Anelli di guida per rivestimento TAC

Funzione degli anelli di guida per rivestimento TAC:

Controllo del flusso di gas preciso: ILAnello della guida del rivestimento TACè strategicamente posizionato all'interno del sistema di iniezione di gas delReattore MOCVD. La sua funzione principale è quella di dirigere il flusso di gas precursori e garantire la loro distribuzione uniforme attraverso la superficie del wafer del substrato. Questo preciso controllo sulla dinamica del flusso di gas è essenziale per raggiungere la crescita uniforme dello strato epitassiale e le proprietà del materiale desiderate.

Gestione termica: Gli anelli della guida al rivestimento TAC spesso operano a temperature elevate a causa della loro vicinanza al suscettore e al substrato riscaldati. L'eccellente conduttività termica di TAC aiuta a dissipare il calore in modo efficace, prevenendo il surriscaldamento localizzato e mantenendo un profilo di temperatura stabile all'interno della zona di reazione.

Vantaggi di TAC in MOCVD:

Resistenza alla temperatura estrema: TAC vanta uno dei punti di fusione più alti tra tutti i materiali, superiori a 3800 ° C.

Eccezionale inerzia chimica: TAC presenta una resistenza eccezionale alla corrosione e all'attacco chimico dai gas precursori reattivi utilizzati nel MOCVD, come ammoniaca, silano e vari composti metalli-organici.

Proprietà fisiche diRivestimento TAC:

Vantaggi per le prestazioni MOCVD:

L'uso dell'anello di rivestimento TAC a semiconduttore Vetek nelle apparecchiature MOCVD contribuisce in modo significativo a:

Aumento del tempo di attività dell'attrezzatura: La durata e la durata estesa della Guida del rivestimento TAC riducono la necessità di frequenti sostituti, minimizzando i tempi di inattività di manutenzione e massimizzando l'efficienza operativa del sistema MOCVD.

Stabilità del processo migliorata: La stabilità termica e l'inertezza chimica di TAC contribuiscono a un ambiente di reazione più stabile e controllato all'interno della camera del MOCVD, minimizzando le variazioni di processo e migliorando la riproducibilità.

Uniformità dello strato epitassiale migliorato: Controllo preciso del flusso di gas facilitato dagli anelli Guida al rivestimento TAC garantisce la distribuzione del precursore uniforme, con conseguente altamente uniformeCrescita dello strato epitassialecon spessore e composizione coerenti.

Rivestimento in carburo di tantalum (TAC)su una sezione microscopica: