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Piedistallo in silicone
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Piedistallo in silicone

Il piedistallo di silicio a semiconduttore Vetek è un componente chiave nei processi di diffusione e ossidazione dei semiconduttori. Come piattaforma dedicata per il trasporto di barche di silicio in forni ad alta temperatura, il piedistallo di silicio presenta molti vantaggi unici, tra cui una migliore uniformità della temperatura, una qualità del wafer ottimizzata e prestazioni migliorate di dispositivi a semiconduttore. Per ulteriori informazioni sul prodotto, non esitare a contattarci.

Il suscettore di silicio a semiconduttore Vetek è un prodotto di silicio puro progettato per garantire la stabilità della temperatura nel tubo del reattore termico durante la lavorazione del wafer di silicio, migliorando così l'efficienza dell'isolamento termico. L'elaborazione del wafer di silicio è un processo estremamente preciso e la temperatura svolge un ruolo cruciale, influenzando direttamente lo spessore e l'uniformità del film di wafer di silicio.


Il piedistallo in silicio è situato nella parte inferiore del tubo del reattore termico del forno e sostiene il siliciosupporto per waferfornendo allo stesso tempo un efficace isolamento termico. Alla fine del processo si raffredda gradualmente fino a temperatura ambiente insieme al supporto del wafer di silicio.


Funzioni e benefici principali dei piedistalli di silicio a semiconduttore Vetek:

Fornire un supporto stabile per garantire l'accuratezza del processo

Il piedistallo al silicio fornisce una piattaforma di supporto stabile e altamente resistente al calore per la barca al silicio nella camera del forno ad alta temperatura. Questa stabilità può impedire effettivamente la barca al silicio di spostarsi o inclinarsi durante l'elaborazione, evitando così di influenzare l'uniformità del flusso d'aria o distruggere la distribuzione della temperatura, garantendo un'elevata precisione e coerenza del processo.


Migliora l'uniformità della temperatura nel forno e migliora la qualità del wafer

Isolando la barca al silicio dal contatto diretto con il fondo del forno o la parete, la base di silicio può ridurre la perdita di calore causata dalla conduzione, ottenendo così una distribuzione della temperatura più uniforme nel tubo di reazione termica. Questo ambiente termico uniforme è essenziale per ottenere l'uniformità della diffusione del wafer e dello strato di ossido, migliorando notevolmente la qualità generale del wafer.


Ottimizzare le prestazioni dell'isolamento termico e ridurre il consumo di energia

Le eccellenti proprietà di isolamento termico del materiale a base di silicio contribuiscono a ridurre la perdita di calore nella camera del forno, migliorando così significativamente l'efficienza energetica del processo. Questo efficiente meccanismo di gestione termica non solo accelera il ciclo di riscaldamento e raffreddamento, ma riduce anche il consumo energetico e i costi operativi, fornendo una soluzione più economica per la produzione di semiconduttori.


Specifiche del piedistallo di silicio a semiconduttore Vetek


Struttura del prodotto
Integrato, Saldatura
Tipo/doping conduttivo
Costume
Resistività
Bassa resistenza (ad esempio <0,015, <0,02...)
Resistenza moderata (ad es. 1-4)
Alta Resistenza (ES. 60-90)
Personalizzazione del cliente
Tipo materiale
Policristallo/cristallo singolo
Orientamento del cristallo
Personalizzato


Officine di produzione del piedistallo in silicone VeTek Semiconductor

Graphite epitaxial substrateSemiconductor EquipmentGraphite ring assemblySemiconductor process equipment


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