Riscaldatore di rivestimento TAC

Il riscaldatore di rivestimento TaC è un elemento riscaldante ad alte prestazioni ampiamente utilizzato nei processi di produzione di semiconduttori. La sua superficie è rivestita con materiale in carburo di tantalio (TaC), che conferisce al riscaldatore un'eccellente resistenza alle alte temperature, resistenza alla corrosione chimica ed eccellente conduttività termica.

Le principali applicazioni del riscaldatore di rivestimento TaC nella produzione di semiconduttori includono:

 ✔ Durante il processo di crescita epitassiale del nitruro di gallio (GaN), il riscaldatore di rivestimento TaC fornisce un ambiente ad alta temperatura controllato con precisione per garantire che lo strato epitassiale venga depositato sul substrato a una velocità uniforme e di alta qualità. La sua emissione di calore stabile aiuta a ottenere un controllo preciso dei materiali a film sottile, migliorando così le prestazioni del dispositivo.

 ✔ Inoltre, nel processo di deposizione di vapore chimico organico metallico (MOCVD), combinato con la resistenza alle alte temperature e la conduttività termica del rivestimento TaC, il riscaldatore del rivestimento TaC viene solitamente utilizzato per riscaldare il gas di reazione e, fornendo una distribuzione uniforme del calore, favorisce la sua reazione chimica sulla superficie del substrato, migliorando così l'uniformità dello strato epitassiale e formando una pellicola di alta qualità.

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