Tubo del forno di diffusione SIC

Diagramma schematico di lavoro del tubo del forno di diffusione SIC

VETEK Semiconductor SIC Diffusione del forno Tubo ha i seguenti vantaggi del prodotto:

Eccellenti proprietà meccaniche ad alta temperatura: Il tubo del forno di diffusione SIC ha le migliori proprietà meccaniche ad alta temperatura di qualsiasi materiale ceramico noto, tra cui eccellente resistenza e resistenza al creep. Ciò lo rende particolarmente adatto per applicazioni che richiedono stabilità a lungo termine ad alte temperature.

Eccellente resistenza all'ossidazione: Il tubo fornace di diffusione SIC di VETEK Semiconductor ha un'eccellente resistenza all'ossidazione, il meglio di tutte le ceramiche non ossido. Questa proprietà garantisce stabilità e prestazioni a lungo termine in ambienti ad alta temperatura, riducendo il rischio di degrado e estendendo la vita del tubo.

● Alta resistenza alla flessione: Il tubo del forno di diffusione VETEKSEMI SIC ha una resistenza alla flessione di oltre 200 MPA, garantendo eccellenti proprietà meccaniche e integrità strutturale nelle alte condizioni di sollecitazione tipiche dei processi di produzione di semiconduttori.

● Eccellente resistenza alla corrosionee: L'inertezza chimica del tubo del forno SIC offre un'eccellente resistenza alla corrosione, rendendo questi tubi ideali per l'uso in ambienti chimici duri spesso incontrati nella lavorazione dei semiconduttori.

● Alta resistenza all'usura: I forni a tubi SIC hanno una forte resistenza all'usura, che è essenziale per mantenere la stabilità dimensionale e ridurre i requisiti di manutenzione se utilizzati per lunghi periodi di tempo in condizioni abrasive.

● Con il rivestimento CVD: La deposizione di vapore chimica a semiconduttore VETEK (CVD) SIC ha un livello di purezza superiore al 99,9995%, contenuto di impurità inferiore alle 5 ppm e impurità metalliche dannose inferiori alle 1pm. Il processo di rivestimento CVD garantisce che il tubo soddisfi i rigorosi requisiti di tenuta del vuoto di 2-3Torr, che è fondamentale per ambienti di produzione a semiconduttori ad alta precisione.

● Applicazione in forni di diffusione: Questi tubi SIC sono progettati per forni di diffusione a semiconduttore, dove svolgono un ruolo chiave in processi ad alta temperatura come il doping e l'ossidazione. Le loro proprietà materiali avanzate assicurano che possano resistere alle dure condizioni di questi processi, migliorando così l'efficienza e l'affidabilità della produzione di semiconduttori.

Vetek Semiconductor è a lungo impegnato a fornire soluzioni avanzate di tecnologia e prodotto per l'industria dei semiconduttori e supporta servizi personalizzati professionali. Scegliendo il tubo del forno SIC di diffusione SIC di Vetek Semiconductor, otterrai un prodotto con prestazioni eccellenti e alta affidabilità per soddisfare le varie esigenze della moderna produzione di semiconduttori. Speriamo sinceramente di essere il tuo partner a lungo termine in Cina.

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