Rivestimento in carburo di silicio

VeTek Semiconductor è specializzata nella produzione di prodotti di rivestimento in carburo di silicio ultra puri, questi rivestimenti sono progettati per essere applicati a grafite purificata, ceramica e componenti metallici refrattari.

I nostri rivestimenti ad elevata purezza sono destinati principalmente all'uso nei settori dei semiconduttori e dell'elettronica. Fungono da strato protettivo per supporti wafer, suscettori ed elementi riscaldanti, proteggendoli dagli ambienti corrosivi e reattivi incontrati in processi come MOCVD ed EPI. Questi processi sono parte integrante della lavorazione dei wafer e della produzione dei dispositivi. Inoltre, i nostri rivestimenti sono particolarmente adatti per applicazioni in forni a vuoto e riscaldamento di campioni, dove si incontrano ambienti ad alto vuoto, reattivi e con ossigeno.

Noi di VeTek Semiconductor offriamo una soluzione completa con le nostre capacità avanzate di officina meccanica. Ciò ci consente di produrre i componenti di base utilizzando grafite, ceramica o metalli refrattari e di applicare internamente i rivestimenti ceramici SiC o TaC. Forniamo anche servizi di rivestimento per le parti fornite dai clienti, garantendo flessibilità per soddisfare le diverse esigenze.

I nostri prodotti di rivestimento in carburo di silicio sono ampiamente utilizzati nell'epitassia Si, epitassia SiC, sistema MOCVD, processo RTP/RTA, processo di incisione, processo di incisione ICP/PSS, processo di vari tipi di LED, inclusi LED blu e verde, LED UV e UV profondo LED ecc., adattato alle apparecchiature LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI e così via.

Parti del reattore che possiamo realizzare:

Il rivestimento in carburo di silicio offre diversi vantaggi esclusivi:

Silicon Carbide Coating several unique advantages

Parametro del rivestimento in carburo di silicio di VeTek Semiconductor

Proprietà fisiche di base del rivestimento SiC CVD
Proprietà	Valore tipico
Struttura cristallina	FCC fase β policristallina, prevalentemente orientata (111).
Densità del rivestimento SiC	3,21 g/cm³
Rivestimento SiCDurezza	Durezza 2500 Vickers (carico 500 g)
Granulometria	2~10μm
Purezza chimica	99,99995%
Capacità termica	640 J·kg^-1·K^-1
Temperatura di sublimazione	2700 ℃
Resistenza alla flessione	415 MPa RT a 4 punti
Modulo di Young	Curvatura 4 punti 430 Gpa, 1300 ℃
Conducibilità termica	300W·m^-1·K^-1
Dilatazione termica (CTE)	4,5×10-6K^-1

STRUTTURA CRISTALLINA DEL FILM CVD SIC

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE

Suscettore Epi rivestito in carburo di silicio Supporto per wafer con rivestimento SiC Copertura satellitare rivestita in SiC per MOCVD Suscettore Epi wafer con rivestimento CVD SiC Elemento riscaldante con rivestimento CVD SiC Porta wafer satellitare Aixtron Ricevitore Epi con rivestimento SiC Parti in grafite a mezzaluna con rivestimento in SiC

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Ald il superiore

Vetek Semiconductor è un produttore di suscettori ALD professionista cinese. Vetek ha sviluppato e prodotto congiuntamente basi planetarie ALD rivestite con SIC con produttori di sistemi ALD per soddisfare gli elevati requisiti del processo ALD. Benvenuto la tua consultazione.

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Soffitto rivestito di CVD SIC

Il soffitto rivestito SIC CVD SIC di Vetek Semiconductor ha eccellenti proprietà come la resistenza ad alta temperatura, la resistenza alla corrosione, l'elevata durezza e il coefficiente di espansione termica bassa, rendendolo una scelta ideale nel materiale nella produzione di semiconduttori. Come produttore e fornitore di soffitti con rivestimento CVD con rivestimento CVD in Cina, Vetek Semiconductor attende con impazienza la tua consultazione.

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Mocvd epi suscettore

Vetek Semiconductor è un produttore professionista di suscettore EPI a LED MOCVD in Cina. Il nostro suscettore EPI LED MOCVD è progettato per applicazioni di apparecchiature epitassiali esigenti. La sua alta conducibilità termica, stabilità chimica e durata sono fattori chiave per garantire un processo di crescita epitassiale stabile e una produzione di film a semiconduttore.

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SIC COATINA ALD SUSTCHTOR

Il suscettore ALD di rivestimento SIC è un componente di supporto specificamente utilizzato nel processo di deposizione di strati atomici (ALD). Ha un ruolo chiave nell'apparecchiatura ALD, garantendo l'uniformità e la precisione del processo di deposizione. Riteniamo che i nostri prodotti suscettori planetari ALD possano offrirti soluzioni di prodotto di alta qualità.

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Perfletto di rivestimento CVD SIC

Il deflettore del rivestimento SIC CVD di Vetek è utilizzato principalmente nell'epitassia SI. Di solito viene utilizzato con barili di estensione al silicio. Combina l'esclusiva alta temperatura e stabilità del deflettore del rivestimento SIC CVD, che migliora notevolmente la distribuzione uniforme del flusso d'aria nella produzione di semiconduttori. Riteniamo che i nostri prodotti possano offrirti una tecnologia avanzata e soluzioni di prodotto di alta qualità.

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Cilindro di grafite SIC CVD

Il cilindro di grafite SIC CVD SIC di Vetek Semiconductor è fondamentale nelle apparecchiature a semiconduttore, fungendo da scudo protettivo all'interno dei reattori per salvaguardare i componenti interni in impostazioni di alta temperatura e pressione. Si protegge efficacemente contro sostanze chimiche e calore estremo, preservando l'integrità delle attrezzature. Con un'eccezionale usura e resistenza alla corrosione, garantisce la longevità e la stabilità in ambienti impegnativi. L'utilizzo di queste coperture migliora le prestazioni del dispositivo a semiconduttore, prolunga la durata della vita e mitiga i requisiti di manutenzione e rischi di danno.

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Come produttore e fornitore professionista Rivestimento in carburo di silicio in Cina, abbiamo la nostra fabbrica. Sia che tu abbia bisogno di servizi personalizzati per soddisfare le esigenze specifiche della propria regione o desideri acquistare avanzati e durevoli Rivestimento in carburo di silicio realizzati in Cina, puoi lasciarci un messaggio.

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