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Fornace di ossidazione e diffusione

I forni di ossidazione e diffusione sono utilizzati in vari campi come dispositivi a semiconduttore, dispositivi discreti, dispositivi optoelettronici, dispositivi elettronici di potenza, celle solari e produzione di circuiti integrati su larga scala. Sono utilizzati per processi tra cui diffusione, ossidazione, ricottura, lega e sinterizzazione dei wafer.


Vetek Semiconductor è un produttore leader specializzato nella produzione di componenti di grafite di silicio, carburo di silicio e quarzo nei forni di ossidazione e diffusione. Ci impegniamo a fornire componenti del forno di alta qualità per le industrie di semiconduttore e fotovoltaiche e siamo in prima linea nella tecnologia di rivestimento superficiale, come CVD-SIC, CVD-TAC, pirocarbonio, ecc.


I vantaggi dei componenti in carburo di silicio a semiconduttore Vetek:

● Resistenza ad alta temperatura (fino a 1600 ℃)

● Eccellente conducibilità termica e stabilità termica

● Buona resistenza alla corrosione chimica

● basso coefficiente di espansione termica

● Alta resistenza e durezza

● Lunga durata di servizio


Nei forni di ossidazione e diffusione, a causa della presenza di gas ad alta temperatura e di gas corrosivi, molti componenti richiedono l'uso di materiali ad alta temperatura e resistenti alla corrosione, tra cui il carburo di silicio (SIC) è una scelta comunemente usata. I seguenti sono componenti comuni in carburo di silicio presenti nei forni di ossidazione e nei forni di diffusione:



● Boat wafer

La barca da wafer in carburo di silicio è un contenitore usato per trasportare wafer di silicio, che può resistere a temperature elevate e non reagiranno con wafer di silicio.


● Tubo del forno

Il tubo del forno è il componente centrale del forno di diffusione, utilizzato per ospitare wafer di silicio e controllare l'ambiente di reazione. Le provette da forno in carburo di silicio hanno eccellenti prestazioni di resistenza ad alta temperatura e di corrosione.


● Piatta per deflettore

Utilizzato per regolare il flusso d'aria e la distribuzione della temperatura all'interno del forno


● Tubo di protezione della termocoppia

Utilizzato per proteggere le termocoppie di misurazione della temperatura dal contatto diretto con gas corrosivi.


● Paggine a sbalzo

Le pagaie a sbalzo in carburo di silicio sono resistenti alle alte temperature e alla corrosione e vengono utilizzate per trasportare barche di silicio o barche di quarzo che trasportano wafer di silicio nei tubi del forno di diffusione.


● Iniettore a gas

Utilizzato per introdurre gas di reazione nel forno, deve essere resistente ad alta temperatura e corrosione.


● Carriera da barca

Il vettore di barche per wafer in carburo di silicio viene utilizzato per fissare e supportare i wafer di silicio, che presentano vantaggi come alta resistenza, resistenza alla corrosione e buona stabilità strutturale.


● Porta della fornace

I rivestimenti o i componenti in carburo di silicio possono anche essere utilizzati all'interno della porta della fornace.


● Elemento di riscaldamento

Gli elementi di riscaldamento in carburo di silicio sono adatti a temperature elevate, elevata potenza e possono aumentare rapidamente le temperature a oltre 1000 ℃.


● Liner SIC

Utilizzato per proteggere la parete interna dei tubi del forno, può aiutare a ridurre la perdita di energia termica e resistere a ambienti duri come alta temperatura e alta pressione.

