Anello di supporto rivestito in SiC

Semiconduttore VeTek, un produttore e fornitore leader con sede in Cina, è specializzato nella produzione di una gamma di prodotti tra cuiAnelli di supporto rivestito con sic, Rivestimenti in carburo di silicio CVD, rivestimenti in carburo di Tantalum, siC in massa, polveri SIC e materiali SIC di alta purezza. La nostra dedizione sta nell'offrire assistenza tecnica completa e risoluzioni ottimali del prodotto su misura per il settore dei semiconduttori. Sentiti libero di contattarci per ulteriori informazioni e assistenza.

Semiconduttore VeTek'SAnelli di supporto rivestito con sicsono una nuova generazione di materiali resistenti alle alte temperature. Come rivestimenti resistenti alla corrosione, rivestimenti resistenti all'ossidazione e rivestimenti resistenti all'usura, possono essere utilizzati in ambienti superiori a 1650 ℃ e sono ampiamente utilizzati nei campi dei semiconduttori.

Le caratteristiche di alta qualità diAnelli di supporto rivestito con sicsvolgono un ruolo molto importante nella crescita epitassiale dei componenti dei semiconduttori di terza generazione.

Mantenere l'uniformità della temperatura: Gli anelli di supporto rivestiti in SiC hanno un'eccellente conduttività termica e possono fornire una distribuzione uniforme della temperatura durante la crescita epitassiale. Ciò aiuta a ridurre i gradienti termici e le sollecitazioni sulla superficie del wafer, migliorando così la qualità dello strato epitassiale.

Stabilità chimica estrema: Durante il processo di crescita epitassiale,Anelli di supporto rivestito con sicsono in grado di resistere all'attacco chimico dei gas di reazione, allungando la vita degli anelli di supporto e mantenendo l'integrità del processo. Questa stabilità chimica aiuta a ridurre il rischio di contaminazione e a migliorare la purezza e le prestazioni dei dispositivi a semiconduttore.

Posizionamento preciso: Gli anelli di supporto rivestiti SIC sono in grado di mantenere il posizionamento preciso del wafer, che è fondamentale per raggiungere la deposizione uniforme dello strato. Questo posizionamento preciso aiuta a garantire la consistenza dello spessore e della qualità dello strato epitassiale.

Proprietà fisiche di base del rivestimento SIC CVD:

Semiconduttore commerciale:

Panoramica della catena industriale dell'epitassia dei chip semiconduttori: