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Processo di epitassia SiC

Gli esclusivi rivestimenti in carburo di VeTek Semiconductor forniscono una protezione superiore per le parti in grafite nel processo epitassia SiC per la lavorazione di materiali semiconduttori e semiconduttori compositi esigenti. Il risultato è una maggiore durata dei componenti della grafite, la preservazione della stechiometria della reazione, l'inibizione della migrazione delle impurità all'epitassia e applicazioni di crescita dei cristalli, con conseguente aumento della resa e della qualità.


I nostri rivestimenti in carburo di tantalio (TaC) proteggono i componenti critici di forni e reattori ad alte temperature (fino a 2200°C) da ammoniaca calda, idrogeno, vapori di silicio e metalli fusi. VeTek Semiconductor dispone di un'ampia gamma di funzionalità di elaborazione e misurazione della grafite per soddisfare le vostre esigenze personalizzate, quindi possiamo offrire un rivestimento a pagamento o un servizio completo, con il nostro team di ingegneri esperti pronti a progettare la soluzione giusta per voi e la vostra applicazione specifica .


Cristalli semiconduttori composti

VeTek Semiconductor può fornire rivestimenti TaC speciali per vari componenti e supporti. Attraverso il processo di rivestimento leader del settore di VeTek Semiconductor, il rivestimento TaC può ottenere elevata purezza, stabilità alle alte temperature ed elevata resistenza chimica, migliorando così la qualità del prodotto degli strati cristallini di TaC/GaN ed EPl e prolungando la durata dei componenti critici del reattore.


Isolanti termici

Componenti per la crescita dei cristalli SiC, GaN e AlN tra cui crogioli, supporti per semi, deflettori e filtri. Assemblaggi industriali tra cui elementi riscaldanti resistivi, ugelli, anelli di schermatura e dispositivi di brasatura, componenti di reattori CVD epitassiali GaN e SiC inclusi supporti wafer, vassoi satellitari, soffioni, cappucci e piedistalli, componenti MOCVD.


Scopo:

 ● Portawafer LED (diodo a emissione luminosa).

● Ricevitore ALD (semiconduttore).

● Recettore EPI (processo epitassia SiC)


Confronto tra rivestimento SiC e rivestimento TaC:

SiC TaC
Caratteristiche principali Purezza ultraelevata, eccellente resistenza al plasma Eccellente stabilità alle alte temperature (conformità al processo ad alta temperatura)
Purezza >99,9999% >99,9999%
Densità (g/cm3) 3.21 15
Durezza (kg/mm2) 2900-3300 6.7-7.2
Resistività [Ωcm] 0,1-15.000 <1
Conduttività termica (W/m-K) 200-360 22
Coefficiente di dilatazione termica(10-6/℃) 4.5-5 6.3
Applicazione Attrezzatura per semiconduttori Maschera in ceramica (anello di messa a fuoco, soffione doccia, wafer fittizio) Crescita di cristallo singolo SiC, Epi, Parti dell'attrezzatura LED UV


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Crogiolo di rivestimento CVD TaC

Crogiolo di rivestimento CVD TaC

VeTek Semiconductor è un produttore professionale e leader di prodotti per crogioli di rivestimento CVD TaC in Cina. Il crogiolo con rivestimento CVD TaC è basato sul rivestimento in tantalio carbonio (TaC). Il rivestimento in tantalio di carbonio viene ricoperto uniformemente sulla superficie del crogiolo attraverso il processo di deposizione chimica in fase vapore (CVD) per migliorarne la resistenza al calore e alla corrosione. È uno strumento materiale utilizzato appositamente in ambienti estremi ad alta temperatura. Accolga favorevolmente la vostra ulteriore consultazione.
CVD TAC Coating Wafer Carrier

CVD TAC Coating Wafer Carrier

Come produttore di prodotti e fabbrica di prodotti per venti di wafer di rivestimento CVD professionale in Cina, Vetek Semiconductor CVD TAC Coating Wafer Carrier è uno strumento di trasporto di wafer appositamente progettato per ambienti ad alta temperatura e corrosivi nella produzione di semiconduttori. e CVD TAC Coating Wafer Carrier ha un'elevata resistenza meccanica, un'eccellente resistenza alla corrosione e stabilità termica, fornendo la garanzia necessaria per la produzione di dispositivi a semiconduttore di alta qualità. Le tue ulteriori richieste sono benvenute.
Riscaldatore di rivestimento TAC

Riscaldatore di rivestimento TAC

Il riscaldatore di rivestimento TaC di VeTek Semiconductor ha un punto di fusione estremamente elevato (circa 3880°C). L'elevato punto di fusione gli consente di operare a temperature estremamente elevate, in particolare nella crescita di strati epitassiali di nitruro di gallio (GaN) nel processo di deposizione chimica da fase vapore di metallo organico (MOCVD). VeTek Semiconductor si impegna a fornire ai clienti soluzioni di prodotti personalizzati. Non vediamo l'ora di sentire la tua opinione.
Rivestimento TAC CVD

Rivestimento TAC CVD

Vetek Semiconductor è il produttore di prodotti per rivestimento TAC CVD leader in Cina. Per molti anni, ci siamo concentrati su vari prodotti di rivestimento TAC CVD come la copertura del rivestimento CVD TAC, l'anello di rivestimento CVD TAC. Vetek Semiconductor supporta servizi di prodotto personalizzati e prezzi soddisfacenti dei prodotti e attende con impazienza la tua ulteriore consultazione.
Chuck rivestito tac

Chuck rivestito tac

Con la sua resistenza ad alta temperatura, l'inertezza chimica e le prestazioni eccellenti, i manichini rivestiti TAC di Vetek Semiconductor sono progettati per forni a semiconduttori. Riteniamo che i nostri prodotti possano offrirti soluzioni avanzate di tecnologia e prodotti di qualità.
Tubo di rivestimento TaC

Tubo di rivestimento TaC

Il tubo di rivestimento TAC di Vetek Semiconductor è un componente chiave per la crescita riuscita di cristalli singoli in carburo di silicio. Con la sua resistenza ad alta temperatura, l'inertezza chimica e le prestazioni eccellenti, che garantiscono la produzione di cristalli di alta qualità con risultati costanti. Fidati delle nostre soluzioni innovative per migliorare il tuo processo di crescita dei cristalli SIC PVT e ottenere risultati eccellenti. Ben per indagare US.
Come produttore e fornitore professionista Processo di epitassia SiC in Cina, abbiamo la nostra fabbrica. Sia che tu abbia bisogno di servizi personalizzati per soddisfare le esigenze specifiche della propria regione o desideri acquistare avanzati e durevoli Processo di epitassia SiC realizzati in Cina, puoi lasciarci un messaggio.
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