CVD TAC rivestimento crogiolo

Il suscettore di rotazione del rivestimento TAC svolge un ruolo chiave nei processi di deposizione ad alta temperatura come CVD e MBE ed è un componente importante per l'elaborazione dei wafer nella produzione di semiconduttori. Tra loro,Rivestimento TACHa un'eccellente resistenza ad alta temperatura, resistenza alla corrosione e stabilità chimica, che garantisce un'elevata precisione e alta qualità durante la lavorazione del wafer.

Il rivestimento CVD TAC Crucible di solito è costituito dal rivestimento TAC egrafitesubstrato. Tra questi, TAC è un materiale ceramico di fusione elevato con un punto di fusione fino a 3880 ° C. Ha una durezza estremamente elevata (durezza Vickers fino a 2000 HV), resistenza alla corrosione chimica e forte resistenza all'ossidazione. Pertanto, il rivestimento TAC è un eccellente materiale resistente alla temperatura ad alta temperatura nella tecnologia di lavorazione dei semiconduttori.

Il substrato di grafite ha una buona conduttività termica (la conducibilità termica è di circa 21 W/m · K) e un'eccellente stabilità meccanica. Questa caratteristica determina che la grafite diventa un rivestimento idealesubstrato.

CVD TAC Coating Crucible è utilizzato principalmente nelle seguenti tecnologie di elaborazione dei semiconduttori:

Manufattura di wafer: VETEK Semiconductor CVD TAC Coating Crucible ha un'eccellente resistenza ad alta temperatura (punto di fusione fino a 3880 ° C) e resistenza alla corrosione, quindi viene spesso utilizzato nei processi di produzione di wafer chiave come la deposizione di vapore ad alta temperatura (CVD) e la crescita epitassiale. In combinazione con l'eccellente stabilità strutturale del prodotto in ambienti di temperatura ultra-alta, garantisce che l'attrezzatura possa funzionare stabilmente per lungo tempo in condizioni estremamente difficili, migliorando così efficacemente l'efficienza della produzione e la qualità dei wafer.

Processo di crescita epitassiale: In processi epitassiali comedeposizione di vapore chimico (CVD)e l'epitassia del raggio molecolare (MBE), il rivestimento CVD TAC gioca un ruolo chiave nel trasporto. Il suo rivestimento TAC non può solo mantenere l'elevata purezza del materiale a temperatura estrema e atmosfera corrosiva, ma anche impedire efficacemente la contaminazione dei reagenti sul materiale e la corrosione del reattore, garantendo l'accuratezza del processo di produzione e della coerenza del prodotto.

Come principale produttore e leader del CVD CVD del CVD in Cina, Vetek Semiconductor può fornire prodotti e servizi tecnici personalizzati in base alle tue attrezzature e ai requisiti di processo. Speriamo sinceramente di diventare il tuo partner a lungo termine in Cina.

Rivestimento in carburo di tantalum (TAC) su una sezione microscopica：

Proprietà fisiche del rivestimento TAC：

Semiconduttore CVD TAC Coating Crucible Shops ：