Fornace di ossidazione e diffusione

I forni di ossidazione e diffusione sono utilizzati in vari campi come dispositivi a semiconduttore, dispositivi discreti, dispositivi optoelettronici, dispositivi elettronici di potenza, celle solari e produzione di circuiti integrati su larga scala. Sono utilizzati per processi tra cui diffusione, ossidazione, ricottura, lega e sinterizzazione dei wafer.

Vetek Semiconductor è un produttore leader specializzato nella produzione di componenti di grafite di silicio, carburo di silicio e quarzo nei forni di ossidazione e diffusione. Ci impegniamo a fornire componenti del forno di alta qualità per le industrie di semiconduttore e fotovoltaiche e siamo in prima linea nella tecnologia di rivestimento superficiale, come CVD-SIC, CVD-TAC, pirocarbonio, ecc.

I vantaggi dei componenti in carburo di silicio a semiconduttore Vetek:

● Resistenza ad alta temperatura (fino a 1600 ℃)

● Eccellente conducibilità termica e stabilità termica

● Buona resistenza alla corrosione chimica

● basso coefficiente di espansione termica

● Alta resistenza e durezza

● Lunga durata di servizio

Nei forni di ossidazione e diffusione, a causa della presenza di gas ad alta temperatura e di gas corrosivi, molti componenti richiedono l'uso di materiali ad alta temperatura e resistenti alla corrosione, tra cui il carburo di silicio (SIC) è una scelta comunemente usata. I seguenti sono componenti comuni in carburo di silicio presenti nei forni di ossidazione e nei forni di diffusione:

● Boat wafer

La barca da wafer in carburo di silicio è un contenitore usato per trasportare wafer di silicio, che può resistere a temperature elevate e non reagiranno con wafer di silicio.

● Tubo del forno

Il tubo del forno è il componente centrale del forno di diffusione, utilizzato per ospitare wafer di silicio e controllare l'ambiente di reazione. Le provette da forno in carburo di silicio hanno eccellenti prestazioni di resistenza ad alta temperatura e di corrosione.

● Piatta per deflettore

Utilizzato per regolare il flusso d'aria e la distribuzione della temperatura all'interno del forno

● Tubo di protezione della termocoppia

Utilizzato per proteggere le termocoppie di misurazione della temperatura dal contatto diretto con gas corrosivi.

● Paggine a sbalzo

Le pagaie a sbalzo in carburo di silicio sono resistenti alle alte temperature e alla corrosione e vengono utilizzate per trasportare barche di silicio o barche di quarzo che trasportano wafer di silicio nei tubi del forno di diffusione.

● Iniettore a gas

Utilizzato per introdurre gas di reazione nel forno, deve essere resistente ad alta temperatura e corrosione.

● Carriera da barca

Il vettore di barche per wafer in carburo di silicio viene utilizzato per fissare e supportare i wafer di silicio, che presentano vantaggi come alta resistenza, resistenza alla corrosione e buona stabilità strutturale.

● Porta della fornace

I rivestimenti o i componenti in carburo di silicio possono anche essere utilizzati all'interno della porta della fornace.

● Elemento di riscaldamento

Gli elementi di riscaldamento in carburo di silicio sono adatti a temperature elevate, elevata potenza e possono aumentare rapidamente le temperature a oltre 1000 ℃.

● Liner SIC

Utilizzato per proteggere la parete interna dei tubi del forno, può aiutare a ridurre la perdita di energia termica e resistere a ambienti duri come alta temperatura e alta pressione.

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Barca per wafer ceramici in carburo di silicio

VeTek Semiconductor è specializzata nella fornitura di imbarcazioni per wafer, piedistalli e supporti per wafer personalizzati di alta qualità in configurazioni verticali/a colonna e orizzontali per soddisfare vari requisiti di processo dei semiconduttori. In qualità di produttore e fornitore leader di pellicole di rivestimento in carburo di silicio, i nostri wafer ceramici in carburo di silicio sono apprezzati dai mercati europeo e americano per il loro elevato rapporto costo-efficacia e l'eccellente qualità, e sono ampiamente utilizzati nei processi avanzati di produzione di semiconduttori. VeTek Semiconductor si impegna a stabilire rapporti di cooperazione stabili e a lungo termine con clienti globali e spera in particolare di diventare il vostro partner affidabile per i processi di semiconduttori in Cina.

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Paletta a sbalzo in carburo di silicio (SiC).

