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Grafite speciale

VeTek Semiconductor fornisce grafite speciale come grafite siliconata, carbonio pirolitico, grafite porosa, rivestimento in carbonio vetroso, foglio di grafite ad alta purezza e grafite isostatica ad alta purezza sono diversi tipi di materiali speciali in grafite che condividono caratteristiche e applicazioni comuni. Ecco una breve introduzione alle loro caratteristiche e applicazioni:


Grafite siliconata: La grafite siliconata è uno speciale materiale di grafite formato combinando grafite con composti di silicio. Presenta un'eccellente resistenza alle alte temperature, resistenza alla corrosione e proprietà meccaniche. La grafite siliconata è comunemente utilizzata nei forni ad alta temperatura, nelle apparecchiature resistenti alla corrosione e nella produzione di semiconduttori.

Carbone pirolitico: Il carbonio pirolitico è un materiale di carbonio ottenuto dalla pirolisi ad alta temperatura di sostanze organiche come carbone e coke di petrolio. Vanta elevata purezza, densità, resistenza e bassa conduttività elettrica. Il carbonio pirolitico trova ampie applicazioni come materiali ad alta temperatura e componenti strutturali nei semiconduttori, nelle apparecchiature chimiche, nell'aerospaziale e in altri campi.

Grafite porosa: La grafite porosa è uno speciale materiale di grafite con strutture micro e mesoporose. Possiede un'ampia superficie specifica e porosità, offrendo eccellenti proprietà di adsorbimento e conduttività termica. La grafite porosa è comunemente utilizzata nella separazione del gas, nella crescita dei cristalli SiC e in altre applicazioni.

Rivestimento in carbonio vetroso: Il rivestimento in carbonio vetroso si riferisce alla tecnica di applicazione di materiale in carbonio vetroso come rivestimento superficiale. Presenta un'eccezionale resistenza alla corrosione, resistenza all'usura e conduttività elettrica. I rivestimenti in carbonio vetroso sono spesso utilizzati nei rivestimenti resistenti alla corrosione, nei materiali di rivestimento per le pistole E-Beam e in altri campi dei semiconduttori.

Grafite isostatica ad elevata purezza: La grafite isostatica ad alta purezza è un materiale di grafite speciale ad alta purezza preparato attraverso un processo di pressatura isostatica ad alta temperatura. Presenta una microstruttura uniforme, un'alta densità e un basso contenuto di ossigeno. La grafite isostatica ad elevata purezza è ampiamente utilizzata nella lavorazione meccanica di precisione, nei materiali di dissipazione del calore, nella produzione di semiconduttori, nel fotovoltaico, nell'aerospaziale e in altri settori.


La carta in grafite ad elevata purezza è un materiale specializzato utilizzato nell'industria dei semiconduttori. Grazie alla sua eccezionale conduttività termica ed elettrica, svolge un ruolo fondamentale in applicazioni quali dissipatori di calore, materiali di interfaccia termica e isolamento elettrico. La natura leggera e flessibile della carta in grafite ad elevata purezza la rende ideale per migliorare la gestione termica e ottimizzare le prestazioni dei dispositivi a semiconduttore. La sua elevata purezza (impurità inferiore a 5 ppm) garantisce un funzionamento affidabile ed efficiente, rendendolo un componente prezioso nella produzione e nell'assemblaggio di semiconduttori.


Questi speciali materiali in grafite offrono proprietà uniche e vantaggi applicativi nei rispettivi campi. Svolgono un ruolo fondamentale negli ambienti ad alta temperatura, nella resistenza alla corrosione, nell'elettronica, nell'energia, nell'ingegneria chimica, nell'industria aerospaziale e dei semiconduttori, fornendo un supporto essenziale per i progressi e le innovazioni in questi settori.



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