e beneficia di una maggiore protezione, conducibilità termica superiore e una migliore qualità del film. Fidati delle soluzioni innovative di Vetek Semiconductor per guidare il tuo successo nel settore dei semiconduttori.

Proprietà fisiche di base del rivestimento SIC CVD:

Proprietà fisiche di base del rivestimento SIC CVD
Proprietà Valore tipico
Struttura cristallina Polycristalline della fase β FCC, principalmente (111) orientato
Densità SIC CVD 3,21 g/cm³
Durezza del rivestimento CVD SIC 2500 Vickers Durezza (500 g di carico)
Dimensione del grano 2 ~ 10 mm
Purezza chimica 99.99995%
Capacità termica 640 J · kg-1· K-1
Temperatura di sublimazione 2700 ℃
Forza di flessione 415 MPA RT 4 punti
Modulo di Young 430 GPA 4pt Bend, 1300 ℃
Conducibilità termica 300W · m-1· K-1
Espansione termica (CTE) 4,5 × 10-6K-1

Negozi di produzione di suscettori di rivestimento VETEKSEMI SIC:

SiC Coating Susceptor Production shops

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