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Vetek Semiconductor offre il chuck in ceramica SIC poroso ampiamente utilizzato nella tecnologia di elaborazione dei wafer, il trasferimento e altri collegamenti, adatti a legami, scribi, patch, lucidatura e altri collegamenti, elaborazione laser. Il nostro Chuck in ceramica SIC poroso ha un adsorbimento del vuoto ultra-forte, l'alta planarità e l'alta purezza soddisfano le esigenze della maggior parte delle industrie semiconduttori.

Vetek Semiconductor è un produttore cinese professionista di silicio sul wafer isolante. Il wafer di silicio su isolante è un importante materiale a substrato a semiconduttore e le sue eccellenti caratteristiche del prodotto lo fanno svolgere un ruolo chiave nelle applicazioni ad alte prestazioni, a bassa potenza, ad alta integrazione e RF. In attesa della tua consultazione.

Il rivestimento TAC è attualmente utilizzato principalmente in processi come la crescita a cristallo singolo in carburo di silicio (metodo PVT), il disco epitassiale (incluso l'epitaxy in carburo di silicio, l'epitassia a LED), ecc. Combinato con la buona stabilità a lungo termine della piastra di rivestimento TAC, la piastra di rivestimento TAC di VETEKSEMICON è diventato il benchmark per le parti in rivestimento TAC. Non vediamo l'ora che tu diventi il ​​nostro partner a lungo termine.

Come core consumabile nel processo di produzione dei semiconduttori, la grafite porosa svolge un ruolo insostituibile in più collegamenti come crescita cristallina, doping e ricottura. Come produttore professionista di grafite porosa, Vetek Semiconductor si impegna a fornire prodotti di grafite porosi di alta qualità a prezzi competitivi, accoglie la tua ulteriore indagine.

Il suscettore GAN su SIC EPI svolge un ruolo vitale nell'elaborazione dei semiconduttori attraverso la sua eccellente conducibilità termica, capacità di elaborazione ad alta temperatura e stabilità chimica e garantisce l'elevata efficienza e la qualità del materiale del processo di crescita epitassiale del GAN. Vetek Semiconductor è un produttore professionista cinese di GAN sul suscettore SIC Epi, non vediamo l'ora di consultare l'ulteriore consultazione.

Il vettore di rivestimento CVD TAC è progettato principalmente per il processo epitassiale di produzione di semiconduttori. Il punto di fusione ultra-alto del vettore CVD TAC, l'eccellente resistenza alla corrosione e l'eccezionale stabilità termica determinano l'indispensabilità di questo prodotto nel processo epitassiale a semiconduttore. Benvenuto la tua ulteriore richiesta.