Il ruolo della paletta a sbalzo di silicio (SIC) nel settore dei semiconduttori è sostenere e trasportare wafer. Nei processi ad alta temperatura come diffusione e ossidazione, la paletta SIC a sbalzo può trasportare stabilmente barche e wafer senza deformazione o danno a causa di alta temperatura, garantendo il regolare progresso del processo. Rendere più uniforme la diffusione, l'ossidazione e altri processi è fondamentale per migliorare la coerenza e la resa dell'elaborazione del wafer. Vetek Semiconductor utilizza una tecnologia avanzata per costruire paddle SIC a sbalzo con carburo di silicio di alta purezza per garantire che i wafer non siano contaminati. Vetek Semiconductor attende con impazienza la cooperazione a lungo termine con te sui prodotti a paletta a sbalzo di silicio (SIC).

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QUARTZ CROGLIBILE

VeTek Semiconductor è un fornitore e produttore leader di crogioli al quarzo in Cina. i crogioli in quarzo di nostra produzione vengono utilizzati principalmente nel settore dei semiconduttori e nel fotovoltaico. Hanno le proprietà di pulizia e resistenza alle alte temperature. Inoltre, i nostri crogioli al quarzo per semiconduttori supportano i processi di produzione di estrazione delle barre di silicio, carico e scarico di materie prime in polisilicio nel processo di produzione di wafer di silicio semiconduttore e sono materiali di consumo chiave per la produzione di wafer di silicio. VeTek Semiconductor non vede l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.

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Supporto per wafer in carburo di silicio

In qualità di fornitore professionale di trasportatori per wafer in carburo di silicio in Cina, il trasportatore per wafer SiC di VeTek Semiconductor è uno strumento appositamente utilizzato per la gestione e la lavorazione dei wafer a semiconduttore, che svolge un ruolo insostituibile nel processo dei wafer a semiconduttore. Benvenuti alla vostra ulteriore consultazione.

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Piedistallo in silicone

Il piedistallo di silicio a semiconduttore Vetek è un componente chiave nei processi di diffusione e ossidazione dei semiconduttori. Come piattaforma dedicata per il trasporto di barche di silicio in forni ad alta temperatura, il piedistallo di silicio presenta molti vantaggi unici, tra cui una migliore uniformità della temperatura, una qualità del wafer ottimizzata e prestazioni migliorate di dispositivi a semiconduttore. Per ulteriori informazioni sul prodotto, non esitare a contattarci.

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Anello di tenuta in ceramica sic

Come fabbrica su larga scala e fornitore di prodotti di anello di tenuta in ceramica SIC in Cina, l'anello di tenuta in ceramica SIC Vetek ha una vasta gamma di applicazioni nel campo industriale grazie alla sua eccellente conducibilità termica, alla resistenza chimica e alla corrosione eccezionale e ad alta resistenza e rigidità. Benvenuti le tue ulteriori richieste.

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Shop high-performance Oxidation and Diffusion Furnace components at Veteksemicon—your trusted source for SiC-based thermal process solutions.

Veteksemicon supplies premium-grade silicon carbide (SiC) components designed specifically for oxidation and diffusion furnace systems in semiconductor manufacturing. These SiC parts exhibit excellent thermal shock resistance, high mechanical strength, and long-term dimensional stability in ultra-high-temperature and oxidizing environments. Ideal for process temperatures exceeding 1200°C, they are widely used in atmospheric and low-pressure diffusion systems, oxidation furnaces, and vertical thermal reactors.

Our product portfolio includes SiC cantilevers, boats, support rods, and tube liners, all engineered for precise wafer positioning and minimal particle contamination. The low thermal expansion coefficient of SiC helps maintain alignment across thermal cycles, while its chemical inertness ensures compatibility with O₂, N₂, H₂, and dopant gases. Whether for dry oxidation or dopant diffusion (e.g., phosphorus or boron), Veteksemicon’s diffusion furnace solutions enhance process stability, extend maintenance intervals, and support 200mm/300mm wafer formats.

For technical drawings, material datasheets, or quotation support, please visit Veteksemicon’s Oxidation and Diffusion Furnace product page or contact our application engineers.

Come produttore e fornitore professionista Fornace di ossidazione e diffusione in Cina, abbiamo la nostra fabbrica. Sia che tu abbia bisogno di servizi personalizzati per soddisfare le esigenze specifiche della propria regione o desideri acquistare avanzati e durevoli Fornace di ossidazione e diffusione realizzati in Cina, puoi lasciarci un messaggio.

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