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Barca wafer siic silicon in carburo
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Barca wafer siic silicon in carburo

Le barche del wafer SIC Veteksemicon sono ampiamente utilizzate nei processi critici ad alta temperatura nella produzione di semiconduttori, fungendo da vettori affidabili per i processi di ossidazione, diffusione e ricottura per circuiti integrati a base di silicio. Excel anche nel settore dei semiconduttori di terza generazione, perfettamente adatto a processi esigenti come la crescita epitassiale (EPI) e la deposizione di vapore chimico metallo-organico (MOCVD) per dispositivi di potenza SIC e GAN. Supportano anche la fabbricazione ad alta temperatura di celle solari ad alta efficienza nell'industria fotovoltaica. In attesa della tua ulteriore consultazione.

Veteksemicon SIC Wafer Boat è un trasportatore di base progettato specificamente per i processi a semiconduttore ad alta temperatura. Utilizzando la grafite isostaticamente pressata in purezza come substrato, questo prodotto utilizza la tecnologia brevettata per la deposizione di vapore chimico per formare uno strato protettivo di carburo di silicio denso e non poroso in superficie.


Questo strato combina perfettamente l'eccellente conduttività termica della grafite con l'eccezionale resistenza alla corrosione del carburo di silicio. Il rivestimento rigorosamente controllato raggiunge uno spessore di 80-120μm, resistendo efficacemente alla corrosione da varie atmosfere acide e alcaline, riducendo significativamente il rischio di contaminazione da metallo. Mantiene la stabilità strutturale e l'integrità dimensionale anche in ambienti ad alta temperatura, fornendo protezione e supporto affidabili ai wafer durante i processi critici come ossidazione, diffusione e crescita epitassiale, estendendo efficacemente la durata del wafer di più di tre volte quella delle barche di grafite convenzionali.


Ⅰ. Parametri tecnici


Progetto
Parametro
Materiale di base
Grafite ad alta purezza pressata isostaticamente
spessore del rivestimento
80-120μm (personalizzabile)
Rugosità superficiale
Fuori ≤ 0,8 μm
Aspettativa di vita media
150-200 Cicli di processo
Processo applicabile
CVD/MOCVD/Ossidazione/diffusione


Ⅱ. Vantaggi del nucleo di wafer di vetekemicon siic



  • Eccellente resistenza alla corrosione


Il rivestimento SIC sulla barca del wafer di Veteksemicon viene depositato utilizzando il nostro processo CVD ad alta temperatura proprietario, risultando in una struttura densa e uniforme completamente priva di pori e crepe. Questa barriera solida isola efficacemente i wafer dall'ambiente del forno. Forti atmosfere ossidanti, composti fluorurati e altri gas corrosivi sono impermeabili a questo strato protettivo. Ciò significa che i tuoi wafer sono protetti dalla contaminazione, mentre la stessa barca rimane intatta attraverso ripetuti processi estremi, estendendo significativamente la sua durata di servizio.



  • Materiali di purezza ultra-alta


Comprendiamo che anche la minima contaminazione può rendere inutile un intero lotto di wafer. Pertanto, Veteksemicon controlla rigorosamente le materie prime, utilizzando la grafite pressata isostaticamente con una purezza superiore al 99,9995% come substrato. Il rivestimento SIC depositato su questo substrato raggiunge anche la purezza del 99,999%, con impurità critiche come sodio, potassio, ferro e metalli pesanti mantenuti a livelli estremamente bassi (PPB). Questa purezza quasi intrinsica garantisce che non i contaminanti vengano rilasciati ad alte temperature, eliminando fondamentalmente il rischio di degrado delle prestazioni del dispositivo a causa di problemi relativi al vettore.



  • Eccellente stabilità termica


La produzione di semiconduttori richiede processi termici estremamente coerenti. Il coefficiente di espansione termica di Veteksemicon Wafer Boat è meticolosamente progettato per abbinare attentamente quello dei wafer di silicio. Durante il rapido riscaldamento e raffreddamento, la barca e il wafer si muovono in sincronizzazione, riducendo significativamente il rischio di difetti reticolari e deformazione causati dallo stress termico. Può resistere a temperature operative continue fino a 1600 ℃, mantenendo un'eccellente resistenza meccanica e stabilità dimensionale anche a queste alte temperature. Ciò garantisce la ripetibilità e l'affidabilità in ogni processo di processo, fornendo solide basi per il controllo della tolleranza nella produzione di chip.



  • Resistenza meccanica duratura


Il valore dei nostri prodotti sta non solo nell'investimento iniziale, ma anche nel costo di proprietà a lungo termine. Rispetto ai tradizionali componenti di quarzo o grafite, le barche Wafer SIC Veteksemicon offrono un'eccezionale resistenza all'usura e all'impatto. La loro alta durezza superficiale resiste a graffi e detriti durante la manipolazione e la pulizia. Questa tenacità consente loro di resistere facilmente a oltre 200 cicli di processo ad alta temperatura e procedure di pulizia necessarie, riducendo significativamente i costi di approvvigionamento, i costi di inventario e i tempi di inattività delle apparecchiature associati alla sostituzione frequente dei componenti.



  • Approvazione della verifica della catena ecologica


La verifica della catena ecologica di Veteksemicon SIC Wafer Boat copre le materie prime alla produzione, ha superato la certificazione standard internazionale e ha una serie di tecnologie brevettate per garantirne l'affidabilità e la sostenibilità nei semiconduttori e nei nuovi campi energetici.


Ⅲ. Campi di applicazione principali


Direzione dell'applicazione
Scenario tipico
Produzione di dispositivi di alimentazione
Crescita epitassiale SIC e GAN
Produzione di circuiti integrati
Processo di ossidazione e diffusione ad alta temperatura
Industria fotovoltaica
Ricottura a cella solare


Per specifiche tecniche dettagliate, documenti bianchi o accordi di test dei campioni, contattare il nostro team di supporto tecnico per esplorare come Veteksemicon può migliorare l'efficienza del processo.


Veteksemicon products Warehouse

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