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Tubo del forno di diffusione SIC

Tubo del forno di diffusione SIC

Come produttore leader e fornitore di attrezzature per il forno di diffusione in Cina, il tubo del forno a semiconduttore Vetek SIC ha una resistenza di flessione significativamente elevata, un'eccellente resistenza all'ossidazione, resistenza alla corrosione, elevata resistenza all'usura e eccellenti proprietà meccaniche ad alta temperatura. Rendendolo un materiale di attrezzatura indispensabile nelle applicazioni del forno di diffusione. Vetek Semiconductor è impegnato nella produzione e nella fornitura di tubo di fornace di diffusione SIC di alta qualità e accoglie le tue ulteriori indagini.
Porta-barca per wafer SiC ad elevata purezza

Porta-barca per wafer SiC ad elevata purezza

Vetek Semiconductor offre vettore di barche Wafer SIC ad alta purezza personalizzata. Realizzato in carburo di silicio ad alta purezza, presenta slot per tenere il wafer in posizione, impedendolo di scivolare durante la lavorazione. Il rivestimento SIC CVD è anche disponibile se necessario. Come produttore e fornitore di semiconduttori professionisti e forti, il vettore di barche per wafer SiC ad alta purezza di Vetek Semiconductor è competitivo e di alta qualità. Vetek Semiconductor non vede l'ora di essere il tuo partner a lungo termine in Cina.
Paddle ad alta purezza SIC a sballo

Paddle ad alta purezza SIC a sballo

Vetek Semiconductor è un produttore leader e fornitore del prodotto a paddle SIC ad alta purezza in Cina. Le pagaie ad alta purezza SIC Sic sono comunemente usate nei forni di diffusione a semiconduttore come piattaforme di trasferimento di wafer o di carico.
Barca e piedistallo della colonna verticale

Barca e piedistallo della colonna verticale

La barca e il piedistallo della colonna verticale del semiconduttore di Vetek è realizzata in materiali in ceramica in ceramica di carbonio (SIC) di alta purezza o silicio, con eccellente resistenza ad alta temperatura, stabilità chimica e resistenza meccanica, ed è un componente core indispensabile nel processo di produzione semiconduttore. Benvenuti alla tua ulteriore consultazione.
Barca da wafer contigua

Barca da wafer contigua

Vetek Semiconductor Contiguo Wafer Boat è un'attrezzatura avanzata per l'elaborazione dei semiconduttori. La struttura del prodotto è attentamente progettata per garantire un'elaborazione efficiente e la produzione di wafer di precisione. Veteksemi supporta soluzioni di prodotto personalizzate e attende con impazienza la tua consultazione.
Trasportatore di wafer siic orizzontale

Trasportatore di wafer siic orizzontale

Vetek Semiconductor è un produttore professionista e fornitore di anelli guida rivestiti TAC, vettore di wafer SiC orizzontale e suscettori rivestiti SIC in Cina. Ci impegniamo a fornire un supporto tecnico perfetto e soluzioni di prodotto definitive per l'industria dei semiconduttori. Benvenuti a contattarci.

Shop high-performance Oxidation and Diffusion Furnace components at Veteksemicon—your trusted source for SiC-based thermal process solutions.


Veteksemicon supplies premium-grade silicon carbide (SiC) components designed specifically for oxidation and diffusion furnace systems in semiconductor manufacturing. These SiC parts exhibit excellent thermal shock resistance, high mechanical strength, and long-term dimensional stability in ultra-high-temperature and oxidizing environments. Ideal for process temperatures exceeding 1200°C, they are widely used in atmospheric and low-pressure diffusion systems, oxidation furnaces, and vertical thermal reactors.


Our product portfolio includes SiC cantilevers, boats, support rods, and tube liners, all engineered for precise wafer positioning and minimal particle contamination. The low thermal expansion coefficient of SiC helps maintain alignment across thermal cycles, while its chemical inertness ensures compatibility with O₂, N₂, H₂, and dopant gases. Whether for dry oxidation or dopant diffusion (e.g., phosphorus or boron), Veteksemicon’s diffusion furnace solutions enhance process stability, extend maintenance intervals, and support 200mm/300mm wafer formats.


For technical drawings, material datasheets, or quotation support, please visit Veteksemicon’s Oxidation and Diffusion Furnace product page or contact our application engineers.


Come produttore e fornitore professionista Fornace di ossidazione e diffusione in Cina, abbiamo la nostra fabbrica. Sia che tu abbia bisogno di servizi personalizzati per soddisfare le esigenze specifiche della propria regione o desideri acquistare avanzati e durevoli Fornace di ossidazione e diffusione realizzati in Cina, puoi lasciarci un messaggio.
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